光学元件表面疵病标准板系统设计

为解决大口径光学元件表面疵病检测设备的精确测量、校准和溯源问题。设计了用于标定表面疵病检测系统的标准板,通过电子束曝光将定标图案转移至掩模板,再采用反应离子束刻蚀的方法制作标准板。通过扫描电镜测量标准板上各标准线的真实线宽尺寸,并以扫描电镜测量结果为参考值标定大口径表面疵病检测系统。利用所设计的标准板标定基于散射成像法的大口径表面疵病检测系统。结果表明,当疵病线宽尺寸大于45 μm时,疵病的散射像满足几何成像原理,当疵病宽度尺寸小于45 μm时,需按标定结果进行计算。     

CO2激光器在光学元件表面处理中的应用

介绍了CO2激光修复光学元件表面损伤用其对基片表面缺陷进行抛光的原理、内容以及最新进展，分析了CO2激光修复光学元件表面损伤对元件抗损伤阈值的提高所起的重要作用，并指出技术巾存在的问题。     

多表面干涉下的光学元件面形检测

为了消除平行平板类光学元件的多表面干涉效应对元件面形测量的影响,提出了基于波长移相调谐技术与傅里叶变换原理的多表面干涉条纹检测技术.首先,根据波长移相原理和被测元件的厚度,按照推算出的被测腔长与元件厚度间的比例关系正确摆放被测元件的测试位置.然后,通过波长移相技术采集一组干涉图.最后,对这组多表面干涉图进行离散傅里叶变换,提取带有被测元件前后表面面形的频率信息以及厚度变化的频率信息,通过重构算法得到准确的面形信息和厚度信息.实验结果表明:与传统的13步移相算法相比,得到的前表面PV值和RMS值分别相差0.003和0.001,而后表面PV值与RMS值分别相差0和0.001.这些结果基本满足平行平板类光学元件面形的高精度测量与洁净测量的要求.     

干涉法测量光学材料光学非均匀性

为了实现光学材料光学非均匀性的高精度检测,采用将光学材料制成一小楔角(小于0.117°)光学元件并利用菲索干涉法检测其光学非均匀性的方法,对测量过程进行了理论仿真分析和熔石英材料光学非均匀性的实验验证,取得了熔石英材料的光学非均匀性数据,峰谷值为4.33×10-6,均方根值为0.862×10-6,测量准确度优于4.8×...     

中国电子商务诚信问题分析及对策研究

2012年5月4日发布的《互联网行业＂十二五＂发展规划》提出,2015年电子商务交易额达到18万亿元,并要求积极推进第三方电子商务平台建设和移动电子商务的规模应用。我国电子商务将迎来加速发展的重要时期。在现今我国电子商务如此高速发展的情况下,却有着诸多诚信问题制约着我国电子商务的发展。本文通过分析电子商务企业与消费者的主要特征以及电子商务诚信问题的表现形式,对电子商务诚信问题根源性进行分析,并提出相应解决办法。     

KDP晶体光学均匀性检测实验研究

本文阐述了正交偏振干涉测量技术的基本原理和实验方法.Fizeau干涉仪的输出激光束经过线偏振镜后变为线偏振光,调整偏振方向让光束的偏振态分别平行于KDP晶体的o轴和e轴,得到两幅干涉图.通过这两幅干涉图的差值得到晶体的折射率分布不均匀性.该检测技术借助可改变输出激光偏振态的大口径干涉仪精确地测量晶体在切割方向上.光折射率和e光折射率的偏差.本文所采取的方法是在大口径干涉仪的小端口放入可改变偏振方向的线偏光镜.本文通过对一批330mm×330mm的大口径KDP晶体的折射率均匀性测量验证了该方法.     

高速发展的我国宽带数据通信业务

近几年来,我国数据通信业务发展很快。在基础网络平台方面,中国公用分组交换网(CHINAPAC)和中国公用数字数据网(CHINADDN)两网的端口总数已达20万个,用户数超过7万户,可为用户提供的接口速率从1.2Kb/s到2Mb/s,另外还开通了电子邮件Email、传真存储转发、电子数据交换(EDI)、可视图文、在线信息服务等增值业务,基本上满足了现阶段信息通信对基础网络平台的需求。与此同时,随着宽带通信技术和多媒体技术的发展,邮电部门从1995年起,开始在原有CHINAPAC和CHINADDN的基础上,进行宽带数据业务网试验,目前已经在北京、上海、广州等八个城市安装宽带数     

微量放射性元素铀,锝的生物毒性研究—以梨形四膜虫为生物模型

本文探讨了放射性元素铀(UO_2(NO_3)_2)和锝(NH_4~(99)TcO_4)的生物和化学毒性,选取梨形四膜虫细胞为生物模型,分别研究铀和锝对其生长分裂的作用。实验发现,当聚蛋白陈培养液中添加铀浓度为0.02-20ppm,锝浓度在0.1-100ppm范围时,它们对细胞生长没有不利影响。铀浓度>100ppm,锝浓度>500ppm时,它们开始抑制细胞的生长和分裂。铀和锝浓度高达1200ppm时,细胞虽被明显的抑制,但仍能生长繁殖。从而表明它们属于低毒元素,为今后进一步开展和推广其应用,从生物细胞层次上提供了有益的参考。     

氧等离子体清洗对sol-gel薄膜透过率的影响

利用高频激发氧等离子体对sol—gel薄膜（旋转单面单层SiO2膜）进行清洗处理，并对清洗前后的样品进行时间不等的处理，发现样品在清洗后，透过率曲线向短波长方向移动，并且透过率峰值增加。随着存放时间的变化，透过率曲线也变化。在存放20天后膜层透过率曲线峰值和位置不再变化。     

光学膜层的激光预处理过程研究

重点研究了激光造成的膜层轻微损伤的微观结构和光学性质,分析了膜层表面质量、激光强度和照射次数对膜层表面变化的影响,以此为依据指导激光预处理方法来提高光学元件损伤阈值.就激光损伤机理而言,不管是雪崩离化机制还是多光子吸收机制,都直接或间接地与光学膜层的微观杂质、缺陷有关,预处理过程就是有效消除使膜层产生严重损坏的因素,即消除杂质和缺陷的过程,所以,预处理过程同时也是一个使膜层产生微损伤的过程.工作研究了几种sol-gel膜、PVD膜在预处理前后膜层表面的变化(损伤形貌),损伤阈值的增幅,发现最大不损伤能流值越高的膜层,其预处理效果更好.预处理过程膜层的安全性(减低预处理对膜层的破坏程度)、膜层的预处理效果与两种因素有关,即膜层的内在质量(与膜层缺陷无关的质量)和预处理的激光能量参数(包括初始能量、能量增量、频率等).本身缺陷或杂质较少(或小),阈值较高的膜层,预处理过程中激光能量可以大跨度增加(3～4次激光辐照),且预处理产生的损伤较小.激光对膜层的清洗作用是预处理过程的主要机制,采用水蒸汽凝结法对比水气在预处理膜层上的凝结和蒸发速度,证明其表面对水的接触角明显降低,既洁净度提高,但这不是大幅度提高损伤阈值的主要因素.对于缺陷和杂质较多的膜层(如多层反射膜),即使严格控制激光预处理条件,预处理过程中会不可避免地产生不同程度的微损伤,大部分微损伤点的位置与原始的缺陷和杂质点相吻合,由于这些缺陷是降低膜层整体损伤阈值的主要原因,所以,预处理效果明显(最高阈值增加达2倍),通过增加预处理过程中的能量分段,可降低微损伤的程度,提高其在工作能流下的稳定性,达到预处理的目的.(OH8)