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Sr0.95Ca0.05Fe12O19六角铁氧体的微波特性 总被引:2,自引:0,他引:2
采用标准陶瓷工艺,并进行湿压磁场成型和氧气氛烧结,制备了目前尚未见报道的高取向度,低介电损耗的各向异性Sr0.95Ca0.05Fe12O19多晶六角铁氧体。研究了它们的比饱和磁化强度(δs),磁晶各向异性场(H^A)同温度(T)的变化关系,并对其取向度进行了较深入的讨论。 相似文献
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超高频射频识别(UHF RFID)电子标签的低功耗设计是当前的研究热点与难点。数字基带部分的功耗占芯片总功耗的40%以上,而时钟模块的功耗约为基带部分的50%。针对此问题,设计了一种兼容EPCTM C1 G2/ISO 18000-6C协议的新型UHF RFID标签数字基带处理器。围绕时钟信号设计了新型数字基带架构,引入局部低功耗异步电路结构,并采用模块时钟的门控动态管理技术,尽可能降低功耗。该数字基带电路在FPGA上完成了功能实测,采用SMIC 0.18 μm CMOS完成了芯片级的逻辑综合及物理实现。结果表明,版图面积为0.12 mm2,平均功耗为 8.8 μW。 相似文献
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现有的大部分峰值检测VLSI都是基于基-2的树结构,性能较低,还会消耗大量的芯片资源。针对此不足,提出一种高性能多重峰值检测VLSI。该峰值检测VLSI可在大量数据中找到N个峰值,并输出峰值的坐标。采用了控制电路同构化和数据通道“Push-Pull”机制,达到简化控制电路、压缩数据通路逻辑延迟的目的。基于TSMC 90 nm CMOS工艺,对电路进行了性能评估。结果表明,在不同极值个数下,该VLSI最高频率可达1 GHz,最大面积仅为42 205 μm2。 相似文献
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为了进一步提升P-GaN栅HEMT器件的阈值电压和击穿电压,提出了一种具有P-GaN栅结合混合掺杂帽层结构的氮化镓高电子迁移率晶体管(HEMT)。新器件利用混合掺杂帽层结构,调节整体极化效应,可以进一步耗尽混合帽层下方沟道区域的二维电子气,提升阈值电压。在反向阻断状态下,混合帽层可以调节栅极右侧电场分布,改善栅边电场集中现象,提高器件的击穿电压。利用Sentaurus TCAD进行仿真,对比普通P-GaN栅增强型器件,结果显示,新型结构器件击穿电压由593 V提升至733 V,增幅达24%,阈值电压由0.509 V提升至1.323 V。 相似文献
99.
提出了一种功耗低、转换速率高且工作电压范围宽(2.5~5.5V)的高性能误差放大器。采用HSPICE对电路进行模拟,结果表明当工作电压为2.5V时,该放大器的转换速率约为29.4V/us,而静态电流低至16.6uA;在5.5V的工作电压下,放大器的转换速率可高达38.5V/us,静态电流却不超过20uA。 相似文献
100.
Zn-Ti取代的BaFe12O19铁氧体 总被引:3,自引:2,他引:1
采用标准陶瓷工艺,并进行湿压磁场成型和氧气氛烧结制备了高取向度、低介电损耗的各向异性Ba(ZnTi)xFe12-2xO19多晶六角铁氧体,随着x值增大,磁化强度减小,居里温度下降,磁晶各向异性常数减小。结果可以通过假设Zn^2+取代了四面体4f1次点阵位和六面体2b次点阵位上的FeT^3+;Ti^4+取代了自旋向上的八面体12k,2a次点阵位上的Fe63+来解释。 相似文献