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Windows 2000下的PCI设备的WDM驱动程序设计与研究 总被引:3,自引:1,他引:2
讨论了Windows2000下利用DDK开发PCI设备的WDM驱动程序的设计原理、方法及在设计中的注意事项。并实现了PCI设备的具有内存和I/O读写及中断处理的WDM驱动程序。 相似文献
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分析了离子束加工材料去除效率、不同材料之间的相对去除效率与工艺参数的关系。基于Sigmund溅射理论,建立表征去除效率的指标-法向去除率、体积去除率和溅射产额与束能、束流以及入射角度之间的关系模型。以石英、微晶和K4等为样件,实验分析了去除效率与工艺参数的关系,验证了模型的正确性。分析结果表明材料去除效率随束流线性增大;约与束能平方根呈线性关系;随着入射角度先缓慢增大,约在60~80°达到最大值,尔后迅速降为零。不同材料之间的相对去除效率与束流无关;与束能的关系较弱,可以忽略;随角度变化较为明显。 相似文献
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基于DS18B20的数字式温度控制系统 总被引:1,自引:0,他引:1
在生化检测过程中,常需使试样处于恒温环境中,且要求较高的温度准确度和稳定度。针对该应用,用DS18B20作温度传感器,用金属电热膜作加热元件,用单片机M16C/62作控制器,构成一个数字式温度控制系统。试样盛放在试管中,通过金属电热膜对安插试管的金属底座加热来控制试样的温度。在目标温度为43.5℃时,分别用数字PID控制和模糊控制两种方法进行了试验,温度波动均为±0.125℃。这种数字式温度控制系统结构简单,加热元件可根据不同的功率和形状进行定制,特别适合小型智能化生化仪器的恒温控制。 相似文献
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基于Bayesian原理的低陡度光学镜面面形误差离子束修正驻留时间算法 总被引:2,自引:0,他引:2
离子束修形是一种高效修除镜面误差的技术,驻留时间求解算法是此技术的关键问题之一。以光学镜面计算机控制成型原理为基础,建立基于Bayesian原理的平面镜面驻留时间算法,对数据边缘进行Gaussian延拓以消除边缘效应。分析驻留时间近似速度实现方式的实现误差与工艺参数的关系,通过在算法中引入附加光滑修正因子以提高驻留时间实现精度。在适当的路径规划下,将低陡度非球面修形过程近似用平面修形过程线性模型来描述,最终形成低陡度光学镜面面形误差离子束修正中驻留时间的快速近似算法。利用此算法对 100平面镜和 200球面镜进行修形加工,加工收敛率均可达9。研究结果表明:线性化近似模型是合理的,速度近似计算是可行的,基于Bayesian原理的低陡度非球面驻留时间求解算法是一种快速高效面形控制技术,可对镜面进行确定性精确修形。 相似文献
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光学元件离子束修形去除效率分析 总被引:1,自引:0,他引:1
离子束修形(IBF)技术成为光学零件获得超高面形必不可少的加工工艺.修形过程中采用光阑获取小的束径、稳定的去除函数是获得超高面形精度的前提.不同材料和工艺参数等不同条件下获得的去除函数都不相同,每次修形前都要重新测量去除函数.研究了不同入射能下、不同靶距下以及有无光阑时去除函数的变化.发现在离子光学系统几何参数一定的条件下,离子束去除函数的效率变化与入射能量、离子体浓度引起的离子鞘形状、束散角、温度、靶距、净加速电压与总加速电压之比的变化等因素都有关.当增大入射能量时,去除效率随之增加,但当入射能量大于一定值后就会出现随着入射能量增加而去除效率降低的"拐点"现象.有无光阑只改变去除效率的大小而不会改变"拐点"现象.因此不选用入射能量增大而去除效率减小的"拐点"之后的入射能量修形. 相似文献
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束流参数对光学镜面离子束加工去除函数的影响分析 总被引:1,自引:0,他引:1
在离子束光学镜面修形加工中,束函数的形状和大小决定了加工的修形能力和加工效率.虽然束函数的形状和大小可以通过一组工艺参数进行调节,然而,这组工艺参数对束函数影响的理论计算较为复杂,而且理论计算值与实验值也吻合的通常存在差异.为了找出工艺参数对束函数的影响规律,本文通过实验研究了离子束的几个主要的工艺参数(屏栅电压、屏栅电流、加速栅电压、中和极功率、氩气流量)对束函数的影响规律,建立了光学镜面离子束加工基本工艺参数数据库,为光学镜而离子束修形加工的工艺参数选择提供了指导依据. 相似文献