用光致抗蚀剂膜层制作衰减相移掩模

提出一种用光致抗蚀剂膜层制作单层结构衰减相移掩模的新方法,介绍这种方法的原理和制作工艺,并给出这种方法制作的衰减相称掩模用于准分子激光光刻实验,得到显著提高光刻分辨力的实验结果。     

用于大面积周期性图形制造的激光干涉光刻

用两束或多束相干激光束以不同的组合形式对光致抗蚀剂曝光,可在大面积范围内产生精细的二维周期性图形,这个方法特别适合于产生光电子器件和生电子器件的周期性结构。介绍激光干涉光刻的基本原理,对几种光束组合干涉方法给出了理论推导结果,并进行了计算机模拟。初步的实验结果表明,用激光干扰光刻技术产生大面积的亚微米级周期性孔、柱、锥图形是可行的。该方法不需要掩模、昂贵的光刻成像透镜、新的短波长光源和新型的抗蚀剂,提供了得到高分辨、无限焦深、大面积光刻的可能性。     

三维机器视觉

美国自动视觉协会(AVA)将机器视觉系统定义为:"通过光学非接触传感器获取物体的一幅或多幅像,处理、分析和测量所取得的图像的各种特征,解释其结果,并做出一些有用的判定,用测量来控制目标或一个过程的一种系统".在这个定义中所提到的成像通常假定是强度成像,在这里由计算机处理的图像是X和Y位置座标的函数的强度分布图.但是,机器视觉的一个全新的领域正在出现,即所谓的三维     

制作光纤光栅的相移掩模-双光束干涉曝光方法

介绍将无铬相移掩模技术和双光束干涉曝光技术用于制作纳米级图形光纤光栅的基本原 理和实验系统设计。提出一种用可移动反射镜使写入光束扫描固定在一起的相移掩模和光纤组合体制作光纤光栅的方法,既便于系统调整,增强曝光能量,又可方便制作高分辨力、长尺寸光纤光栅,无论是周期光栅,还是非周期光栅。     

激光在微电子器件制造中的应用

本文比较系统地介绍了激光在半导体微电子器件制造中的应用。对准分子激光器与光刻技术、激光图形发生,全息掩模与硅片检测、掩模缺陷激光修补与激光化学气相沉积,以及其它方面的一些激光应用作了比较详细的叙述。     

成像干涉光刻技术与离轴照明光刻技术的对比分析

作为分辨率增强技术(RET)之一，离轴照明技术（OAI）通过调整照明方式，不但能提高分辨率还能很好地改善焦深．成像干涉光刻技术(IIL)利用多次曝光分别记录物体空间频率的不同部分，极大地提高了成像质量，其中大角度倾斜照明是对OAI的扩展．从成像原理和频域范围的角度对IIL和OAI进行了理论研究、计算模拟和对比分析．结果表明，在同样条件下，IIL相对于OAI可更好地分辨细微特征．     

空间分辨率是机器视觉成功的关键

当把机器视觉能力用于任何系统时,需要考虑很多因素.其中之一就是空间分辨率,即视觉系统每个象素代表多大的物理面积.选择合适的空间分辨率是很重要的,因为它影响系统的精度、速度和成本.在选择最适用的现成系统时,分辨率要求也起着重要的作用.即使在选择视觉系统之后,用此视觉系统进行受控和实际条件下的实验也是很必要的,这样可以在分辨率、精度和速度之间找到完满的折衷方案.在本文中,作者将确定和阐述这些因素,讨论它们的相互作用,并提供系统性的方法以确定空间分辨率要求和选择具有最佳空间分辨率的系统.本文将集中讨论对准应用,缺陷探测或检查应用中分辨率的确定方法有所不同,本文将不涉及.     

非晶形砷硫硒锗薄膜用于全息存储实验研究

文叙述了砷硫硒锗非晶形材料薄膜用作全息记录介质的参数测试,分析了用不同波长记录和再现的全息系统,给出了文字资料存贮结果。     

激光在军事上的应用

如果你没有疏忽,过去的一年半里，在本刊和其他刊物中，可能你已经看到大量关于“星球大战”的空间激光系统的论述。这些激光系统能使洲际弹道导弹在它威胁欲打击的目标之前就被摧毁。     

掩模缺陷及其修补方法

本文主要叙述光掩模和中间版产生缺陷的原因、缺陷的类型及缺陷修补的一些方法和系统。