军用纳米金刚石膜的研究与应用综述

对金刚石膜(及类金刚石膜)与传统光学材料的特性作了比较，分析了美军对于金刚石膜军用光学应用的需求以及金刚石膜在现有高科技武器装备中的应用前景，介绍了研制纳米金刚石膜的关键技术问题(主要是CVD和PLD方法)以及国内外研究和应用现状。     

金刚石膜压力传感器的优化设计（I）

探讨了一种新型金刚石膜压力传感器的优化设计方法，采用了计算机辅助设计，用数值计算中的有限元理论和ANSYS程序，模拟传感器承载金刚石膜的应力场分布，确定了掺硼金刚石压敏电阻条的尺寸、最佳位置和排列方式。结果证明，按该设计研制的金刚石膜压力传感器输出信号达到了较高灵敏度和较好的稳定性。     

利用CVD方法制备金刚石冷阴极的研究

利用化学腐蚀方法制备硅微尖阵列，利用ＭＷ－ＰＣＶＤ工艺生产金刚石膜，利用扫描电镜（ＳＥＭ），Ｘ射线衍初步研究了金刚石膜的性质。表明微尖尖端具有成核优势，金刚石膜择优沿（１１１）方向生长。     

在硅微尖上生长金刚石膜的研究

利用微波等离子体方法在硅微尖阵列上生长了金刚石膜，并利用SEM和X射线衍射对金刚石膜进行了研究．     

CVD金刚石（膜）制备技术及应用进展

化学气相沉积（CVD）方法是金刚石（膜）制备的主流技术,经过多年的发展,已从最初的微米金刚石膜发展到纳米金刚石膜,至目前高质量的单晶金刚石,应用领域不断扩展。除了工业和民用领域外,纳米金刚石膜在MEMS／NEMs、生物医学的应用进展引起业界关注,其中大尺寸单晶金刚石的制备是推动这些应用的关键。本文分析了MPCVD金刚石成膜特点,讨论了现阶段CVD金刚石膜商业化推广应用的制约因素,展望了今后金刚石膜的发展前景。     

CVD金刚石膜用作TaN2热敏打印头表面保护层的研究

报道了用微波等离子体化学气相淀积技术在ＴａＮ２电阻材料上淀积高质量金刚石薄膜的制备工艺，以及扫描电镜、Ｘ射线衍射、拉曼光谱、压痕测试的测试结果。探讨了提高金刚石膜在非金刚石衬底成核密度与粘附性的实验方法，从实验上证实了ＣＶＤ金刚石膜可以用作ＴａＮ２热敏打印头表面保护层。     

HFCVD方法沉积金刚石薄膜的生长研究

本文讨论了金刚石薄膜应用于光学领域所偶到的问题，研究了热丝方法生长应用于光学膜的金刚石薄膜过程中，衬底表面的预处理和沉积条件如碳源浓度、衬底温度等对制备膜晶粒尺度和晶粒间界以及膜表面形貌的影响。     

金刚石膜压力传感器的优化设计（Ⅱ）

金刚石膜压力传感器是在本征金刚石膜片上沉积4个掺杂金刚石膜压敏电阻，4个压敏电阻所在部位的膜厚度是压敏电阻和本征金刚石膜片厚度相加，它不同于利用扩散掺杂工艺形成的硅压力传感器，后者的4个掺杂压敏电阻和本征硅组成一个均匀的平面。我们发现，压敏电阻的形状对承载膜应力、应变分布及承压强度至关重要，提出了电阻条圆角设计方案，从而优化了电阻条形状及长、宽、厚尺寸设计，获得了具有高承压强度、输出稳定性好的金刚石膜压力传感器。     

军用纳米金刚石膜的研究与应用综述

对金刚石膜(及类金刚石膜)与传统光学材料的特性作了比较,分析了美军对于金刚石膜军用光学应用的需求以及金刚石膜在现有高科技武器装备中的应用前景,介绍了研制纳米金刚石膜的关键技术问题(主要是CVD和PLD方法)以及国内外研究和应用现状。     

两种金刚石碳膜的制备及其场发射特性研究

对相同的衬底进行不同的处理后，放入微薄等离子体腔中，在不同的条件下制备出纯平金刚石碳膜和球状金刚石聚晶颗粒碳膜，通过扫描电镜、拉曼光谱、Ｘ射线分析碳膜的形貌与结构，利用场发射二级结构研究两种金刚石碳膜的场发射性能，简单分析了不同碳膜的成因和场发射性能。     

