Y_1Ba_2Cu_3O_x高温超导体准分子激光诱导等离子体发射光谱的研究

准分子激光烧蚀法在高温超导薄膜制备技术中取得的极大成功激励着人们去探索和揭示准分子激光烧蚀过程的动力学机制和薄膜外延生长的机理。目前,人们集中研究的主要问题包括:(i)超导体受到高能量密度紫外脉冲激光的照射时,是何种作用机制导致了大量靶材物质沿着靶面法线方向的喷射。(ii)由靶面喷射出的物质以何种形式和形态出现,究竟是原     

由时间飞行光谱技术测量激光制膜过程中出射粒子的飞行速度

激光烧蚀沉积法是近几年迅速发展起来的新型高温超导薄膜以及超导微电子器件制备的一项重要工艺。实验研究表明,采用这种沉积方法能够实现超导薄膜的原位低温外延生长,进而易于获得性能优良的超导膜,其原因除了在制膜过程中靶面上各种元素具有     

脉冲激光淀积高电流密度的YBCO超导带材

采用脉冲激光加辅助离子源的方法在长为６．０ｃｍ的ＮｉＣｒ合金基带上制备０．１３μｍ厚的Ｙ－ＺｒＯ２（ＹＳＺ）隔离层，再用脉冲激光在ＹＳＺ／ＮｉＣｒ带上制备１．５μｍ厚的ＹＢａ２Ｃｕ３Ｏ７－ｘ超导厚膜形成ＹＢＣＯ／ＹＳＺ／ＮｉＣｒ超导带材。实验测得在７７Ｋ，０Ｔｅｓｌａ下其临界电流密度为８．７５×１０４Ａ／ｃｍ２，超导转变温度为８８．６Ｋ。     

氧气放电辅助激光淀积原位制备高T_c超导薄膜

采用低压氧气放电辅助的激光淀积方法,原位外延生长出零电阻温度91K,临界电流密度10~5A/cm~2的Y-Ba-Cu-O高温超导薄膜。扫描电镜和X光衍射分析结果表明,薄膜中超导相晶粒的生长具有c轴垂直于表面的择优取向。     

激光溅射淀积Y-Ba-Cu-O超导薄膜

利用准分子激光束辐照Y-Ba-Cu-O超导靶体,使之元素溅射出来,喷到平行于靶面的基片之上而淀积成膜,然后通过适当的退火过程,所制薄膜在液氮温区具有超导性。制取了零电阻温度85K的高温超导薄膜;讨论了淀积条件与退火过程对薄膜超导性能的影响。     

准分子激光溅射法制备高温超导薄膜

利用准分子激光光束照射钇钡铜氧超导体,取得了零电阻温度为85K 的钇钡铜氧超导薄膜;研究了淀积条件与退火过程对薄膜成份及超导性能的影响。     

快速流动工业CO_2激光器的输出稳定性

一、工业激光器对输出稳定性的要求在大多数实际应用中,允许激光总输出功率P的脉动为δp(?)(3～5)×10~(-2)P。输出功率的稳定性对淬火过程特别重要。当前CO_2激光器的光束发散度γ在1～10mrad范围内。在激光切割中,若切口的宽度由焦点的直径确定,那么,对于聚焦系统f～0.2～0.5m的典型焦距和切口边缘不平整度a(?)0.1mm,允许的光束发散度不稳性为δγ≤a/f≈(2～5)×10~(-4)rad。淬火过程中,激光功率密度允许的不稳定性约为5％,发散度的脉动不得超过2.5％,即δγ≤2×(10~(-4)～10~(-5))rad。在工件切割和焊接过程中,对激光光轴的     

激光扫描制备大尺寸超导薄膜的理论分析

提出了利用激光扫描剥离靶材,沉积膜厚分布均匀的大尺寸高温超导薄膜分析模型。利用这模型取得的结果表明:激光扫描方法沉积的薄膜厚度分布依赖于激光扫描半径、靶面与基片的间距。对于一定均匀性程度要求的薄膜,存在一个能获得最大尺寸薄膜的最佳激光扫描半径。实验结果与理论分析基本一致。     

403激光诱导等离子体的粒子空间分布

４０３激光诱导等离子体的粒子空间分布安承武，宋文栋（华中理工大学激光技术国家重点实验室，武汉４３００７４）Ｍ．Ｍｅｒｔｉｎ，Ｅ．Ｗ．Ｋｒｅｕｔｚ（ＬｅｈｒｓｔｕｈｌｆｕｅｒＬａｓｅｒｔｅｃｈｎｉｋ，ＲＷＴＨＡａｃｈｅｎ，Ｄ－５２０７４　Ａａｃｂｅｎ）...