Au纳米粒子修饰纳米片状结构衬底的SERS研究

通过电化学共沉积和化学脱合金处理在金属W片上制备了纳米片状基底,将Au纳米粒子通过等离子溅射到纳米片状基底上得到表面增强拉曼散射(SERS)衬底。采用扫描电子显微镜(FE-SEM)、能谱仪(EDX)对复合纳米衬底进行表征,罗丹明6G作为探测分子对SERS衬底的拉曼表面增强效果进行检测。通过实验发现:三维空间结构的纳米片状结构具有拉曼表面增强效应,溅射Au纳米颗粒得到的Au纳米片衬底信号增强效果显著。     

NaZr2(PO4)3晶体的水热合成与表征

用水热法在较低温度较短时间内制备了NaZr2(PO4)3晶体,对其合成机制进行了讨论,采用XRD,SEM,IR,TEM和BET等方法对制备的样品进行了表征.结果表明,所合成的NaZr2(PO4)3晶体具有良好的结晶度,尺寸分布在100nm～400nm之间,晶体平均孔隙直径为7.566nm.与沸腾回流法相比较表明,此水热法是更为有效的合成方法.     

原位模板法在铝基底上制备TiO2纳米管阵列薄膜

采用液相沉积法，将铝基多孔阳极氧化铝（AAO）模板浸入到（NH4）2TiF6溶液中，制备出高度有序的TiO2纳米管阵列薄膜，并在不同的温度下进行了热处理。用场发射扫描电子显微镜、透射电子显微镜和X射线衍射仪等手段对试样的微观形貌、结构及物相进行了表征。结果表明，TiO2纳米管的形貌依赖于AAO的特征，薄膜是由外径大约200nm，壁厚约40nm的TiO2纳米管阵列组成，薄膜厚度约25μm。原位模板法制备的TiO2纳米管阵列薄膜为非晶态，在400℃空气中焙烧2h转变为锐钛矿相TiO2。经过650℃焙烧仍保持纳米管结构，表现出较好的热稳定性。     

从炼铜炉渣中提取有价金属

介绍了铜、钴、镍金属在铜冶炼炉渣中的损失及其工艺矿物学特征;简述了炉渣选矿、火法贫化及湿法分离提取这些有价金属的原理与过程。     

高热负荷对钨铜材料工作应力分布影响的研究

采用高热负荷实验并结合有限元计算考察和分析了热流密度对钨铜合金工作应力分布的影响。结果表明：钨铜材料作为过渡层可以降低工作应力,当热流密度为1 MW/m2时,在钨板与铜块间焊接W60Cu合金作为过渡层,可使最大应力值比没有过渡层降低36%左右;工作时最大应力出现在两侧焊接层附近,并随热流密度增大而增大;钨铜合金（W60Cu）作为过渡层的试样在两焊缝处的应力,上部焊缝应力较大,下部焊缝应力较小。     

梯度复合B_4C/Cu面向等离子体材料的制备与表征

基于Ｂ４Ｃ和Ｃu材料具有明显电阻率及熔点差的特点,提出了在超高压下通电快速烧结Ｂ４Ｃ／Ｃｕ梯度复合材料的新工艺．在 ２～４ＧＰａ、１２ｋＷ,４０ｓ及适当的热处理条件下成功制备出了成分分布从０～１００％的接近理论密度的Ｂ４Ｃ／Ｃu层状复合材料;显微观察显示材料的成分和结构是呈梯度分布的．化学溅射实验表明其产额比 ＳＭＦ ８００核纯级石墨降低 ７０％;在Ｔｏｋａｍａｋ原位等离子体辐照下,材料表面无明显损伤．     

梯度复合B4C/Cu面向等离子体材料的制备与表征

基于B4C和Cu材料具有明显电阻率及熔点差的特点,提出了在超高压下通电快速烧结B4C／Cu梯度复合材料的新工艺。在2－4GPa,12kW,40s及适当的热处理条件下成功制备出了成分分布从0－100％的接近理论密度的B4C／Cu层状复合材料;显微观察显示材料的成分和结构是呈梯度分布的。化学溅射实验表明其产额比SMF800核纯级石墨降低70％;在Tokamak原位等离子体辐照下,材料表面无明显损伤。     

光电化学方法在锆及其合金氧化中的应用

对光电化学方法在锆及其合金氧化后性质研究方面的应用进行综述,同时,还结合已有的氧化物金属接触的光生阴极保护研究,对其在锆及其合金中应用的可能性进行探讨,提出光电化学方法在锆及其合金的反应堆内性能研究和改性方面的新应用.     

Cu2+掺杂TiO2介孔材料的制备及表征

利用十二烷基磺酸钠(SDS)为模板剂,通过钛酸四丁酯的水解合成了TiO2纳米介孔材料.采用X射线衍射分析(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)、透射电子显微镜(TEM)和紫外-可见光吸收光谱(UV-Vis)等对试样进行了表征.结果表明,粉末TiO2为锐钛矿相晶体结构,呈类球形,粒径分布范围窄,孔道结构发达有序.光催化降解亚甲基蓝的实验表明,掺杂Cu2+前后的介孔TiO2粉体都具有很高的光催化活性.     

铁酸锌薄膜电化学水热合成及性能表征

利用电化学和水热法相结合的方法在碳钢表面合成了纳米铁酸锌薄膜,采用氧化电压为2 V,在不同pH值的氨水溶液中将碳钢表面氧化生成水合氧化铁,然后将其放入高压釜,在含Zn2+溶液中转化成铁酸锌.通过X射线粉末衍射(XRD),扫描电镜(SEM),对薄膜的物相和表面形貌进行表征,通过可见-紫外光吸收谱(UV-vis)确定其光响应范围;用IM6e电化学工作站测定其光生电位和光电流曲线.