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1.
针对高帧频、全局曝光和光谱平坦等成像应用需求,设计了一款高光谱成像用CMOS图像传感器。其光敏元采用PN型光电二极管,读出电路采用5T像素结构。采用列读出电路以及高速多通道模拟信号并行读出的设计方案来获得低像素固定图像噪声(FPN)和非均匀性抑制。芯片采用ASMC 0.35μm三层金属两层多晶硅标准CMOS工艺流片,为了抑制光电二极管的光谱干涉效应,后续进行了光谱平坦化VAE特殊工艺,并对器件的光电性能进行了测试评估。电路测试结果符合理论设计预期,成像效果良好,像素具备积分可调和全局快门功能,最终实现的像素规模为512×256,像元尺寸为30μm×30μm,最大满阱电子为400 ke^(-),FPN小于0.2%,动态范围为72 dB,帧频为450 f/s,相邻10 nm波段范围内量子效率相差小于10%,可满足高光谱成像系统对CMOS成像器件的要求。  相似文献   
2.
染料敏化纳米薄膜太阳能电池的研究进展   总被引:9,自引:0,他引:9  
本文简要地介绍了染料敏化纳米薄膜太阳能电池的结构和原理;对其中关键问题,如纳米TiO2膜、敏化染料、空穴传输材料的研究进展进行了综述。  相似文献   
3.
设计了一款高帧频高灵敏度双通道16元线列PIN-CMOS图像传感器。相对于传统的pn结光电二极管,PIN光电二极管具有结电容小和量子效率高的优点,可以降低CTIA像素电路的噪声,提高信噪比;同时采用一种新型的相关双采样电路结构,可以在边积分边读出的模式下实现相关双采样,抑制像素复位带来的KTC噪声。基于0.35μm PIN-CMOS工艺进行了线列CMOS图像传感器流片,并对器件的光电性能进行了测试。测试结果表明:在像元尺寸为90μm×90μm,700nm波长下,器件灵敏度达3000V/(lx·s),量子效率为96%;在40kHz高帧频、0.05lx光照条件下器件信噪比为7,适于弱信号下的高速探测。  相似文献   
4.
薄膜转移工艺制备的128×128规模高架桥式电阻阵   总被引:2,自引:0,他引:2       下载免费PDF全文
采用新的薄膜转移工艺,成功制备了128×128规模的高架桥式电阻阵。电阻阵的单元尺寸为50μm×50μm,占空比50%。初步测试了该高架桥电阻阵的两个基本指标,微桥的热时间常数和最高等效黑体温度,并对该电阻阵进行了成像实验。采用电学法测试单个微桥的时间常数τ约为4.5 ms,可在100Hz下工作。将整个面阵点亮,在8~12μm波段最高等效黑体温度达到250℃,推测在3~5μm波段最高等效黑体温度超过300±20℃。将整个器件全部点亮并驱动到最高温度时,器件的最大功率为30 W。该电阻阵可成功实现驱动显示成像。测试结果表明该高架桥式电阻阵初步满足红外景象产生器的要求。  相似文献   
5.
本文简要地介绍了染料敏化纳米薄膜太阳能电池的结构和原理 ;对其中关键问题 ,如纳米TiO2膜、敏化染料、空穴传输材料的研究进展进行了综述  相似文献   
6.
通过对攀钢西昌1#~2#焦炉开工投产后在热工管理中存在的问题进行了研究和探讨,并对存在的问题制定了一系列解决措施,为国内超大型捣固焦炉在热工管理方面提出一些管理经验.  相似文献   
7.
由浙江省金华市建材锰钢厂开发试制的“特种高锰钢”新产品于1992年6月8日在杭州通过鉴定。该产品是在标准型高锰钢的基础上,添加铬等合金元素,采用特殊的热处理工艺,改善  相似文献   
8.
采用氧化钒薄膜、低应力介质膜和CMOS读出电路技术,研制了单片式128×1非致冷焦平面.氧化钒薄膜的制备采用了一种新的方法,焦平面的信号读出采用了CTIA积分方式.应用一种双频PECVD技术制备了低应力氮化硅薄膜,有效改善了微桥的平整度.通过氮化硅和氧化钒薄膜自身的红外吸收,焦平面在8~14μm波段的平均响应率达到8.2×104V/W,平均D*达到2.3×108cmHz1/2/w.焦平面的均匀性需要进一步改善.  相似文献   
9.
功能梯度材料(Functionally Gradient Materials,FGM)由于其独特的性能及作为一种全新的概念已引起越来越多科学家的重视.本文简要回顾了功能梯度材料的研究发展史,对FGM的各种制备技术进行了总结,并对其在太阳能电池方面的应用进行了重点介绍.  相似文献   
10.
本文简要的介绍了湿化学太阳能电池的工作机理,对其光电转换效率的提高作了综述.并着重对染料敏化的TiO2胶粒薄膜光电极的制备及光电性能作了讨论.  相似文献   
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