60Si2Mn化学氧化的机理分析与工艺改进研究

目的 解决60Si2 Mn合金钢在化学氧化时生成的化学氧化膜颜色差异问题.方法 采用辉光放电光谱(GDS)分析不同氧化温度下制备的60Si2Mn化学氧化膜层成分及化学氧化膜的厚度,采用扫描电镜(SEM)观测氧化膜表面形貌,分析合金元素对化学氧化的影响,以及化学氧化温度对化学氧化膜厚度、成分含量及颜色的影响,改进60Si2 Mn化学氧化工艺.结果 不同化学氧化温度对60Si2 Mn化学氧化膜厚度及膜层中合金成分的含量有较大影响.不同化学氧化温度导致化学氧化膜厚度差异,化学氧化膜中合金成分Si、Mn氧化物含量差异导致60 Si2 Mn化学氧化膜颜色的差异.结论 相对于普通钢,化学氧化温度为(142±1)℃时,可以保证化学氧化膜厚度及Fe3O4含量的稳定,进而有效确保氧化膜的颜色一致性.     

离子束抛光对零件精度的改善研究

利用等离子体源离子注入(Plasma Source Ion Implantation简称PSII)原理,来进行轴类零件的抛光试验研究.被抛光轴选用的材料为GCr15.试验结果表明:该方法可以在一定程度上提高轴表面的圆度和表面粗糙度,但是对轴圆柱度的改善不明显.     

主对角线两边非对称分布的带状稀疏矩阵的压缩存储通用寻址公式

本文研究一个数据结构的问题。将文献[1]中关于m-对角n阶矩阵的元素压缩存储的寻址公式推广到非对称情况,得到了另一种新的寻址公式。并用例子验证此公式的正确性。     

沿次对角线带宽为m的稀疏矩阵压缩存储的通用寻址公式

本文属于数据结构的课题,它将文献[2]与[3]中给出的沿主对角线具有m条非零元素的稀疏矩阵压缩 存储寻址公式推广到沿次对角线分布的类似矩阵上,得到了新的寻址公式,并用例子验证了公式的正确性。     

锌镀层加速腐蚀过程的监测分析

研究了锌镀层的加速腐蚀过程并对其监测、分析,采用数值方法模拟其腐蚀变化规律,比较了几种数学模型模拟预测腐蚀过程的发展趋势.结果表明:采用数学模型d=AtBe(C/t)对试验所用加速腐蚀介质条件下的锌镀层腐蚀过程进行数值模拟更为适宜.     

气体压强对DLC薄膜微观结构及性能的影响

利用等离子体浸没离子注入与沉积设备,在7A04铝合金表面制备类金刚石薄膜,使其表面有较高的硬度和良好的耐磨损性能。分别采用拉曼光谱仪、显微硬度计、纳米划痕仪和摩擦磨损试验机对样品的微观结构、显微硬度、膜基结合力和摩擦磨损性能进行测试。研究了气体压强对薄膜微观结构、显微硬度及摩擦磨损性能的影响。结果表明:在气压为0.2Pa下制备的薄膜与基体结合力达到了26mN,具有良好的耐磨损性能;随着气压的升高,薄膜厚度增加,膜基结合力与耐磨损性能下降。     

溅射沉积技术的发展及其现状

论述了溅射沉积薄膜技术的发展历程及其目前的研究应用状况.二极溅射应用于薄膜制备,揭开了溅射沉积技术的序幕,磁控溅射促使溅射沉积技术进入实质的工业化应用,并通过控制磁控靶磁场的分布方式和增加磁控靶数量,进一步发展为非平衡磁控溅射、多靶闭合式非平衡磁控溅射等,拓宽了应用范围.射频、脉冲电源尤其是脉冲电源在溅射技术中的使用极大地延伸了溅射沉积技术的应用范围.     

热扩散处理电弧离子镀铝涂层的结构及其抗氧化性能

为了提高抗氢钢的抗高温氧化能力,采用电弧离子镀在抗氢钢上沉积Al涂层,通过高温热扩散处理,制备得铝基复合涂层。试验了不同温度对铝基复合涂层性能的影响,采用X射线光电子能谱仪（XPS）、X射线能谱仪（EDS）、X射线衍射仪（XRD）和扫描电镜（SEM）等分别测试了涂层的成分、晶体结构及表面、剖面形貌,通过高温氧化试验测试了涂层的抗高温氧化性能。结果表明： 电弧离子镀Al涂层经热扩散处理后,剖面结构为分层分布,表层为Al2O3层,700 ℃处理后的厚度约0.7 μm,为非晶态;950 ℃处理后的厚度约为2.2 μm,为α相。内层为热扩散层,700 ℃形成成分含量不同的两层热扩散层,由FeNiAl5、FeAl3、Fe4Al13及Ni2Al3等多种富铝相组成;950 ℃形成热稳定相立方体的FeAl和NiAl相。     

m条对角线的n阶对角矩阵压缩存储的通用寻址公式

本文将通常数据结构中三对角矩阵压缩存储的寻址公式推广到ｍ对角矩阵（具有ｍ条对角线的ｎ（〉ｍ）阶矩阵）的情况，得到了新的一般寻址公式。同时指出文献「２」中关于这个问题所给出的公式是错误的。并用具体例子加以说明。