复合光导层液晶光阀的研究

介绍了一种具有柱状结构的a-Si：H／nc—Si复合光导层的液晶光阀，复合光导层是通过热蒸发和等离子体辉光放电沉积方法，采用Al诱导a-Si：H制成的。经过测试，这种柱状结构薄膜具有电导各向异性，其横向电导率小于纵向电导率。用这种薄膜制成的液晶光阀其分辨率达到5001p／inch。     

液晶光阀中的α-Si:H光导膜研究

本文对在光学信息处理中应用的液晶光阀的关键性膜层——光电导膜采用新近开发的非晶硅材料作了一些探索。研究表明,响应快速的α-Si:H薄膜用于液晶光阀是很有前途的。     

液晶光阀阻光层研究

本文研究了阻光层在液晶光阀中的作用，报导了我们首先提出的ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ作为液晶光阀阻光层。ａ－Ｓｉ：Ｈ光导层和ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ阻光层通过辉光放电等离子体化学气相沉积法连续制得。本文研究了不同沉积条件下ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ薄膜结构和光电性质。ａ－Ｓｉ：Ｈ和随这沉积的ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ形成了ａ－Ｓｉ：Ｈ／ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ异质结。采用ａ－Ｓｉ：Ｈ／ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ异质结构液昌光阀可改进器件的许多性能。     

整体快速擦除式激光选址液晶光阀

本文介绍一种改进的激光选址液晶光阀。它以液晶的光散射态(暗态)为显示背景,减少了对观察者眼睛的刺激;它的整体擦除时间大约0.5～1s.采用以暗态为背景的方案,必须对光阀施加高电压才能进行整体擦除,高电压容易使光阀击穿。本文采用在导电层与吸收层之间镀隔离层,就可避免因加大液晶层厚度使写入光灵敏度降低,又增加了高电压与大电流的承受能力。     

紫外透射型液晶光阈用ZnSxSe1—x薄膜的研究

描述了透射型ZnSxSe1-x光盲紫外液晶光阀的结构和工作原理，并从器件的电学模型出发，着重讨论了整体器件对ZnSxSe1-x光敏层的特殊要求，采用分子束外延技术在ITO石英导电玻璃上制备了不同组分的三元ZnSxSe1-x多晶薄膜，通过控制反应时的生长参数，制备出了符合器件设计要求的光敏层薄膜，室温下，薄膜的紫外／可见光响应对比度大于10^3，响应波长截止边河可通过控制薄膜中的Se组分，在360－410nm范围内连续可调，薄膜的紫外／可见光吸收系数比大于10^3，在液晶光阀工作的低频段（＜200Hz)，其暗阻抗在10^5-10^6Ωcm^2之间；暗／亮阻抗比满足器件要求。     

一种基于TN型液晶的自控光阀

对TN(扭曲向列)型液晶的透光率测量实验表明,在外加电压的作用下TN型液晶可以吸收入射光线,并且在外加电压连续改变时,对入射光的透光率将呈现连续非线性变化。根据此特性,利用数字电路来控制加到液晶电极上的电压,就得到了一种空间光调制器──自控光阀。自控光阀能控制通过光阀的光强,使之趋于设定值。     

紫外透射型液晶光阀用ZnSxSe1-x薄膜的研究

描述了透射型ZnS,Se1-x光盲紫外液晶光阀的结构和工作原理,并从器件的电学模型出发,着重讨论了整体器件对ZnSxSe1-,光敏层的特殊要求.采用分子束外延技术在ITO石英导电玻璃上制备了不同组分的三元ZnS,Se1-x多晶薄膜,通过控制反应时的生长参数,制备出了符合器件设计要求的光敏层薄膜.室温下,薄膜 的紫外/可见光响应对比度大于103,响应波长截止边可通过控制薄膜中的Se组分,在360～410nm范围内连续可调;薄膜的紫外/可见光吸收系数比大于103;在液晶光阀工作的低频段(＜200Hz),其暗阻抗在105～106Ωcm2之间;暗/亮阻抗比满足器件要求.     

分子束外延生长液晶光阀用ZnSxSe1-x薄膜的研究

描述了ZnSxSe1-x光盲紫外液晶光阀的结构和工作原理 ,并从器件的电学模型出发 ,着重讨论了整体器件对ZnSxSe1-x光敏层的特殊要求。采用分子束外延技术在ITO导电玻璃上制备了具有 (111)面定向生长结构的ZnSxSe1-x多晶薄膜 ,通过控制反应时的生长参数 ,制备出了符合器件设计要求的光敏层薄膜。室温下 ,该薄膜的紫外 /可见光响应对比度大于10 3 ;响应波长截止边可通过控制薄膜中的Se组分 ,在 (36 0～ 4 10 )nm范围内连续可调 ;薄膜的暗电阻率在 (4 32× 10 9～ 2 0 3×10 11)Ω·m之间 ,并随着晶粒的增大而减小 ;在液晶光阀工作的低频段 (<2 0 0Hz) ,其光 /暗阻抗比在 0 2 2～ 0 36之间。     

非晶硅液晶光阀

本文介绍反射式非晶硅液晶光阀的研制方法，并对其光电性能进行了研究，提出非晶硅液晶光阀的参数设计模型。     

液晶光阀用ZnSSe薄膜的光电特性研究

用分子束外延法(MBE),在铟锡氧化物(ITO)导电玻璃衬底上生长了ZnSSe薄膜,详细研究了薄膜的光电特性.通过控制反应时的生长参数,制备出了符合紫外液晶光阀设计要求的光导层薄膜.室温下,该薄膜光谱响应截止边的响应度为0.01A/W,紫外/可见光响应对比度大于103.薄膜的暗电阻率随薄膜晶粒增大而减小,在衬底温度为2900C时,所获得的ZnSSe薄膜具有4.3×1011Ω@cm的暗电阻率.频率从40Hz到4000Hz的交流特性测试,也证实该薄膜符合器件紫外成像的工作要求.     

