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磁过滤等离子体制备TiN薄膜中沉积条件对薄膜织构的影响 总被引:2,自引:0,他引:2
在室温条件下,利用自行设计的平面"S"形磁过滤等离子体设备,在(111)面单晶硅上制备TiN薄膜,通过改变基底偏压和反应气体成分,即通过改变氮气和氩气的气体流量来改变沉积离子的能量和密度,从离子轰击的角度研究了沉积条件对TiN薄膜织构的影响.对薄膜的表面形貌进行观察,用(θ~2θ)和1.5°掠入射2种X射线衍射方法对薄膜晶体结构和晶面取向进行了分析,对薄膜进行了电子衍射研究.结果显示磁过滤等离子制备的TiN薄膜表面平整光滑,颗粒尺寸为20~70 nm,且基底偏压和氩气流量的增大促使薄膜发生(111)面的择优取向,且(111)晶面与膜表面平行,而在高氩气流量的情况下,(200)和(220)面在薄膜平面也发生了定向排列. 相似文献
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工艺参数对阳极弧放电等离子体制备镍纳米粉的影响 总被引:7,自引:1,他引:7
在Ar惰性保护气氛中,采用阳极弧放电等离子方法用自行研制的装置制备出了高纯Ni纳米粉末。研究了在制备过程中电弧电流、气体压力等工艺参数对纳米粉产率及粒度的影响。利用XRD、TEM对制得的样品的形貌、晶体结构、粒度及其分布进行测定。结果表明,适当控制某些工艺参数就能制取粒径范围在20nm~100nm的纳米粉,在其它工艺参数不变条件下,气压升高或电弧电流增大,都会使粒度增大,产率提高。 相似文献
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机床行业中内孔加工约占整个机械加工工作量的1/4,而深孔加工又在内孔加工中占有很大的比例。深孔加工中最常见的问题就是由于孔的直径限制了刀具的设计。当镗杆的长径比较大的情况下,镗杆的静态刚度和动态刚度都随之明显下降,在切削过程中引起切削颤振,轻者使被加工表面粗糙度恶化,重者使加工无法正常进行。 相似文献
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纳米多层膜因具有优异的力学性能与抗摩擦磨损性能使其在摩擦学领域具有重要的应用价值。采用磁控溅射沉积法制备了Al、AlN单层薄膜与Al/AlN纳米多层膜,探讨了纳米多层化对薄膜的力学性能和摩擦学性能的影响。采用纳米压痕仪和摩擦磨损试验机测量评价薄膜的纳米硬度和摩擦学性能。结果表明:Al/AlN纳米多层膜具有良好的周期调制结构,多层膜中的大量界面能显著提高薄膜的力学性能与摩擦学性能。多层膜的硬度为8.8GPa,高于采用混合法则计算出的硬度值6.6GPa;多层膜具有软质Al层和硬质AlN层的交替结构,在摩擦过程中,硬质AlN层可以起到良好的承载作用,软质层可以起到良好的减摩作用。相对于Al单层薄膜或AlN单层薄膜,Al/AlN纳米多层膜具有较低的摩擦因数(0.15)和优异的抗磨损性能。 相似文献
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为了开发高硬度二次冷轧镀锡板,采用硬度计、拉伸试验机、光学显微镜和X射线衍射仪研究了二次冷轧压下率对氮强化镀锡板组织性能的影响规律。结果表明,随着二次冷轧压下率提高,试验钢的硬度和强度提高,各向异性增加,伸长率降低,当二次冷轧压下率为44%时可达到DR-9M的技术要求。同时采用高碳和氮强化成分体系配合低温退火不利于有利织构{111}的形成,织构取向密度的峰值出现在{001}<110>~{114}<110>、{223}<110>~{445}<110>和{554}<225>,冲压成形时易在45°方向上产生制耳。 相似文献
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在四川高压气井开发过程中常用桥塞进行临时封隔高压地层,后期施工需要钻开桥塞时,由于桥塞下部存在着与地层压力相当的上顶力,在钻开此类高压气井桥塞时存在着极大的安全及井控风险,严重阻碍了高压天然气井的勘探开发。为迫切地解决这一难题,在对高压气井钻磨桥塞不断探索和总结的基础上,深入分析了高压气井钻磨桥塞的风险及难点,提出使用套压释放压力技术、防钻具上顶井口装置、钻具组合优化技术、钻磨工艺参数优化技术等方法,形成了一套比较完善的高压气井桥塞钻磨技术,有效地降低了钻磨高压气井桥塞时的井控、管串上顶、卡钻、桥塞随钻具转动及套管损伤的风险,并成功运用于CXX井和YBL井,为类似高压气井桥塞钻磨提供了一定指导意义。 相似文献
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在室温条件下制备高质量纳米结构TiN薄膜研究 总被引:2,自引:0,他引:2
在室温条件下,利用磁过滤等离子体在单晶硅和不锈钢表面上制备了性能优异的纳米结构TiN薄膜.运用原子力显微镜和掠角入射X射线衍射仪对其结构与形貌进行了表征,利用纳米压痕仪测量了TiN薄膜的硬度和弹性模量.结果表明:TiN薄膜表面光滑,致密,无柱状晶;TiN晶粒的平均尺寸为50nm,薄膜硬度达50 GPa,是传统CVD和PVD技术沉积氮化钛的两倍多;XRD衍射试验表明,纳米TiN的衍射角都普遍向小角度移动,TiN晶粒沿(111)择优生长. 相似文献
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