可钢化单银low-E镀膜玻璃的耐热性能

低辐射(Low-E)镀膜玻璃膜层的热稳定性对可钢化产品质量影响很大,在Low-E镀膜玻璃的钢化工艺中,由于加热温度过高或加热时间过长,可能会造成一些缺陷,如弯曲,波形,脱膜,色差,麻点等。本文用马弗炉对相同膜系的可钢化单银low-E玻璃进行了不同加热温度、不同保温时间下的耐热实验;通过观察外观变化,测试颜色变化、色差,及其方块电阻、E值、透过率、雾度等随温度和保温时间的变化关系,研究了相同膜系结构的可钢低辐射镀膜玻璃的耐热性能;为产品膜系结构设计,质量风险评估提供参考。     

有机玻璃衬底磁控溅射ITO膜的制备与性能研究

在低温条件下采用直流磁控溅射法在有机玻璃(PMMA)衬底上制备了ITO薄膜。分别采用分光光度计、四探针测试仪研究了底涂层、衬底温度、氧流量、溅射时间对PMMA上沉积的ITO薄膜性能的影响。研究结果表明:涂覆底涂层有助于ITO成膜;衬底温度影响薄膜的方块电阻值;适当增大O2流量可以提高薄膜的透射率,但过高的O2流量降低薄膜的导电性;溅射时间延长,方块电阻值减小。优化工艺后制备的ITO薄膜为非晶态膜,可见光平均透过率达83.5%,方块电阻为22Ω/□。     

镀膜玻璃多角度反射色测量

准确测量多角度下镀膜玻璃反射色,是镀膜玻璃质控提出的新要求。本文比较了不同入射角度下使用分光光度计测得的反射光谱曲线与使用TFCalc软件计算的玻面理论反射光谱曲线,发现随着入射角度增加,分光光度计检测器接收的光信号由玻璃的多次反射光逐渐转变为仅有第一次反射光,导致测量光谱与人眼接收的实际光谱不符,给颜色计算带来偏差。利用椭偏仪分别测量了玻璃第一、二次反射对应的反射光谱曲线,提出将第一、二次反射光谱曲线对应做和后进行颜色计算的新方法。     

热处理温度对铁镍合金膜层微观结构和镀膜玻璃性能的影响

为了研究不同热处理温度下铁镍合金薄膜的形貌结构以及镀膜玻璃的性能,本文采用真空电子束加热蒸发镀膜技术在玻璃基片上镀铁镍合金薄膜,通过多晶X射线衍射(XRD)和场发射扫描电子显微镜(FESEM)分析结构,测试镀膜玻璃的光学性能、电磁性能以及电磁屏蔽性能。结果表明:随着热处理温度的升高,薄膜的结晶性能变好,逐渐析出体心立方晶相,在(110)方向具有择优取向,当热处理温度过高时薄膜中出现孔隙;热处理温度对镀膜玻璃雾度的影响小于1%,但镀膜玻璃的可见光透过率、表面方块电阻和相对磁导率会随热处理温度变化呈现一定规律变化;铁镍合金镀膜玻璃在30 MHz以下的低频电磁波频段内的屏蔽效能大于30 dB,在14 kHz时最高达到55 dB,是一种低频电磁屏蔽的优选材料。     

有机玻璃衬底磁控溅射ITO膜的制备与性能研究

在低温条件下采用直流磁控溅射法在有机玻璃(PMMA)衬底上制备了ITO薄膜。分别采用分光光度计、四探针测试仪研究了底涂层、衬底温度、氧流量、溅射时间对PMMA上沉积的ITO薄膜性能的影响。研究结果表明: 涂覆底涂层有助于ITO成膜; 衬底温度影响薄膜的方块电阻值; 适当增大O2流量可以提高薄膜的透射率, 但过高的O2流量降低薄膜的导电性; 溅射时间延长, 方块电阻值减小。优化工艺后制备的ITO薄膜为非晶态膜, 可见光平均透过率达83.5%, 方块电阻为22Ω/□。     

加入脱硅ZrO2微粉对MgO-Cr2O3材料性能的影响

为了提高MgO-Cr2O3材料的性能,以质量分数为60%的电熔镁铬砂、27%的南非铬矿粉、13%的烧结镁砂为基础配比,外加脱硅ZrO2微粉(其质量分数分别为1.5%、2%、2.5%和3%)制备了MgO-Cr2O3材料。研究引入ZrO2对MgO-Cr2O3材料体积密度、显气孔率、耐压强度、高温抗折强度和抗RH精炼渣侵蚀性的影响。结果表明:1)引入ZrO2显著提高了MgO-Cr2O3材料的体积密度、常温耐压强度和高温抗折强度。2)ZrO2与熔渣中的CaO发生反应,生成高熔点的化合物CaZrO3,堵塞气孔,阻止熔渣进一步渗透,提高了MgO-Cr2O3材料的抗渣性;同时反应吸收CaO,使熔渣的碱度降低,黏度增大,这也有利于提高镁铬砖的抗渣侵蚀性。综合考虑MgO-Cr2O3材料的各项性能,脱硅ZrO2微粉的最佳外加量为2.5%(w)。