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1.
钛和氘化钛的电子谱特征   总被引:1,自引:0,他引:1  
在SDL-12型多功能谱仪上进行了纯钛和氘化太钛(TiD1.7)能量损失谱(ELS)和X射线光电子谱(XPS)的研究。实验发现,氘化钛的等离激元的能量增加,并且其Ti2p1/2,2p3/2能级的结合能增大。氘化钛较之纯钛其费米能级以下5-11eV出现一新的能态。以上结果表明:氘原子的电子在氘化钛中的行为类似自由电子,同时钛与氘之间发生电荷转移,电子转移的方向为Ti→D。  相似文献   
2.
表面氧污染的钛膜,其吸氢能力比清洁钛膜降低达数倍之多。在厚度d=400A,表面氧污染的钛膜上重新蒸镀,使其表面再生一层极薄的清洁钛膜。吸氢,释氢测量表明其吸氢能力得到恢复。  相似文献   
3.
在SKL-12型多功能谱仪的预处理室中,采用超高真空镀膜的方法,得到了表面清洁的钛膜。对表面清洁及有一定量氧污染的钛膜进行了吸氢、释氢实验,并用理论模型拟合实验数据。结果表明:表面氧污染使太膜吸氢能力降低,其原因在于氧原子占据了钛膜表面的吸附位置,使氢解离为原子的几率降低。  相似文献   
4.
利用X射线光电子谱仪(XPS)分析和Ar^ 刻蚀相结合的方法,分析了Ti膜表面的化学元素及相应原子的电子结合能。分析结果表明:Ti膜及膜材料样品表面有大量的C、O元素;膜表面存在从衬底扩散至Ti膜的Mo元素。对样品刻蚀后Ti2p的XPS谱进行拟合表明:Ti膜表面的Ti由TiO2(约100%)和单质Ti组成,随刻蚀时间的增加,部分TiO2还原至低价Ti;薄的薄膜表面中的Mo由单质Mo和MoO3组成,而厚的薄膜以单质Mo为主;表面C由石墨态和结合能为288.2-288.9eV的碳化物组成。  相似文献   
5.
在钼基底上蒸镀钛膜,用乙炔(C2H2)在钛膜表面引入碳污染,用X射线光电子谱和俄歇电子谱研究钛膜表面的碳的化学状态,以及表面的碳污染对钛膜吸氢能力的影响。实验发现,碳在钛表面以两种到三种化学状态存在。碳在钛表面将使钛膜的吸氢能力下降,而且不同化学状态的碳对钛膜吸氢能力的影响也不同。实验结果表明,呈TiC状态的碳是降低钛膜吸氢能力的主要因素,其原因是它使解离吸附位置减少。  相似文献   
6.
为寻求一种防止因表面污染而导致钛膜吸氢能力下降的途径,用表面分析方法检测样品表面状态,用质谱仪测量样品吸氧能力,研究了表面状态和吸氢能力的相互关系。采用在钛膜上淀积钯膜(蒸发或溅射)的方法,可使受碳、氧污染的钛膜吸氢能力得以恢复。这种钯/钛复合结构在吸氢能力上对碳、氧污染并不灵敏。对样品的近费米能级处的占有电子态密度(densityofstate,DOS)的测量证明,凡吸氢能力良好的样品,DOS呈峰形结构。具有抗污染能力的钯/钛结构,其DOS因污染而导致的变化很小,而无抗污染能力的钛膜,其峰形结构受污染作用而消失。这种峰形结构能提供氢分子解离吸附过程中所需的电子。  相似文献   
7.
表面氧污染的钛膜,其吸氢能力比清洁钛膜降低达数倍之多。在厚度d为40nm,表面氧污染的钛膜表面上,重新蒸镀一层极薄的(约1.2nm)清洁钛膜,吸氢、释氢的测量表明其吸氢能力得到恢复。另外,还对其他四块不同厚度的钛膜,在表面清洁及氧污染的条件下,分别进行了吸氢能力实验。实验结果证实:氧污染降低钛膜吸氢能力的原因是使钛膜上氢分子解离的位置减少,而不是扩散阻挡层的作用。  相似文献   
8.
应用反应速率分析方法,通过测定钛在恒容系统内和823~1 023 K范围氚化反应的P-t曲线,计算了钛氚化反应的速率常数,得到钛氚化反应的表观活化能为(155.5±3.2)kJ/mol。通过与文献比较,钛氚化反应的表观活化能明显高于钛氢化和钛氘化的表观活化能。  相似文献   
9.
在SKL-12型多功能谱仪的预处理室中,采用超高真空镀膜的方法,得到了表面清洁的钛膜。对表面清洁及表面一定量氧污染的钛膜进行了吸氢,释氢实验,并用理论模型拟合实验数据。结果表明:表面氧污染使钛膜吸氢能力降低,其原因在于氧原子占据了钛膜表面的吸附位置,使H2解离为原子的几率降低。  相似文献   
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