图像复原在波前功率谱密度计算中的应用

移相干涉术易受环境振动的干扰,获得的波前相位的干涉图信息不完整,无法准确给出光学元件表面的频谱分布信息。中值滤波技术是一种既能去除噪声,又能较好保护图像边缘细节的非线性技术,通过改进中值滤波技术对波前相位数据做了复原处理,比较了数据复原前后的波前功率谱密度,结果表明采用这种图像复原方法可以有效地表达光学元件表面的频谱信息。     

21世纪的光刻技术

当前世界半导体工业按照摩尔定律,以快速发展的势头向21世纪,光刻特征线宽越来越小,硅片直径越来越大,制造成本越来越高。到2000年0.18μm工艺、300mm硅片的技术将完全进入规模化大生产阶段。在不远的将来,微电子设备的发展将达到传统光学     

MEMS运动件的芯片外机械驱动方法

研究MEMS微结构的片外机械式驱动问题,介绍了在MEMS硅芯片背面贴合一块宏观尺度PZT片的驱动思想即PZT产生机械运动,在硅固定件与微运动件之间产生动量耦合,从而驱动微运动件.重点探讨脉冲驱动、振动驱动两大类基本驱动方法及其特点,介绍国外代表性研究结果,并提出对该方法进一步研究的观点与设想.     

生物芯片扫描仪研究进展

简要介绍生物芯片的基本概念以及生物芯片检测装置的国内外发展动态;分别介绍了本文设计的CCD系统生物芯片检测仪和激光共聚焦生物芯片扫描仪的原理、结构、工作状况以及设备的技术参数。最后指出更高分辨率(小于1μm)的生物芯片扫描仪是该设备今后的发展趋势。     

用亚稳态氩原子束制作纳米结构

纳米结构制作是纳米技术的重要组成部分,原子光刻技术是纳米图形制作的一项新方法.对直流高压放电产生的亚稳态氩原子束进行准直减小其发散角,亚稳态原子在与之传播方向垂直的激光驻波场中发生淬火并沉积在基底上,破坏吸附在基底表面的SAM膜(self_assembled monolayers),结合刻蚀技术可制作出纳米量级的图形.给出该技术制作纳米图形的基本原理、方案、相关理论及模拟结果.     

激波调制光子晶体频率转换效应的研究

研究了被激波调制的光子晶体对入射光产生的频率转换效应。建立了弹性激波调制一维光子晶体的物理模型;提出了准静态带隙结构的概念,并采用FDTD和平面波展开法计算了其光子带隙;通过数值计算和微扰分析,发现该频率转换是一个量化累积过程,并对该频率转换效应及其量化累积现象提出一种基于光子一声子相互作用和表面衰减模的解释,同时,分析了该频率转换效应的特性。     

用光梯度场控制原子制做纳米点阵研究

提出制做纳米点阵的一种新方法。用波长为 4 2 5 .5 nm的光梯度场操纵铬原子可制做出阵列密度达 2 .2 1× 10 7per/ mm2、理论半高宽度 (FWH M)可达 10 nm的纳米点阵。介绍用光梯度场操纵原子制做纳米点阵的原理 ,对原子束的准直进行分析 ,给出原子束在激光梯度场中聚焦的经典模型和量子模型并进行数值模拟。用光操纵原子制做纳米点阵使器件的阵列密度和尖端曲率得到大幅度提高 ,该器件作为发射极可以降低工作电压和提高发射电流。     

JK—1型半自动接近式光刻机显微物镜的高精度对心

本文介绍了JK—1半自动接近接触式光刻机显微物镜的结构,以及对该显微物镜高精度对心的方法,装置、精度分析和实测结果。实测结果表明,这种对心方法能满足显微物镜的高分辩率,象质好的要求,并已达到理论设计水平。此种高精度对心方法同样能适应大数值孔径,高分辨率,更高精度显微物镜的装配和校正。     

MEMS运动件的芯片外机械驱动方法

研究MEMS微结构的片外机械式驱动问题 ,介绍了在MEMS硅芯片背面贴合一块宏观尺度PZT片的驱动思想即PZT产生机械运动 ,在硅固定件与微运动件之间产生动量耦合 ,从而驱动微运动件。重点探讨脉冲驱动、振动驱动两大类基本驱动方法及其特点 ,介绍国外代表性研究结果 ,并提出对该方法进一步研究的观点与设想。     

ASML公司光学光刻技术最新进展

荷兰ASML公司作为全球三大光刻机集成生产商之一，通过不断的技术创新，在全球光刻机市场上居于领先地位。在简单介绍光刻机基本工作原理和主要技术指标的基础上，详细分析了ASML公司在光学光刻技术方面的最新技术进展。