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国产数据库应用开发平台的研究与实现 总被引:5,自引:0,他引:5
国产数据库发展的关键是通过应用带动其实用化和商品化。根据国产数据库的特点,采用分布式数据库技术建立适应国产数据库的应用开发平台,旨在降低国产数据库的应用门槛、弥补其功能和性能相对于国际品牌数据库的差异,且易于实现与其他异构数据库应用集成,或者从其他数据库逐步过渡到国产数据库应用上。 相似文献
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招聘是企业人力资源管理中的重要环节,是实现组织绩效的基本保障。本文通过分析企业招聘过程中存在的问题,剖析深层次原因,应用人力资源管理中的相关理论,为企业选人、用人提供参考。 相似文献
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错齿盘铣刀可用于齿轮的成形铣齿加工,具有多刃断续切削和变切屑厚度等特点,属于非自由强力铣削。切削载荷、加工精度逐渐成为切削机制的主要内容。通过试验方法,测量获得铣齿加工的典型载荷,可知切入、切中、切出三个阶段具有不同的特征。通过三坐标测量加工精度,分析得出齿向呈现了倒锥形的结果。其中切中阶段,加工精度为正并逐渐提高;而切出阶段,加工精度为负。基于对三向切削载荷及机床主轴箱体的悬伸对加工精度的直接影响分析,解释了"收口"现象的主要原因。该类实时的切削数据可用于现场分析与控制,进而实现精度补偿。 相似文献
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传统的计算边坡稳定性影响因素敏感性的分析方法只考虑一个因素的变化,而忽略了因素间的相互作用,由此引入正交试验设计理论。结合天津某边坡,按正交表要求,随机选取各因素在可变化区间内的几个水平等级值,计算各因素在各水平等级值下边坡的稳定系数。通过对所得的结果进行极差分析和变化率计算,表明边坡稳定性影响因素敏感性由大到小分别为:内聚力、地震力、坡高、坡比、内摩擦角、重度和坡顶荷载,验证了正交理论的有效性。 相似文献
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介绍了一种用于铜膜化学机械抛光的多元胺醇型非离子表面活性剂。研究了该表面活性剂对抛光液表面张力、黏度、粒径、抛光速率和抛光后铜的表面状态的影响。抛光液的基本组成和工艺条件为:SiO2 0.5%,H2O2 0.5%,FA/OII型螯合剂5%(以上均为体积分数),工作压力2 psi,抛头转速60 r/min,抛盘转速65 r/min,抛光液流量150 mL/min,抛光时间3 min,抛光温度21°C。结果表明,微量表面活性剂的加入能显著降低抛光液的表面张力并大幅提高抛光液的稳定性,但对静置24 h后抛光液黏度的影响不大。表面活性剂含量为0%~2%时,随其含量增大,化学机械抛光速率减小,抛光面的粗糙度降低。 相似文献