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相似文献
 共查询到18条相似文献,搜索用时 156 毫秒
1.
钨酸铅PbWO4闪烁晶体缺陷研究进展   总被引:10,自引:0,他引:10  
本文介绍了近年来钨酸铅晶体缺陷研究方面的进展,这些结果表明了在钨酸铅晶体闪烁性能研究中考虑晶体缺陷影响的重要性。根据钨酸铅晶体的特点,就闪烁性能与非化学计量配比、晶体结构/多型性、杂质效应以及氧组份等因素的关系进行了简略的讨论。  相似文献   

2.
通过对下降法生长的全尺寸钨酸铅(PbWO4)晶体沿长轴方向不同点的透过率和光产额的测量、分段晶体的透过率和光产额的测量,研究了钨酸铅晶体的发光均匀性及其影响因素.结果表明:钨酸铅晶体发光均匀性主要由生长后期的钨酸铅晶体质量所决定,采用晶种为大头的加工取向有利于提高钨酸铅晶体的发光均匀性.  相似文献   

3.
钨酸铅(PWO)晶体由于其自身特点:高密度(8.28g/cm^3)、短辐射长度(0.87cm)和Moliere半径(2.12cm)、快的闪烁衰减时间(t〈50ns)以及较强的抗辐照损伤能力,已经成为了最具发展潜力的闪烁晶体之一,作为一种良好的闪烁晶体,PWO晶体在高能物理、核医学等领域有着广泛的应用。主要综述了PWO晶...  相似文献   

4.
介绍了目前正在使用的X-射线成像屏、X-CT和PET等核医学成像技术的原理及其探头对无机闪烁体的性能要求,展示了几种最有发展前景的无机闪烁晶体--硅酸镥(LSO)、铝酸镥(LuAP)和钨酸铅晶体的研究现状和存在的问题。指出透明陶瓷闪烁体的出现是对传统闪烁晶体的一个挑战。  相似文献   

5.
钆掺杂钨酸铅闪烁晶体的介电双弛豫峰研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
完成了钆离子(Gd3++)掺杂钨酸铅晶体在40~600℃、1~106Hz范围内介电性能的测量.在升温过程中观察的典型的介电弛豫峰,记为α峰,其激活能为050±0,01eV,频率因子v=1.44×109.而在降温过程中,除α峰外还出现了另一介电弛豫峰,记为β峰,其激活能为 0.51±0.2eV,频率因子V=2.44×106.α峰和 β 峰均可用 Debye方程来描述,而其相对强度呈此消彼长的趋势.分析了Gd:PWO中两种介电弛豫峰的起因及其相互关系,并讨论了它们与PWO晶体闪烁性能变化之间的关系.  相似文献   

6.
通过对下降法生长的全尺寸钨酸铅(PbWO4)晶体沿长轴方向不同点的透过率和光产额的测量、分段晶体的透过率和光产额的测量,研究了钨酸铅晶体的发光均匀性及其影响因素。结果表明:钨酸铅晶体发光均匀性主要由生长后期的钨酸铅晶体质量所决定,采用晶种为大头的加工取向有利于提高钨酸铅晶体的发光均匀性。  相似文献   

7.
新型闪烁体的辐照效应   总被引:28,自引:0,他引:28  
介绍了新型闪烁体辐照效应的研究进展,高能物理实验中使用的闪烁晶体(如PWO、GSO:Ce、CeF3等)用于强辐照环境,要求高辐照硬度。闪本在辐照后可能产生的变化主要有效:色心的形成、光输出改变、光输出均匀性的损伤、输出噪声增加、闪烁机制的变化。辐照效应的产生主要是晶体的缺陷所致,提高闪烁体辐照硬度的主要方法有退火、漂白、掺杂、控制晶体生长条件等,本文对此均作了较系统的综述了,同时也简介了研究辐照效应的实验方法:光谱分析法、热释光法、电子顺磁共振法、正电子湮没技术。  相似文献   

8.
钨酸铅(PbWO4)闪烁晶体的结构研究进展   总被引:2,自引:0,他引:2  
介绍近年来在钨酸铅闪烁晶体结构研究方面所取得的进展,表明钨酸铅晶体结构具有结构多型性和非化学计量配比的特征,说明了晶体结构这一因素在钨酸铅晶体研究中的重要性.  相似文献   

9.
介绍近年来在钨酸铅闪烁晶体结构研究方面所取得的进展,表明钨酸铅晶体结构具有结构多型性和非化学计量配比的特征,说明了晶体结构这一因素在钨酸铅晶体研究中的重要性.  相似文献   

10.
钨酸铅(PWO)晶体由于自身特点:高密度(8.28g/cm~3)、短辐射长度(0.87cm)和Moliere半径(2.12cm)、快的闪烁衰减时间((?)<50ns)以及较强的抗辐照损伤能力,已经成为了最具发展潜力的闪烁晶体之一,作为一种良好的闪烁晶体,PWO晶体在高能物理、核医学等领域有着广泛的应用。主要综述了PWO晶体的结构、发光机制、自身缺陷、晶体生长的研究现状,着重阐述了生长工艺改善和离子掺杂改性对钨酸铅晶体性能的影响,分析了PWO晶体的发展前景。  相似文献   

