界面化学反应形成的纳米颗粒对有机交叉点存储器的影响

研究了有机交叉点存储器件中,有机物与电极界面化学反应形成的纳米颗粒对电学特征的影响.器件的阳极和阴极分别为氧化铟锡(ITO)导电玻璃和真空热蒸发沉积的～薄膜,有机半导体层为真空热蒸发沉积的2-amino-4,5-dicyanoimidazole(AlDcN)薄膜.通过透射电子显微镜(TEM)和X光电子能谱(XPS)测量,在AIDCN/ITO界面上发现SnOx纳米颗粒形成,并证明此纳米颗粒的形成是由于ITO中的高价氧化锡和AIDCN之间的固相反应,纳米颗粒中的Sn元素主要是从ITO表面的锡富集层中析出.研究证明了界面上纳米颗粒的形成是器件双稳态现象的关键,用这种方式制成的交叉点结构的三层有机存储器件其开关比达到107～1011.     

PAM溶液中合成核/壳结构花生状碳酸钙粒子

在聚丙烯酰胺(PAM)溶液中, 通过单一聚合物调控CaCO₃晶体生长, 制备了核/壳结构的花生状CaCO₃粒子. 采用扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)及X射线粉末衍射(XRD)对合成样品的形貌、结构进行了表征. 结果显示, 花生状CaCO₃粒子的外壳由菱形的方解石组成, 核由小粒子组成的短棒状粒子串组成, 并形成由里向外的放射性状结构, 核中间还具有较大体积的空腔. 利用分形生长机理解释了粒子放射性结构的形成, 并利用奥斯特瓦尔德熟化理论解释了核/壳结构的形成.     

阳极氧化法制备氧化铝纳米线

将Al片在较高的电压下进行阳极氧化,制备了氧化铝纳米线。其形成机制主要是多孔氧化铝膜生长的同时,其微结构单元阵列在薄膜应力作用下沿薄壁处破裂,从而生成了氧化铝纳米线。扫描电镜和透射电镜观测表明,所得产物结构外形基本一致,呈凹柱面正三棱柱形,表观直径约30～300nm,长度为几微米至数十微米。采用BET法对产物的比表面积进行测量,实验值为5.8×104m2/kg,接近于理论计算值6.2×104m2/kg。实验表明,这种氧化铝一维纳米结构材料对超小Ag和CdS纳米颗粒具有较强的吸附能力,对很难用传统的过滤和离心沉淀法去除的超小纳米颗粒(直径小于10nm)也能做到有效吸附,有望成为超级吸附与过滤材料。     

非挥发浮栅存储器用PtAu纳米颗粒单层膜的制备

将Langmuir-Blodgett（LB）膜等化学方法应用于非挥发浮栅存储器制备工艺中．采用反相微乳液方法合成的分散良好的PtAu纳米颗粒粒径约为5m,并应用LB膜方法在存储器隧穿氧化层上制备了PtAu纳米颗粒的单层膜．采用SEM对LB膜的表面形貌进行观测,研究了表面压对成膜质量的影响,结果表明在表面压为15mN／m时可获得密度为10^11cm^-2均匀分布的PtAu纳米颗粒单层二维阵列,可应用于非挥发性金属纳米颗粒浮栅存储器,并成功拓展了LB膜等化学方法的应用范围．     

软刻蚀--图形转移和微制造新工艺

“软刻蚀”是相对于微制造领域中占据主导地位的刻蚀而言的微图形转移和微制造的新方法,总的思路就是把用昂贵设备生成的微图形通过中间介质进行简便而精确的复制,提高微创作的效率,包括微接触印刷,毛细微模型,溶剂辅助的微模塑,转移微模塑,微模塑,近场光刻蚀等。这些方法工艺简单,对实验室条件要求不高,又能在曲面上进行操作,甚至可制备三维的立体图形。     

界面化学反应形成的纳米颗粒对有机交叉点存储器的影响

研究了有机交叉点存储器件中,有机物与电极界面化学反应形成的纳米颗粒对电学特征的影响. 器件的阳极和阴极分别为氧化铟锡（ITO）导电玻璃和真空热蒸发沉积的Al薄膜,有机半导体层为真空热蒸发沉积的2-amino-4,5-dicyanoimidazole (AIDCN) 薄膜. 通过透射电子显微镜（TEM）和X光电子能谱（XPS）测量,在AIDCN/ITO界面上发现SnOx纳米颗粒形成,并证明此纳米颗粒的形成是由于ITO中的高价氧化锡和AIDCN之间的固相反应,纳米颗粒中的Sn元素主要是从ITO表面的锡富集层中析出. 研究证明了界面上纳米颗粒的形成是器件双稳态现象的关键,用这种方式制成的交叉点结构的三层有机存储器件其开关比达到1E8~1E11.