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11.
X射线光刻掩模后烘过程的瞬态热分析 总被引:1,自引:0,他引:1
X射线光刻掩模是下一代光刻技术(NGL)中的X射线光刻技术的关键技术难点。在电子束直写后的掩模后烘过程中,掩模表面的温度场分布及温升的均匀性是影响掩模关键尺寸(CD)控制的重要因素,如果控制不当,会造成掩模表面的光刻胶烘烤不均匀,使掩模吸收体CD分布变坏。针对电子束直写后X射线光刻掩模的后烘过程建立了热模型,并采用有限元技术进行了瞬态温度场的计算。计算结果表明:采用背面后烘方式,在达到稳态时出现高温区和低温区,最大温差为10.19℃,容易造成光刻胶局部烘烤过度,而采用正面后烘方式,掩模达到稳态的时间短,温度分布均匀,烘烤效果好。 相似文献
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关于制丝厂适煮工艺条件确定方法的研究(摘登)(续上期)五、工厂煮茧实例应用例1标准型煮茧机生产要求:减少绪丝量,提高清洁洁净,特别是减少环类。1.工厂现状(1)原料茧:春茧70%,解舒率71%;早秋茧30%,解舒率54%。(2)煮茧工艺:第一浸渍温度... 相似文献
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关于制丝厂适煮工艺条件确定方法的研究(摘登)HowtoSetTechnicalConditionsforModerateCocoonCOOKINGINfilatures(Cont.)¥YuLei;ZhangKaitai(续上期)二、煮茧工艺和缫丝成绩... 相似文献
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根据国家教育部精品视频公开课拍摄制作技术标准(2013年版),将拍摄精品视频公开课过程中前期准备策划工作、摄像机的机位设置和拍摄角度、视频后期制作等问题进行分析。 相似文献