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1.
当前的趋势是进一步提高清晰度和扩展光谱响应范围。电子成象经三十多年的不断发展和增长,在其技术基础上,有可能获得更大的发展。实用电子成象,如主动红外系统、电磁聚焦象增强器以及依靠夜空照明的被动夜视系统,经过三十年代的初期实验之后,在五十年代后期和六十年代初期开始投放市场。六十年代后期和  相似文献   
2.
超大规模集成电路(VLSI)技术的进展,已使十年以前认为不可能达到的高分辨率、高灵敏度和高速度固体图像传感器成为现实.  相似文献   
3.
候德胜  冯伯儒 《激光杂志》1987,8(5):306-308
本文叙述用银盐全息干板记录多重全息光栅和图像的方法、实验系统和装置,给出了实验结果,并与硫砷玻璃多重图像存贮作了比较。  相似文献   
4.
介绍亚分辨图形掩模的原理,应用及具有亚分辨图形的相移掩模和传统掩模的制作方法和工艺。  相似文献   
5.
在半导体工业的发展过程中,包括研究、探测、修正、加工和标识半导体器件,光源已经起着关键的作用。在那个进程中,准分子激光加工算是最新的一步。 一定光谱范围的非相干光源,长久以来在光刻和检验中已经起了不可估价的作用。当可以得到相干光源时,由于其高的峰值强度、高的平均功率、可控的空间特性和频谱纯度等优点,使得它们成为商业应用的明显的候选光源。  相似文献   
6.
结合对1996年第17届国际光学学会会议的简介,评述了光学光刻和X射线光刻技术的发展概况。对一些相关技术,如激光等离子体X射线源、掩模、抗蚀剂、X射线光学元件和光刻装置的发展近况也做了一些介绍。  相似文献   
7.
冯伯儒  张锦  刘娟 《应用激光》2005,25(5):325-326
光学光刻技术在微细加工和集成电路(IC)制造中一直是主流技术。随着IC集成度的提高,要求越来越高的光刻分辨力,但光学光刻的分辨极限受光刻物镜数值孔径(NA)和曝光波长(λ)的限制。激光干涉光刻技术具有高分辨、大视场、无畸变、长焦深等特点,其分辨极限为λ/4,在微细加工、大屏幕显示器、微电子和光电子器件、亚波长光栅、光子晶体和纳米图形制造等领域有广阔的应用前景。阐述了激光干涉光刻技术的基本原理。提出了一种采用梯形棱镜作为波前分割元件的激光干涉光刻方法。建立了相应的曝光系统,该系统可用于双光束、三光束、四光束和五光束等多光束和多曝光干涉光刻。给出了具有点尺寸约220nm的周期图形阵列的实验结果。  相似文献   
8.
讨论了一个用于相移掩模智能设计的专家系统。这个系统包括输入输出系统,仿真系统,知识库系统,人—机接口,黑板系统。它有一个包括图形获取、预处理、模式抽取、搜索与解释、图形复合与输出等环节的工作过程。系统的软件实现运用了面向对象的表示方法。  相似文献   
9.
相移掩模的制作   总被引:2,自引:1,他引:1  
本文阐述相移掩模技术研究中,常用的几种主要相移掩模制作方法,重点介绍了无络PSM、Levenson交替型PSM、边级PSM、亚分辨辅助PSM以及激光直写制作PSM的方法。  相似文献   
10.
准分子激光的应用   总被引:2,自引:0,他引:2  
本文介绍了准分子激光器的基本类型、主要应用领域及其与材料相互作用的机理。对准分子激光在电子工业、生物医学和材料加工方面的一些重要应用做了比较详细的论述。  相似文献   
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