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基于复合光波导偏振干涉技术的高灵敏度生化检测仪 总被引:1,自引:0,他引:1
利用射频溅射技术在一个单模玻璃光波导的局部表面淀积一层两端呈梯度的高折射率透明氧化物薄膜,形成低损失、高灵敏度平面复合光波导芯片。这种结构能够使得玻璃光波导内沿同一路径传播的横电基模(TE0)与横磁基模(TM0)在梯度薄膜区间产生纵向空间分离,导致TE0模的消逝场相比TM0模显著增强。利用复合光波导芯片,结合棱镜-样品池组合体和集成式选偏光探测器研制出基于偏振干涉测量的OWG-01型生化检测仪。对液体折射率响应的测试结果表明复合光波导芯片的热光效应非常小,而仪器的测量误差主要来自待测液体自身的折射率随温度的变化。 相似文献
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采用溶液-凝胶浸渍涂布工艺在Al_2O_3陶瓷管上制备了掺杂SnO_2气敏薄膜;利用高温热解法在SnO_2薄膜表面覆盖SiO_2气体分离膜后制得双层薄膜气敏元件。分别测试并比较单层和双层薄膜元件的气敏特性,结果表明:单层薄膜元件对可燃性气体无选择性、响应和恢复时间短;而双层薄膜元件对氢气表现出极高的灵敏度和优越的选择性,其响应和恢复时间都比单层薄膜元件有所延长,结合实验结果,从理论上阐述了双层薄膜元件对氢气的敏感机理。 相似文献
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提出了一种基于光纤法布里-珀罗(F-P)干涉仪的温度传感器,传感器的敏感部分是一段两端研磨为平面的单模光纤,它的一端与一根单模传光光纤相接以形成一个反射面,另一端与空气接触形成另一个反射面,这两个反射面与敏感部分光纤形成本征光纤F-P干涉仪(IFPI).分析了该光纤温度传感器的温度响应特性,制作了传感器原理样机,搭建了测试平台,并对原理样机进行了测试.在25 ~30℃的范围内对传感器进行了标定,测得温度响应灵敏度为21.504·2πrad/℃,温度分辨率为0.046℃.实验结果表明:该传感器对温度有较好的线性响应和较高的灵敏度,且制作工艺简单,成本低,具有良好的应用前景. 相似文献
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本文主要介绍了微结构气敏传感器制造工艺中的关键技术,例如双面光刻、反应等离子刻蚀、硅的各向异性腐蚀、采用溶胶—凝胶镀膜技术制备WO3敏感薄膜。文中还给出WO3薄膜的XRD和SEM表面分析图。对结构和表面形貌进行了分析,并给出传感器的气敏特性曲线。最后对存在的问题进行了简单的讨论。 相似文献
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Reactive ion etching(RIE) of LiNbO3(LN) in SF6 plasma atmosphere was studied for optimizing the preparation conditions for LN ridge waveguides.The samples to be etched are Ti-diffused LN slab waveguides overlaid with a chromium film mask that has a Mach-Zehnder interferometer(MZI) array pattern.The experimental results indicate that the LN-etching rate(RLN) and the Cr-etching rate(RCr) as well as the rate ratio RLN/RCr increase with either increasing the radio-frequency(RF) power at a given SF6 flow rate or increasing the SF6 flow rate at a fixed RF power.The maximum values of RLN = 43.2 nm/min and RLN/RCr = 3.27 were achieved with 300 W RF power and 40 sccm SF6 flow.When the SF6 flow rate exceeds 40 sccm,an increase in the flow rate causes the etching rates and the rate ratio to decrease.The scanning electron microscope images of the LN ridge prepared after~20 min etching show that the ridge height is 680 nm and the sidewall slope angle is about 60°. 相似文献
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采用一种简单的新工艺分别在硅片和氧化铝陶瓷基片上制备了r-Fe2O3薄膜。该工艺分3步完成:首先利用Fe(NO2)3酒精溶液通过浸渍涂布工艺制备a-Fe2O3薄膜,其次a-Fe2O3薄膜在氢气流中、320 ̄350℃之间热处理30min被还原为Fe3O4薄膜,最后Fe3O4薄膜在空气中250℃左右热处理30min被氧化为r-Fe2O3薄膜。XRD和SEM分析结果表明该r-Fe2O3薄膜呈尖晶石物相和 相似文献