铁电液晶光寻址空间光调制器特性测试与分析

通过实验对一只美国某大学最新研制的新型高速空间光调制器──氢键非晶硅铁电液晶（ａ－Ｓｉ：Ｈ／ｐｉｎ／ＦＬＣ）光寻址空间光调制器（ＯＡＳＬＭ）的几个关键性能参数进行了测试并分析讨论。结果，此器件分辨率达４０ｌｐ／ｍｍ，对比度为２０∶１，响应上升时间为３．２ｍｓ，响应下降时间为２．６ｍｓ，光学灵敏度为５ｐＪ（写入光源λ＝６３３ｎｍ）。这种器件所表现出的高速、高分辨率和低功耗特性使之在光计算和光学信息处理领域中具有很大的应用潜力。     

利用液晶光阀实现的Joint变换

本文叙述了Joint变换的基本原理,并利用液晶光阀的偏振调制特性实现了Joint变换,液晶光阀作为实时记录器件,可以对物体的频谱进行改善,从而得到了较好的相关输出,实验结果与理论分析相符,提供了实时光学相关的一种新方法。     

单液晶光阀彩色大屏幕投影显示

设计一电路,将彩色图象信息编码到黑白CRT的亮度之中,并将其写入液晶光阀,用白光读出,当编码合适时,读出的象颜色可与原图像一致。本文讨论了这一技术原理并进行了单液晶光阀彩色大屏幕投影的实验验证。     

固体光声检测的两维理论

本文给出了四层媒质理论模型中有两层具有光吸收特性时，各层媒质中两维交变温度场的严格解，并由此导出目前光声检测中常用的传声器检测，光热光偏转检测，热透镜、光热光位移检测、光声压电和热释电检测中先声信号的理论表达式，使固体光学检测理论更系统化和实用化。     

双层TiOxNy光谱选择性吸收薄膜特性的研究

应用直流反应磁控溅射设备在铜基底上制备双层TiOxNy选择性吸收薄膜.当第一层薄膜的制备参数不变时,研究了第二层薄膜中N2流量参数对双层薄膜反射率的影响.结果表明,当第二层薄膜氧氮比为1:1时具有较好的光谱选择吸收特性,并测试了该样品的太阳吸收率和发射率分别as=0.920、ε=0.03.     

美国Carnegie—Mellon大学光学信息处理实验室Casasent教授来华讲学记录 第五讲 空间光调制器

所谓空间光调制器是指能够以非相干光或电子信号通过换能器来调制相干光束的器件。这样,在进行光学图样识别和光学信号处理时,就能以相干光的形式输入系统,实时地进行运算。下面分调制器的分类、性能指标和功能;油膜光阀;电子束寻址的DKDP光阀;液晶光阀;以及光DKDP光阀等五个方面逐一介绍。     

光信息存储量与真空技术

任何一种ＤＶＤ光盘都是由信息记录层、介质保护层、金属反射层．．．．．．等薄膜组成的二层、三层或多层光匹配的薄膜体系。不同膜系要用不同的真空淀积技术制备,各制备单元最终连成完整的光盘生产线。本文着重讨论各类光盘薄膜材料的真空淀积技术和相应的生产线,旨在探讨光盘生产线国产化的前景。     

一种聚酯衍生物的光衰减特性

具有１，６－地苯蒽发色基团的聚酯衍生物薄膜（ＰＥ０可产生较强的蓝绿色 ，同时在紫外光照射下出现光退化现象。ＰＥ的发光强度随着射时间的增加迅速减弱，然后逐渐地饱和，荧光光谱由５００ｎｍ逐渐蓝移至４５０ｎｍ；光退化了的聚酯衍生物薄膜经 热８０１－１００℃至少１ｈ的退火处理，发光强度可以恢复到照射前的水平，如果再经受紫外光照射，发光强度会再次降低，加热后发光强度又可以基本完全恢复如此过程可以反复多次。具     

快速响应光阀的制备及在真三维立体显示中的应用

固态体积式真三维立体显示系统主要由数据传输,图像处理模块,高速彩色投影光路模块,显示模块(显示体)以及外围控制电路组成。显示模块由多层液晶光阀组成,光线透过显示体后能量衰减严重,造成显示画面黯淡,模糊,此外,由于光阀响应时间慢,系统刷新频率低,屏幕存在严重的闪烁问题。本文通过在液晶中添加少量聚合物和手性物添加剂制备出快速响应的聚合物稳定胆甾相液晶光阀,其开态透过率达到88%,响应时间小于1ms。将其应用于真三维立体显示系统,显示画面清晰稳定,无闪烁。     

碲氧溅射薄膜的光学性质

碲氧薄膜是很有希望的可擦写光盘介质材料。本文用射频溅射技术制备碲氧系统的薄膜。测定热处理前后薄膜的光学特性(光透过率、反射率、折射指数、光吸收系数和光能隙)和 X 射线衍射特性,并研究了这些性能与靶材的组份关系,还测定了这些薄膜激光喇曼光谱,并讨论它们的结构特征。