上颌第一、第二磨牙间腭侧微种植支抗钉植入安全位置的CBCT研究

目的应用锥形束CT(cone beamCT,CBCT)测量在上颌第一、第二磨牙间腭侧以不同角度植入微种植支抗钉时上颌第一、第二磨牙腭根间近远中向宽度,以及微种植支抗钉植入路径的黏膜厚度和骨组织厚度,为临床选择微种植支抗钉植入位置提供参考。方法选取90例成人患者,以其颌骨进行扫描重建的CBCT资料为研究对象,在上颌腭侧,第一磨牙和第二磨牙之间选取距上颌第一磨牙腭尖12、14、16、18 mm的软组织标志点作为测量位置,分别测量与牙长轴成30°、45°、60°、90°时上颌第一、第二磨牙腭根之间的近远中向宽度及微种植支抗钉植入路径的黏膜厚度和骨组织厚度。采用SPSS 26.0软件进行单因素方差分析及LSD法两两比较。结果植入微种植支抗钉角度越大,上颌第一、第二磨牙腭根间的近远中向宽度越小,差异具有统计学意义(P<0.05),与90°方向相比,以60°方向植入时近远中向宽度更大,接触相邻牙根的概率更小;植入角度越大,黏膜厚度越小,结果具有显著性差异(P<0.001),与30°、45°方向相比,以60°方向植入时黏膜厚度更小,微种植支抗钉进入骨组织内的长度更大更稳定。植入微种植支抗钉位置越高,近远中向宽度越大,差异具有统计学意义(P<0.05),与12、14 mm位置相比,距上颌第一磨牙腭尖16 mm植入时近远中向宽度更大,接触相邻牙根的概率更小;植入位置越高,黏膜厚度越大,差异具有统计学意义(P<0.001),与18 mm位置相比,距上颌第一磨牙腭尖16 mm植入时黏膜厚度更小,微种植支抗钉进入骨组织内的长度更大,更稳定。结论在上颌第一、第二磨牙间腭侧,距上颌第一磨牙腭尖16 mm以60°方向植入微种植支抗钉较为安全。     

CBCT转化的二维平片与头颅侧位片对上气道二维测量的比较研究

目的: 研究三维CBCT转化的二维侧位片(CCB)和数值化头颅侧位片(LCR)对于上气道相同解剖部位的测量结果是否有差异,并且进行两种测量方法的可靠性分析。方法: 将个别正常牙合志愿者的CCB和LCR分别导入Winceph8.0中进行上气道矢状面的距离测量;同一测试者分别进行3次测量; 采用SPSS24.0统计软件,进行组内相关系数、配对t检验来检验不同测量的可靠性和统计学差异。结果: 个别正常牙合志愿者的CCB和LCR分别对上气道进行测量,测量结果符合正态分布后,用配对t检验发现两组不同测量方法所得的PNS-Ba、PNS-Ad1、H-C3、H-FH有统计学差异;每项测量项目都进行3次测量,发现ICC值均大于0.75,说明两种测量方法可靠性均较高,但CBCT转化的二维平片ICC平均值为0.930,而头颅侧位片的ICC平均值为0.830,说明CBCT转化所得的二维平片可靠性高于头颅侧位片。结论: 个别正常牙合的CCB和LCR在骨性标志点的测量值有统计学差异,而软组织标志点的测量值则没有统计学差异;两种测量方法可靠性均较高,但CCB可重复性高于LCR。     

骨性Ⅱ类患者正畸前后下颌第三磨牙倾斜角度变化研究

目的 应用锥束CT探讨骨性Ⅱ类患者正畸前后下颌第三磨牙(M3)近远中倾斜角度的变化.方法 选取自2012年1月至2018年12月就诊于北部战区总医院口腔科的60例正畸患者为研究对象.按FMA角及FHI值将患者分为A组(骨性Ⅱ类均角拔牙矫治,n=20)、B组(骨性Ⅱ类高角拔牙矫治,n=20)及C组(骨性Ⅰ类均角非拔牙矫治...     

关闭拔牙间隙时配合应用上颌前牙种植体支抗垂直向控制的三维有限元研究

目的:关闭拔牙间隙时配合应用上颌前牙种植体支抗垂直向控制,研究不同压低方式上颌前牙及牙周膜的应力分布及上颌前牙的位移情况.方法:构建三维有限元模型,模拟关闭拔牙间隙时,在上颌前牙区的不同位置配合应用共0.5 N的垂直向压低力,对不同工况下牙齿的应力分布和位移情况进行分析.结果:配合应用上颌前牙种植体支抗垂直向压低力后,...