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1.
2.
某石化公司催化剂厂分子筛装置交换反应罐焊缝腐蚀严重,焊缝腐蚀的部位主要集中在罐体。通过对交换罐内腐蚀介质分析和焊接件的耐蚀性评价,腐蚀原因主要是由酸性条件下Cl^-引起的晶间腐蚀和应力腐蚀开裂,并从焊缝焊接技术的改进、焊缝表面的防腐蚀处理及新交换罐的选材等几方面提出了建议性防护措施。 相似文献
3.
碱性抛光液对铜布线电特性的影响 总被引:5,自引:5,他引:0
随着互连电路的规模发展到亚微米级,互连延迟已经成为超过门延迟的重要因素。减小延迟在互连结构中是不可避免的问题。化学机械抛光是最适合在多层铜互连结构中达到平整化目的的手段。出于对整体过程的考虑,我们将考察化学机械抛光对铜晶圆片电特性的影响。在这篇文章中,我们将考察两种抛光液在化学机械抛光中的影响,一种抛光液是酸性抛光液,来自于SVTC,另一种是碱性抛光液,由河北工业大学提供的。着重考察了三个方面的特性,电阻,电容和漏电流。电阻测试结果显示,河北工业大学提供的抛光液抛光后,电阻更小。而被两种抛光液抛光后的电容则相差不多,电容值分别为1.2 E-10F 和1.0 E-10F。同样,河北工业大学提供的抛光液抛光后的漏电流是1.0E-11A,低于SVTC提供的酸性抛光液。结果显示,河北工业大学提供的碱性抛光液会产生小的碟形坑和氧化物损失,优于SVTC提供的酸性抛光液。 相似文献
4.
纳米二氧化硅抛光液对低k材料聚酰亚胺的影响 总被引:2,自引:2,他引:0
以3英寸的P型〈111〉硅片为衬底,经过旋涂固化制备低介电常数(低k)材料聚酰亚胺。对聚酰亚胺进行化学机械抛光(CMP),考察实验前后,纳米二氧化硅抛光液对低k材料的结构和介电常数。实验中应用了2种纳米二氧化硅抛光液:一种是传统的铜抛光液;另一种为新型的阻挡层抛光液。通过扫描电镜(SEM)和介电常数测试结果显示,2种抛光液对低k材料,不论是在结构还是电特性方面的影响都不大。经铜抛光液抛光后,k值从最初的3.0变到3.08;经阻挡层抛光液抛光后,k值从最初的3.0变到3.28。实践证明,这两种纳米二氧化硅抛光液可以应用于集成电路。 相似文献
5.
胡轶 《Canadian Metallurgical Quarterly》2011,2(8)
静脉药物配置中心(Pharmacy intravenous admixture service,PIVAS)是在符合<药品生产质量管理规范>(GMP )标准,依据药物特性设计的操作环境下,由受过培训的专业技术人员,严格按照操作程序进行包括全静脉营养液,细胞毒性药物和抗生素等在内的静脉滴注药物配置,为临床医疗提供优质服务,是集临床和科研为一体的机构.PIVAS作为医院的新部门,对静脉用药进行集中无菌配置,为提高输液质量、防止药源性疾病发挥了重要作用,同时密切了药师和临床的联系,对开展临床药学工作具有重要的意义. 相似文献
6.
7.
针对Web页中存在不少不真实信息的问题,提出了一个两步的方法来鉴别一个中文陈述句是否是事实。第一步根据陈述句中的不确定单元对陈述句进行分类扩展,找到一些和待验证陈述句主题匹配的候选陈述句。第二步把候选陈述句代入现有搜索引擎,确定出最有可能的候选。这两步过程都需要从主流的搜索引擎的搜索结果中抽取各种特性。实验结果表明,准确率可以达到85%以上。经过改进,该技术可以用来评测网页的可信度。 相似文献
8.
阐述了复杂型腔高速铣削拐角加工问题.搜集了国内外对型腔高速铣削拐角加工问题的研究资料,描述了型腔拐角加工的研究现状.分别对高速铣削过程中拐角工艺参数优化、数控系统优化和刀具轨迹优化的优缺点进行了分析. 相似文献
9.
碱性纳米SiO_2溶胶在化学机械抛光中的功能 总被引:1,自引:1,他引:0
纳米SiO2是一种性能优越的功能材料,化学机械抛光(CMP)过程的精确控制在很大程度上取决于对纳米SiO2功能的认识。但是目前对碱性纳米SiO2在CMP过程中的功能还没有完全弄清楚,探讨它在CMP中作用是提高CMP技术水平的前提。纳米SiO2溶胶的表面效应使其表面存在大量的羟基,在CMP过程中纳米SiO2表面羟基与碱反应生成硅酸负离子,硅酸负离子再与硅反应来降低纳米SiO2的表面能量,同时达到除去硅的目的。综上所述,碱性纳米SiO2在CMP的过程中不仅起到了磨料的作用,同时参加了化学反应,在此基础上提出了在碱性条件下纳米SiO2与硅的反应机理。 相似文献
10.
介绍了IFM系列电磁流量计在沸石分子筛生产中的应用过程和设计选型的基本原则,并指出设计选型及安装使用过程中必须注意的一些问题。 相似文献