硅膜厚度对SOI栅控混合管性能的影响

本文分析了ＳＯＩ（ＳｉｌｉｃｏｎｏｎＩｎｓｕｌａｔｏｒ）栅控混合管（ＧＣＨＴ）中硅膜厚度对器件短沟道效应、阈值电压、亚阈斜率、零栅压电流的影响,讨论了结构参数、工艺参数对硅膜厚度作用的影响．研究表明,与常规ＳＯＩＭＯＳ器件相比,ＳＯＩ栅控混合管具有较低的硅膜厚度灵敏度,改善了深亚微米常规ＳＯＩＭＯＳ器件由于硅膜厚度的影响而性能下降的问题,以独特的工作方式为深亚微米器件的发展提供了新思路     

高质量栅氧化层的制备及其辐照特性研究

通过大量工艺实验开发了采用低温Ｈ２－Ｏ２合成氧化方法制备薄栅氧化层的工艺技术,得到了性能优良的薄栅氧化层,对于厚度为３０ｎｍ的栅氧化层,其平均击穿电压为３０Ｖ,Ｓｉ／ＳｉＯ２界面态密度小于３．５×１０１０ｃｍ－２．该工艺现已成功地应用于薄膜全耗尽ＣＭＯＳ／ＳＯＩ工艺中．同时还开展了采用低温Ｈ２－Ｏ２薄栅氧化工艺制备的全耗尽ＣＭＯＳ／ＳＯＩ器件的抗总剂量辐照特性研究,采用低温Ｈ２－Ｏ２合成氧化方法制备的ＳＯＩ器件的抗辐照特性明显优于采用常规干氧氧化方法制备的器件,Ｈ２－Ｏ２低温氧化工艺是制备抗核加固ＣＭＯＳ     

高速SOIMOS器件及环振电路的研制

设计了一种 1 0位 50 MS/s双模式 CMOS数模转换器 .为了降低功耗 ,提出了一种修正的超前恢复电路 ,在数字图象信号输出中 ,使电路功耗降低约 30 % .电路用 1μm工艺技术实现 ,其积分线性误差为 0 .46LSB,差分线性误差为 0 .0 3LSB.到± 0 .1 %的建立时间少于 2 0 ns.该数模转换器使用 5V单电源 .在 50 MS/s时全一输入时功耗为 2 50 m W,全零输入时功耗为 2 0 m W,电路芯片面积为 1 .8mm× 2 .4mm.     

高速SOI MOS器件及环振电路的研制

采用SOI/CMOS工艺成功地研制出沟道长度为0.8μm的SOI器件和环振电路,在5V和3V电源电压时51级环振的单门延迟时间分别为82ps和281ps,速度明显高于相应的体硅电路.由于采用硅岛边缘注入技术,寄生边缘管得到较好的抑制.对沟道宽度对SOI器件特性的影响进行了讨论.实验表明SOI器件是高速和低压低功耗电路的理想选择.     

多晶硅超薄沟道薄膜晶体管研制

提出了一种新结构的低温多晶硅薄膜晶体管(poly-Si TFT).该poly-Si TFT由一超薄的沟道区和厚的源漏区组成.超薄沟道区可有效降低沟道内陷阱密度,而厚源漏区能保证良好的源漏接触和低的寄生电阻.沟道区和源漏区通过一低掺杂的交叠区相连接.该交叠区使得在较高偏置时,靠近漏端的沟道区电力线能充分发散,导致电场峰值显著降低.模拟结果显示该TFT漏电场峰值仅是常规TFT的一半.实验结果表明该TFT能获得好的电流饱和特性和高的击穿电压.而且,与常规器件相比,该TFT的通态电流增加了两倍,而最小关态电流减少了3.5倍     

谈锲而不舍地发展我国微电子产业

一、微电子产业的战略地位 微电子产业对国民经济的战略作用首先表现在当代食物链关系上,现代经济发展的数据表明,GNP每增长100～300元,需要10元左右电子工业产值和1元集成电路产值的支持。又据有关资料测算,集成电路对国民经济的贡献率远高于其他门类的产品,如以单位质量钢筋对GNP的贡献为1计算,则小汽车为5,彩电为     

加强原始创新建设集成电路产业强国

作为电子信息产品的制造大国,我国不得不面对这样一个严酷的现实:由于缺乏用原始创新造就的核心竞争力,我国的绝大部分产品的制造都在为跨国公司打工。2004年,我国电子信息产业全行业的平均利润率仅为3.8%,而美国英特尔公司一家全年利润率为32%;韩国三星半导体公司全年利润率高达50%。这就是产业强国与消费大国、加工大国的本质区别,也是我们为何要立即抓住原始创新,造就核心竞争力的根本所在。     

硅微电子技术物理极限的挑战

本文对硅微电子技术在发展过程中随着半导体器件的不断缩小和芯片集成度的不断提高，所着一系列的挑战进行了回顾和展望，并从基本物理规律，材料、工艺技术、器件、电路和系统等几个方面的其来自于基本物理极限和实际的物理限制的挑战进行了讨论，其中起地基本物理规律的基本物理极限是不可逾越的，而在实际发展过程中由于材料、结构、工艺技术及电路和系统方面的一系列具体因素产生的实际物理限制则是有可能突破的。同时还探讨了从