11.
钨酸铅晶体生长及其组份挥发   总被引:16,自引:4,他引:12  
本文首次报道了用坩埚下降技术生长钨酸铅(PWO)晶体;研究了提拉和坩埚下降两种技术生长PWO晶体的组份挥发,得到的结果是PbO的挥发速率高于WO3,并对一组晶体不同部位的X射线发光性能作了研究.  相似文献   

12.
Y3+离子掺杂钨酸铅晶体特殊的低剂量率辐照行为一般在晶体顶端表现更为明显,以往研究认为该现象起因于晶体中有效分凝系数<1的Na+、K+和Si4+等杂质在顶端的富集.本文研究了Si4+掺杂的Y3+:PWO晶体,对晶体顶端和晶种端的分段晶体测试了退火温度对晶体透过率和辐照硬度的影响,结果发现:在实验所涉及的掺杂浓度范围内,Si4+离子杂质对Y3+:PWO晶体的辐照硬度及透过率无影响,可以认为Y3+:PWO晶体特殊的低剂量率辐照行为和晶体中的Si4+离子含量无关.  相似文献   

13.
本文报道了用改进的坩埚下降技术生长PbWO  相似文献   

14.
部分PWO:Y^3 晶体辐照后光产额升高,并且辐照硬度对退火温度较敏感。本文选取未掺杂及Sb、La^3 ,Y^3 单掺和La^3 /Sb,Y^3 /Sb双掺的PWO样品进行对照实验,同时选取代表性晶体的顶部急冷料做了X射线荧光主量分析。结果发现;低剂量辐射后光产额升高现象只存在于含Y^3 离子的PWO晶体中,并且这类晶体往往存在420nm吸收带;在改进Bridgeman法生长PWO晶体的后期,使熔体保持一定程度的负电性将有利于抑制该现象,即可有效地抑制同样是负电性的间隙氧进入晶体。结合测试数据,本文讨论了该现象的起因和机理,提出了掺杂剂的选择原则。  相似文献   

15.
《Materials Letters》2004,58(1-2):159-162
Yb3+-doped PbWO4 single crystal was grown using modified vertical Bridgman method. X-ray diffraction (XRD) analysis, optical absorption spectra, X-ray excited luminescence (XEL), fluorescence of 2F5/22F7/2 and its lifetime at room temperature were investigated. PWO:Yb3+ shows the broad absorption of Yb3+ (850–1050 nm) and efficient emission (950–1100 nm). Annealing exerts a distinct influence on the PWO:Yb3+ crystal, e.g. disappearance of color and annihilation of the absorption in the region around 450–750 nm, meanwhile the absorption of Yb3+ ions was enhanced by the annealing treatment. A novel luminescence band on the X-ray excited luminescence spectra of PWO:Yb3+ centered at about 500 nm was observed overlapped on that of PWO host.  相似文献   

16.
退火处理对PbWO4晶体闪烁性能的影响   总被引:3,自引:0,他引:3  
本文报道了用改进的坩埚下降技术生长PbWO4晶体经退火处理后,对X射线激发发射谱,透过谱以及抗辐照损伤能力的影响,指出PbWO4晶体在适合的富氧气氛环境和温度制度下经退火处理后,闪烁性能及抗辐照能力明显得到改善。  相似文献   

17.
熔体组成与PbWO4:Y3+晶体闪烁性能稳定性的关系   总被引:1,自引:0,他引:1  
部分PWO:Y3+晶体辐照后光产额升高,并且辐照硬度对退火温度较敏感.本文选取未掺杂及Sb、La3+、Y3+单掺和La3+/Sb、Y3+/Sb双掺的PWO样品进行对照实验,同时选取代表性晶体的顶部急冷料做了X射线荧光主量分析.结果发现:低剂量辐照后光产额升高现象只存在于含Y3+离子的PWO晶体中,并且这类晶体往往存在420nm吸收带;在改进Bridgeman法生长PWO晶体的后期,使熔体保持一定程度的负电性将有利于抑制该现象,即可有效地抑制同样是负电性的间隙氧进入晶体.结合测试数据,本文讨论了该现象的起因和机理,提出了掺杂剂的选择原则.  相似文献   

18.
高质量钨酸铅(PWO)晶体的生长   总被引:6,自引:0,他引:6  
用改进的垂直坩埚下降法成功地生长了高质量的钨酸铅晶体,晶体毛坯的尺寸为28min×28mm×360mm;晶体的生长工艺参数为:籽晶取向[001];下降速度 0.6~1.0mm/h;生长界面附近的温度梯度为20~30℃/cm,加工后的晶体成品在420nm附近的透过率>60%;在360nm附近的透过率>25%.晶体的光输出>9p.e/MeV;光伤<5%.  相似文献   

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