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采用厚膜混合集成技术实现了硅微机械加速度传感器工程样机。介绍了厚膜混合集成电路工艺的原理和特点、传感器的结构和工作原理,研究了信号提取和处理方法,优化了反馈控制校正电路网络,利用电容转换专用集成电路,通过厚膜技术组装了工程样机。实验结果表明:该单片加速度传感器具有较高的精度和零偏稳定性。 相似文献
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电容式压力传感器的厚膜集成化研究 总被引:2,自引:2,他引:0
采用厚膜传感技术研制电容式感压元件,并通过厚膜混合集成技术将信号处理电路集成在感压元件上成为一体,进行电容式压力传感器的厚膜集成化研究。结果表明:研制成的新型厚膜电容式集成压力传感器,线性达到0.5%,迟滞小于0.5%,具有重复性好,受分布电容,寄生电容影响小,精度高,抗过载,耐腐蚀等特点,对厚膜感压元件,信号处理电路的设计与平面化加工以及集成化等进行了介绍,并对集成化中相关工艺,兼容性及性能进行了讨论。 相似文献
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一体化湿湿度传感器是采用厚膜工艺将温度传感器和湿度传感器制作在同一Al2O3陶1基片上而形成一个集成一体化的多功能传感器,湿度传感器采用性能优良的高分子聚合物湿敏电阻,温度传感器采用具有NTC特性的MnCoNi系氧化物厚膜热敏电阻。这不仅可以将温度和湿度这两个参数同时进行测量,而且给湿度传感器的温度补偿为了极大的方便。 相似文献
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压力传感器的厚膜混合集成封装技术 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了一种将硅压阻敏感芯片和加压结构件直接固定在带有厚膜电路陶瓷板上的混合集成工艺方法,厚膜电路中包含了硅压阻芯片的温度补偿、恒流源电路、信号放大和调整电路.通过合理的结构和工艺设计实现了传感器和信号处理电路的集成化,减小了传感器体积,提高了传感器的可靠性、抗振动性能和耐高低温冲击性能,适于批量生产. 相似文献
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利用COMSOL软件仿真分析了传感器性能,建立压电半球冲击传感器内部结构模型,初步确定传感器在多个角度上均具有冲击应力,分析冲击应力在厚膜上的分布情况,选择压电厚膜与基底结合最合适倒圆,在垂直方向上冲击产生电荷产生量和冲击加速度大小成正比,利用电流体喷印工艺制备了传感器半球压电厚膜,采用电喷打印装置进行电流体喷印实验保证厚膜质量,利用磁控溅射技术在厚膜表面制备电极并进行极化,最后使用小型冲击实验台和标准传感器进行测试,得到压电半球传感器在3000g加速度下冲击信号曲线,测得传感器的灵敏度为2.86 pc/g,验证了压电半球冲击传感器性能. 相似文献
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四、厚膜应变计技术 厚膜应变计技术是由意大利FIAI公司为研究控制发动机燃烧用压力计而发明的。由于它具有成本低,对温度和振动环境的适用性宽,其性能和可靠性也得到了充分的肯定。1983年在英国伦敦举行的国际传感器会议上,巴黎大学教授DARMON发表了陶瓷膜与厚膜压力传感器的论文。美国DJInstru-ments公司于1984年取得了国内市场权,从而使厚膜应变计技术有了迅速的发展,除了应用在压力传感器方面之外,已逐渐扩展到 相似文献
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概述了一体化温湿度传感器的特点及发展现状,对厚膜一体化温湿度传感器中热敏材料的设计、制备方法及特性进行了深入的研究,对实验结果进行了分析讨论。给出与一体化传感器中湿敏材料相匹配的负温度系数热敏材料的成分与阻温特性的关系,制备工艺对阻温特性及材料粒度、粒度均匀性的影响,同时,还给出了几组热敏材料的实验数据和用此材料制备的一体化厚膜温湿度传感器的特性曲线。 相似文献
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压力传感器厚膜温度补偿技术研究 总被引:1,自引:0,他引:1
采用厚膜电路制造技术实现硅基压力传感器的温度补偿,不仅可以使传感器的补偿精度高、补偿温区宽,而且可以使传感器的可靠性、抗震动性、耐高低温冲击性以及传感器的外观品质得以全面提升。文中介绍了压力传感器温度补偿电阻网络的原理、厚膜电路的设计和制造技术、网络阻值调整等方面的研究,通过合理的版图、结构和工艺设计,实现了OEM压力传感器的温度补偿,已在压力传感器产品的生产中得到成功应用。 相似文献
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厚膜电容式集成压力传感器压元件研究 总被引:2,自引:2,他引:0
采用厚膜技术研制新型电容式集成压力传感器用感压元件。具有抗干扰能力,灵敏度高,受分布电容、寄生电容影响小、耐腐蚀,耐高温的特点。文中主要介绍其电容式感压元件的原理、设计,并对非线性等相关技术及工艺问题进行了探讨。 相似文献
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基于厚膜技术E型三维加速度传感器的设计 总被引:10,自引:0,他引:10
提出采用厚膜技术设计一种一体化三维加速度传感器,其采用了E型结构和特殊和维间耦合问题。由于E型结构的对称性,使得所设计的三维加速度传感器在低量程,高灵敏度应用场合中具有良好的特性。 相似文献
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针对实际生产中遇到的薄膜静电影响问题,采用一种比较巧妙的电路方法-线圈隔离法消除了静电的影响,该技术是一种实有的在线薄膜测试量技术,也可以运用到其他电容式传感器非接触式的在线测量中。 相似文献
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本文主要介绍了微结构气敏传感器制造工艺中的关键技术,例如双面光刻、反应等离子刻蚀、硅的各向异性腐蚀、采用溶胶—凝胶镀膜技术制备WO3敏感薄膜。文中还给出WO3薄膜的XRD和SEM表面分析图。对结构和表面形貌进行了分析,并给出传感器的气敏特性曲线。最后对存在的问题进行了简单的讨论。 相似文献