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影视照明的目的是满足摄影、摄像的技术要求,即提供足够的照度,以便系统能够如实地拾取和重现拍摄的图像。但是作为艺术创作的一部分,照明人员应当积极应用灯光造型参与剧情的发展,应用气氛光为刻划人物,塑造环境服务。 相似文献
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分子筛催化体系中汽油噻吩类含硫化合物烷基化反应脱硫的研究 总被引:9,自引:2,他引:7
考察了HY,Hβ,HZSM-5,SAPO-11四种分子筛催化剂对FCC汽油中噻吩类含硫化合物烷基化反应深度脱硫的影响。结果表明:在360℃,1MPa的反应条件下,强酸酸量比例大、B酸中心多的HZSM-5分子筛催化剂能达到催化噻吩类含硫化合物与烯烃进行烷基化转化的目的,使汽油中大部分含硫化合物经烷基化反应生成大分子含硫化合物进入更高沸点的馏分油中;另一方面,HZSM-5分子筛独特的孔结构能够有效地减少噻吩类的过度缩合,减少生焦和烯烃类的多聚,最大限度保证汽油产品收率。以量子力学理论为基础,运用分子模拟手段计算噻吩类含硫化合物的动力学直径,研究了含硫化合物及烯烃与ZSM-5的化学吸附作用,并根据计算结果提出了在分子筛催化体系中噻吩类含硫化合物烷基化的反应历程。 相似文献
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利用自行研制的约束弧等离子体纳米粉体实验装置成功制备了平均晶粒尺寸为22 nm的NiO纳米粉体.通过X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、选区电子衍射(SAED)和红外光谱(IR)等测试手段对样品的晶体结构、晶粒尺寸以及形貌进行了表征;并利用BET氮吸附法测定样品的比表面积.结果表明约束弧等离子体方法制备的NiO纳米粉体结晶良好、粒度均匀、分散性好,部分颗粒呈现规则菱形十二面体几何外型,比表面积为33.9 m2/g. 相似文献
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纳米结构TiN薄膜的制备及其摩擦学性能 总被引:4,自引:0,他引:4
在室温条件下,用磁过滤等离子体装置在单晶硅基底上制备了纳米结构TiN薄膜分析了薄膜的表面形貌、晶体结构,测量了TiN薄膜的硬度,研究了基底偏压对薄膜结构性能的影响.结果表明,用此方法制备的TiN薄膜表面平整光滑,颗粒尺寸为50~80 nm;随着基底偏压的增大薄膜发生(111)面的择优取向随着偏压的提高,薄膜的颗粒度稍有增大,摩擦系数增大,偏压提高,晶面在较密排的(111)面有强烈的择优取向,硬度也有所增大.在其它条件相同的情况下载荷越大,摩擦系数越大.不起用磁过滤等离子体法制备的纳米结构TiN薄膜具有较低的摩擦系数(0.14~0.25). 相似文献
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在室温条件下制备高质量纳米结构TiN薄膜研究 总被引:2,自引:0,他引:2
在室温条件下,利用磁过滤等离子体在单晶硅和不锈钢表面上制备了性能优异的纳米结构TiN薄膜.运用原子力显微镜和掠角入射X射线衍射仪对其结构与形貌进行了表征,利用纳米压痕仪测量了TiN薄膜的硬度和弹性模量.结果表明:TiN薄膜表面光滑,致密,无柱状晶;TiN晶粒的平均尺寸为50nm,薄膜硬度达50 GPa,是传统CVD和PVD技术沉积氮化钛的两倍多;XRD衍射试验表明,纳米TiN的衍射角都普遍向小角度移动,TiN晶粒沿(111)择优生长. 相似文献
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在四川高压气井开发过程中常用桥塞进行临时封隔高压地层,后期施工需要钻开桥塞时,由于桥塞下部存在着与地层压力相当的上顶力,在钻开此类高压气井桥塞时存在着极大的安全及井控风险,严重阻碍了高压天然气井的勘探开发。为迫切地解决这一难题,在对高压气井钻磨桥塞不断探索和总结的基础上,深入分析了高压气井钻磨桥塞的风险及难点,提出使用套压释放压力技术、防钻具上顶井口装置、钻具组合优化技术、钻磨工艺参数优化技术等方法,形成了一套比较完善的高压气井桥塞钻磨技术,有效地降低了钻磨高压气井桥塞时的井控、管串上顶、卡钻、桥塞随钻具转动及套管损伤的风险,并成功运用于CXX井和YBL井,为类似高压气井桥塞钻磨提供了一定指导意义。 相似文献
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