CVD金刚石自支撑膜的力学性能

CVD金刚石自支撑膜已经作为一种崭新的工程材料出现,其应用日益广泛,急切需要对其力学行为进行深入了解。为此对有关金刚石膜的断裂强度和断裂韧度的研究,以及金刚石膜的断裂机制进行了详尽的论述。简略介绍了金刚石膜的断裂强度和断裂韧度的测试方法,给出了典型的测试数据。最后就如何提高金刚石膜的力学性能和更好地应用这种新型工程材料提出了建议。     

生物柴油副产物粗甘油中甲醇含量的测定

建立了顶空-气相色谱法,对生物柴油副产物粗甘油中的甲醇含量进行测定。将粗甘油样品用水溶解,加入1,4-二氧六环作内标,90℃下顶空平衡45 min,在HP-INNOWax柱上进行分离和测定。实验结果表明,甲醇溶液的质量浓度在0.8～40.0 g/L范围内呈良好的线性关系,相关系数r>0.999,样品中甲醇质量分数的测定低限为0.005%。对实际样品进行测定,相对标准偏差在0.9%～1.6%(n=8),加标回收率在94.0%～106.0%。该方法操作简便,精密度好,结果准确,对仪器系统污染小,适用于粗甘油中甲醇含量的测定。     

SiNx介质薄膜制备及其对GaN表面金刚石形核生长的影响

SiNx作为GaN和金刚石异质结构的中间层，不仅是下层GaN材料的保护层，也是上层金刚石的形核生长层，因此SiNx介质薄膜对于GaN表面合成高质量金刚石具有重要的意义。研究分别采用低压化学气相沉积（LPCVD）和磁控溅射（MS）方法在GaN-Si衬底上制备SiNx介质薄膜。利用扫描电镜、傅立叶红光光谱、X射线衍射、激光拉曼等技术对SiNx薄膜的表面形貌、晶体结构和表面官能团等进行分析。结果表明，采用LPCVD镀制的非晶态SiNx介质薄膜经籽晶播种、形核生长金刚石后，金刚石/SiNx/GaN界面完整致密；采用MS制备的SiNx介质薄膜呈晶态特征，对应的界面出现明显的刻蚀坑。沉积方式会影响SiNx薄膜的晶体结构和微观形貌，高致密度的非晶态结构有利于金刚石层快速形核生长，对于构建金刚石基GaN结构更为有利。     

基于深度学习的网络流时空特征自动提取方法

流量异常检测是网络入侵检测的主要途径之一,也是网络安全领域的一个热门研究方向。通过对网络流量进行实时监控,可及时有效地对网络异常进行预警。目前,网络流量异常检测方法主要分为基于规则和基于特征工程的方法,但现有方法需针对网络流量特征的变化需重新人工收集规则或 构造特征,工作量大且繁杂。为解决上述问题,该文提出一种基于卷积神经网络和循环神经网络的深度学习方法来自动提取网络流量的时空特征,可同时提取不同数据包之间的时序特征和同一数据包内字节流的空间特征,并减少了大量的人工工作。在 MAWILab 网络轨迹数据集上进行的验证分析结果表明,该文所提出的网络流时空特征提取方法优于已有的深度表示学习方法。     

模糊概念因子格的子格构造算法

为了完善因子格的构造,提出了一种基于模糊伽罗瓦联系的模糊概念因子格的子格算法(Factor Lattice Algorithm算法)。该算法依据已给出的模糊概念因子格的上下界限,采用批处理的方式自顶向下根据模糊下邻生成因子,计算出模糊概念节点的直接下邻集合,将模糊概念格进行局部构建,逐步完成局部完备模糊概念因子格的构造得到完备的模糊概念格的子格。并从理论分析和实验结果证明此算法构造得到的模糊概念因子格具备了完备性。     

美国高等教育评估机构探析

在美国，大学的设立只要得到州政府批准后就可以在校董事会领导下自由地发展，但对于整个国家来说，美国高等教育的发展同政府的立法干预是分不开的。美国高等教育两大发展时期（一为１８６２年摩雷尔法案颁布为动因，一为１９５８年国防教育法的施行为起点，使更多的资金...     

ZrN及其多层膜的性质和耐腐蚀性能

用磁过滤电弧制备了ZrN和ZrN／TiN多层膜，磁控溅射制备了ZrN薄膜。结果表明，ZrN／TiN多层膜，由于纳米多层化作用，硬度高于ZrN和TiN的26GPa和2lGPa，平均值达到34．5GPa。X射线衍射分析表明，ZrN／TiN多层膜由ZrN和TiN组成。过滤电弧制备的ZrN和ZrN／TiN多层膜的结合力为8lN和77N，磁控溅射制备的ZrN薄膜的结合力为26N。极化曲线的结果显示，过滤电弧制备的ZrN和ZrN／TiN多层膜的耐腐蚀性显著优于磁控溅射制备的ZrN薄膜，讨论了两种方法制备薄膜性能差异的原因。     

用热丝法在激光预处理的硬质合金表面沉积金刚石薄膜的研究

研究了准分子激光对硬质合金（ＹＧ６）表面产生的选择性蒸发和表面改性作用（粗糙化），探索在硬质合金表面沉积金刚石薄膜的工艺参数，讨论了温度、气体流量及甲烷浓度对沉积金刚石薄膜的影响规律．     

加氮对直流电弧等离子体喷射金刚石膜显微组织和断裂强度的影响

利用DcArcP1asmaJetcVD法制备搀杂氮的金刚石厚膜。研究了在反应气体cH。／Ar／H：中加入N!对金刚石膜显微组织和力学性能的影响。在固定H2、Ar、CH4流量的情况下改变N2的流量，即反应气体中氮原子和碳原子的变化比例(N／C比，范围从0．06～0．68)，同时在固定的腔体压力(4kPa)和衬底温度(800℃)下进行金刚石膜生长。用扫描电镜(SEM)观察金刚石膜形貌、用X射线衍射表征晶体取向，用三点弯曲的方法来测量金刚石膜的断裂强度。结果表明，氮气在反应气体中的大量加入，对直流等离子体喷射制备金刚石膜的显微组织和力学性能有显著的影响。