金刚石膜表面微结构红外增透性能研究

CVD金刚石是一种性能优异的红外光学窗口材料，但其在红外波段的理论透过率仅能实现约71%。通过表面亚波长结构设计可进一步增强CVD金刚石膜的光学透过性能。该研究首先通过理论模拟，建立了金刚石微结构特征与光学增透之间的定量关系。基于此为指导，探讨了在具有微结构硅片表面，采用MPCVD方法复制生长出具有微结构的金刚石自支撑光学级薄膜，用于提升金刚石膜在红外波段的透过率。采用扫描电镜（SEM）观察了原始硅片和金刚石表面及微结构形貌，通过拉曼散射光谱评估了金刚石的生长质量及形核层影响，采用红外光谱仪测试了金刚石红外透过率。结果显示，单面构筑微结构后，金刚石膜在8~12 μm波段的透过率可从70%提升至76%，说明表面微结构能显著提升金刚石膜的光学透过性能。非金刚石形核层以及表面微结构的完整性不足可能是导致实验结果与理论模拟结果具有一定偏差的主要原因。     

类金刚石膜制备技术及在红外元件上的应用

类金刚石膜制备技术及在红外元件上的应用李福升，赵强，洪伟（航天工业总公司八三五八所天津３００１９２）类金刚石膜是一种性能极其优异的红外涂层材料。本文主要阐述在大型红外光学元件上沉积类金刚石膜的工艺技术，以及类金刚石膜作为红外涂层在红外材料上的重要应用...     

大面积光学级金刚石自支撑膜研究进展

大面积光学级金刚石自支撑膜的制备和加工是近年来在CVD金刚石研究领域的最重要的技术进展之一。综述了北京科技大学近年来在CVD金刚石膜光学应用领域的研究进展。给出了采用高功率直流电弧等离子体喷射(DC Arc Plasma Jet)CVD工艺制备大面积光学级金刚石自支撑膜的研究结果，并报道了对所制备的光学级金刚石自支撑膜的光学、力学(机械)、热学和微波介电性能的最新研究结果。     

电化学沉积DLC和CNx薄膜的微观形貌比较

类金刚石碳膜(简称DLC)是一类具有高硬度、化学惰性、低介电常数、宽光学带隙等特点的非晶碳膜，在机械、电子、化学等领域具有广阔的应用前景。类金刚石碳膜(DLC)中掺入氮元素的主要目的有两个：一是寻求人工合成β-C3N4超硬化合物的可能性，二是对类金刚石碳膜进行掺杂，以改善其     

火焰法合成金刚石薄膜的电镜表征

火焰法合成金刚石薄膜的电镜表征陶景光罗慧倩廖兆曙（华中理工大学，武汉４３００７４）金刚石膜由于具有极其优异的性能和广泛的应用，受到国内外的重视。除高温高压人工合成金刚石工艺外，已发展有多种常压气相合成方法，如热丝法、等离子法等。但这些方法大多需要真空...     

MPCVD金刚石膜沉积技术及金刚石膜材料在微波电真空器件中的应用

金刚石膜是一种集众多优异性能于一身的新材料,尤其是其热导率高、绝缘性能好以及微波介电损耗低等特点,使金刚石膜在微波电真空器件领域有着重要的应用前景。目前,以微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）方法制备高品质金刚石膜的技术已趋向成熟。本文将针对微波电真空器件这一应用背景,简要介绍国内外高品质金刚石膜MPCVD沉积技术的发展现状,进而对金刚石膜材料应用于微波电真空器件领域的一些典型实例进行简单的介绍。     

准分子激光制备纳米金刚石薄膜装备通过论证

国家“863”科技攻关项目—准分子激光制备纳米金刚石薄膜装备，1月23日在牡丹江市通过国家科委论证。由牡丹江光电技术研究所提出的准分子激光制备纳米金刚石薄膜装备项目，是在该所成功地研制出世界第一台500W级高功率旋转开关准分子激光器的基础上，运用激光PVD方法，制备出金刚石超微晶粒（纳米晶粒）组成的纳米金刚石膜．由于这种纳米金刚石膜，与各种实用化衬底具有良好的附着力，因此，在摩擦磨损、工具、模具、医学及其一些红外光学涂层领域有着广阔的应用前景。专家们认为，利用500W级高功率旋转开关准分子激光器研制的纳米金刚…     

HFCVD方法沉积金刚石薄膜的生长研究

本文讨论了金刚石薄膜应用于光学领域所遇到的问题，研究了热丝ＣＶＤ（ＨＦＣＶＤ）方法生长应用于光学膜的金刚石薄膜过程中，衬底表面的预处理和沉积条件如碳源浓度、衬底温度等对制备腹晶粒尺度和晶粒间界以及膜表面形貌的影响．     

CVD金刚石膜表面图形化加工技术的研究

首先用CVD法制备金刚石厚膜,接着在其表面利用氢等离子体辅助刻蚀,然后在铁薄膜的催石墨化作用下,对金刚石膜的表面进行了选择性的刻蚀.结果表明,在氢等离子体的辅助作用下,铁薄膜可以持续对CVD金刚石膜进行刻蚀;如果控制铁薄膜的形状和厚度,可以实现对CVD金刚石膜表面较精确的图形化刻蚀.该技术有望成为一种新的刻蚀金刚石膜的方法.     

CVD金刚石膜制备方法及其应用

介绍了金刚石膜的应用和低压下化学汽相沉积金刚石膜的主要方法及其最新进展,并对各种方法的优缺点作了简要评述。