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纳米二氧化硅抛光液对低k材料聚酰亚胺的影响 总被引:2,自引:2,他引:0
以3英寸的P型〈111〉硅片为衬底,经过旋涂固化制备低介电常数(低k)材料聚酰亚胺。对聚酰亚胺进行化学机械抛光(CMP),考察实验前后,纳米二氧化硅抛光液对低k材料的结构和介电常数。实验中应用了2种纳米二氧化硅抛光液:一种是传统的铜抛光液;另一种为新型的阻挡层抛光液。通过扫描电镜(SEM)和介电常数测试结果显示,2种抛光液对低k材料,不论是在结构还是电特性方面的影响都不大。经铜抛光液抛光后,k值从最初的3.0变到3.08;经阻挡层抛光液抛光后,k值从最初的3.0变到3.28。实践证明,这两种纳米二氧化硅抛光液可以应用于集成电路。 相似文献
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胡轶 《Canadian Metallurgical Quarterly》2011,2(8)
静脉药物配置中心(Pharmacy intravenous admixture service,PIVAS)是在符合<药品生产质量管理规范>(GMP )标准,依据药物特性设计的操作环境下,由受过培训的专业技术人员,严格按照操作程序进行包括全静脉营养液,细胞毒性药物和抗生素等在内的静脉滴注药物配置,为临床医疗提供优质服务,是集临床和科研为一体的机构.PIVAS作为医院的新部门,对静脉用药进行集中无菌配置,为提高输液质量、防止药源性疾病发挥了重要作用,同时密切了药师和临床的联系,对开展临床药学工作具有重要的意义. 相似文献
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碱性抛光液对铜布线电特性的影响 总被引:5,自引:5,他引:0
随着互连电路的规模发展到亚微米级,互连延迟已经成为超过门延迟的重要因素。减小延迟在互连结构中是不可避免的问题。化学机械抛光是最适合在多层铜互连结构中达到平整化目的的手段。出于对整体过程的考虑,我们将考察化学机械抛光对铜晶圆片电特性的影响。在这篇文章中,我们将考察两种抛光液在化学机械抛光中的影响,一种抛光液是酸性抛光液,来自于SVTC,另一种是碱性抛光液,由河北工业大学提供的。着重考察了三个方面的特性,电阻,电容和漏电流。电阻测试结果显示,河北工业大学提供的抛光液抛光后,电阻更小。而被两种抛光液抛光后的电容则相差不多,电容值分别为1.2 E-10F 和1.0 E-10F。同样,河北工业大学提供的抛光液抛光后的漏电流是1.0E-11A,低于SVTC提供的酸性抛光液。结果显示,河北工业大学提供的碱性抛光液会产生小的碟形坑和氧化物损失,优于SVTC提供的酸性抛光液。 相似文献
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某石化公司催化剂厂分子筛装置交换反应罐焊缝腐蚀严重,焊缝腐蚀的部位主要集中在罐体。通过对交换罐内腐蚀介质分析和焊接件的耐蚀性评价,腐蚀原因主要是由酸性条件下Cl^-引起的晶间腐蚀和应力腐蚀开裂,并从焊缝焊接技术的改进、焊缝表面的防腐蚀处理及新交换罐的选材等几方面提出了建议性防护措施。 相似文献
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叶绿素a原位监测在海洋生态系统健康评估与碳循环过程研究中有重要价值。设计了一套原位叶绿素a的精密测量方案,以交流调制检测为基本方法,开发了交流模拟放大通路,使用开关检波系统完成最后的检波。噪声测试实验表明系统电流分辨力达到186.27 fA。通过仿真和对比实验证明了开关检波系统具有很强的频率选择特性,在系统噪声抑制方面起重要作用。标准叶绿素标定实验表明在0~30μg/L内系统线性度良好,用直线拟合R2=0.998 5,检测灵敏度S=0.008 1μg/L,满足使用需求。 相似文献
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介绍了IFM系列电磁流量计在沸石分子筛生产中的应用过程和设计选型的基本原则,并指出设计选型及安装使用过程中必须注意的一些问题。 相似文献
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UTM及其在网络安全中的应用 总被引:3,自引:0,他引:3
本文分析了网络安全及传统防火墙面临的安全挑战,介绍了UTM工作原理及关键技术,最后给出一个校园网络应用UTM安全设备的实例。 相似文献