全文获取类型
收费全文 | 213篇 |
免费 | 30篇 |
国内免费 | 221篇 |
学科分类
工业技术 | 464篇 |
出版年
2023年 | 1篇 |
2022年 | 1篇 |
2021年 | 1篇 |
2019年 | 4篇 |
2018年 | 2篇 |
2017年 | 1篇 |
2016年 | 4篇 |
2015年 | 2篇 |
2014年 | 9篇 |
2013年 | 3篇 |
2012年 | 15篇 |
2011年 | 9篇 |
2010年 | 11篇 |
2009年 | 29篇 |
2008年 | 24篇 |
2007年 | 32篇 |
2006年 | 38篇 |
2005年 | 55篇 |
2004年 | 37篇 |
2003年 | 23篇 |
2002年 | 35篇 |
2001年 | 49篇 |
2000年 | 10篇 |
1999年 | 13篇 |
1998年 | 7篇 |
1997年 | 2篇 |
1996年 | 9篇 |
1995年 | 5篇 |
1994年 | 5篇 |
1993年 | 4篇 |
1992年 | 2篇 |
1991年 | 4篇 |
1990年 | 4篇 |
1989年 | 4篇 |
1988年 | 5篇 |
1987年 | 2篇 |
1986年 | 2篇 |
1985年 | 1篇 |
排序方式: 共有464条查询结果,搜索用时 15 毫秒
11.
DESIGN AND ANALYSIS OF INTEGRATED OPERATIONAL AMPLIFIER XD1531 WITH LOW NOISE AT LOW FREQUENCIES 总被引:1,自引:0,他引:1
Principles of design are described for the low frequency integrated operationalamplifler XD1531 with low noise. The procedures of design of both the circuit structure and the tran-sistor shape are considered. The first stage of the circuit is designed with the methods of low noise atlow frequencies. The measures which decrease noises, especially, the 1/f noise originating .from thesemiconductor surface state and defects, are used for the transistor structure design. With analysisand comparison to products here and abroad in characteristics, it is shown that XD1531 has a lowernoise index at low frequencies than others, and the effectiveness of design methods for bringing lownoises have been demonstrated. 相似文献
13.
集成电路多目标优化设计的一般性问题及其求解方法 总被引:3,自引:0,他引:3
郝跃 《固体电子学研究与进展》1990,(2)
本文分析了集成电路设计和制造方面的特点及参数最优化的一般性问题.分析了集成电路设计初级阶段多目标优化的必要性和必然性.从这些特点出发综合了目前在这一领域已有的工作和方法,并就多目标优化的数学方法,集成电路设计和制造的统计性规律以及多目标优化的特殊对策作了较详细的描述.同时,给出了作者在此方面的一些工作.本文的目的是通过分析和讨论,给出集成电路优化设计的特殊性以及目前存在的问题,同时看到这一研究的必要性,以明确其研究目标和方向. 相似文献
14.
采用恒定电流应力对薄栅氧化层MOS电容进行了TDDB评价实验,提出了精确测量和表征陷阱密度及累积失效率的方法.该方法根据电荷陷落的动态平衡方程,测量恒流应力下MOS电容的栅电压变化曲线和应力前后的高频C-V曲线变化求解陷阱密度.从实验中可以直接提取表征陷阱的动态参数.在此基础上,可以对器件的累积失效率进行精确的评估. 相似文献
15.
16.
基于电荷控制理论,考虑到极化效应和寄生漏源电阻的影响,建立了能精确模拟AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管直流I-V特性和小信号参数的解析模型.计算表明,自发极化和压电极化的综合作用对器件特性影响尤为显著,2V栅压下,栅长为1μm的Al0.2Ga0.8N/GaN HEMT获得的最大漏电流为1370mA/mm;降低寄生源漏电阻可以获得更高的饱和电流、跨导和截至频率.模拟结果同已有的测试结果较为吻合,该模型具有物理概念明确且算法简单的优点,适于微波器件结构和电路设计. 相似文献
17.
18.
19.
20.
利用低压MOCVD技术在蓝宝石衬底上生长了高性能的AlGaN/GaN二维电子气(2DEG)材料,室温和77K温度下的电子迁移率分别为946和2578cm2/(V*s),室温和77K温度下2DEG面密度分别为1.3×1013和1.27×1013cm-2.并利用AlGaN/GaN二维电子气材料制造出了高性能的HEMT器件,栅长为1μm,源漏间距为4μm,最大电流密度为485mA/mm(VG=1V),最大非本征跨导为170mS/mm(VG=0V),截止频率和最高振荡频率分别为6.7和24GHz. 相似文献