无掩模激光干涉光刻技术研究

介绍了一种不用掩模的光刻技术———激光干涉光刻技术的基本原理,给出了干涉光刻技术的主要特点及一些可能的应用,并对实验系统和初步实验结果进行了分析。研究表明,激光干涉光刻具有大视场和分辨率高和视场宽等优点。     

CCD像传感器和机器人视觉

机器人在工业领域找到广泛应用之前,有几个技术问题必须提出来。主要问题包括动力学和力学、控制系统、内部模式、编程序方法、机动性、接口以及社会经济意义等。机动性是使机器人发挥最大潜力的关键一步。当前,几乎所有的机器     

今后三十年的激光应用概况

要预测像激光器之类迅速发展的技术的发展情况，三十年的确是很长的。任何人想推测激光器在一个相当长的时期内的未来发展情况，都可能是徒劳的。但是对于5~10年的时间，倒可以作出比较准确的估计。因此，这里的讨论重点在于某些应用的近期发展情况。但也对三十年内的情况做了一些预测。     

准分子激光的应用

本文介绍了准分子激光器的基本类型、主要应用领域及其与材料相互作用的机理。对准分子激光在电子工业、生物医学和材料加工方面的一些重要应用做了比较详细的论述。     

相移掩模的制作

本文阐述相移掩模技术研究中，常用的几种主要相移掩模制作方法，重点介绍了无络ＰＳＭ、Ｌｅｖｅｎｓｏｎ交替型ＰＳＭ、边级ＰＳＭ、亚分辨辅助ＰＳＭ以及激光直写制作ＰＳＭ的方法。     

用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模技术

用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模(PSM)技术主要有无铬相移掩模(CPM),交替相移掩模(APSM)、衰减相移掩模(AttPSM)和混合相移掩模技术。对这些掩模的基本原理、制作方法及性能比较进行了分析研究。研究表明,无铬相位光刻(CPL)PSM和高透AttPSM 相结合构成的混合掩模最适合用于193nmArF光刻,以产生100nm节点抗蚀剂图形。     

用银盐干板的多重图像全息存贮

本文叙述用银盐全息干板记录多重全息光栅和图像的方法、实验系统和装置，给出了实验结果，并与硫砷玻璃多重图像存贮作了比较。     

固体图像传感器稳定发展

超大规模集成电路(VLSI)技术的进展,已使十年以前认为不可能达到的高分辨率、高灵敏度和高速度固体图像传感器成为现实.     

半导体的准分子激光加工——准分子激光器为半导体加工提供了新的能力

在半导体工业的发展过程中,包括研究、探测、修正、加工和标识半导体器件,光源已经起着关键的作用。在那个进程中,准分子激光加工算是最新的一步。 一定光谱范围的非相干光源,长久以来在光刻和检验中已经起了不可估价的作用。当可以得到相干光源时,由于其高的峰值强度、高的平均功率、可控的空间特性和频谱纯度等优点,使得它们成为商业应用的明显的候选光源。     

提高象增强器灵敏度的新技术

当前的趋势是进一步提高清晰度和扩展光谱响应范围。电子成象经三十多年的不断发展和增长,在其技术基础上,有可能获得更大的发展。实用电子成象,如主动红外系统、电磁聚焦象增强器以及依靠夜空照明的被动夜视系统,经过三十年代的初期实验之后,在五十年代后期和六十年代初期开始投放市场。六十年代后期和