不同类型石英玻璃的振动能量损耗特性对比分析

石英玻璃相对于金属、晶体、陶瓷等大多数固体材料具有更小的机械振动能量损耗,是许多精密测量器件的首选材料。本文测试对比了四种类型(Ⅰ类、Ⅱ类、Ⅲ类和Ⅳ类)石英玻璃的振动能量损耗特性,从材料化学组分和结构缺陷方面分析了石英玻璃本征损耗的影响因素及作用机理。结果表明:Ⅰ类和Ⅱ类石英玻璃的本征损耗显著大于Ⅲ类和Ⅳ类石英玻璃,主要是由金属杂质含量高和气泡等级低造成的;羟基含量不是影响石英玻璃本征损耗的主要因素;表面损耗是石英玻璃器件振动能量损耗的主要来源之一,可以通过湿法刻蚀消除。     

抛光石英玻璃蚀前清洗机理及试验探讨

时精密抛光后的Ⅳ类石英玻璃尝试各种方法进行清洗。时各种清洗方法进行系统研究和分析，并用原子力显微镜对清洗后的表面形貌进行观察。发现超声波配合表面活性剂的清洗方法能够去除残留的分子型杂质。用氧化法可以去除大部分的原子型和离子型杂质。     

等离子体化学气相沉积法合成石英玻璃

用高频等离子体作为热源,采用化学气相沉积法合成了石英玻璃样品.实验分别使用02和空气作为等离子体电离气体和冷却保护气体,改变等离子体电离工作气体种类时,等离子体火焰长度和石英玻璃沉积温度变化较大,而灯具冷却保护气体的改变对等离子火焰长度和石英玻璃沉积温度的影响不大.当等离子体电离气体和灯具保护气体均为O2时,等离子体火焰长度为12cm,石英基体温度为1 300℃,当等离子体电离气体和灯具保护气体均为空气时,等离子体火焰长度可达24cm,石英基体温度升高到l 840℃,可确保气相沉积过程进行,合成的石英玻璃在波长190nm处光透过率达84%,羟基含量3.5×10-6,可达到全光谱透过的要求.     

热等离子体在材料加工中的应用

热等离子体技术已经成为材料科学中不可或缺的一部分,本文介绍了常见的热等离子体发生装置,对热等离子体在喷涂、化学气相沉积、合成超细粉、切割、焊接、表面淬火以及材料熔炼等方面的应用作了概括性介绍。     

谈电梯检验过程危险源的分析及控制措施

在从事电梯监督检验过程中,事故隐患就始终伴随着整个检验过程。为了预防检验事故的发生,检验人员除了必须严格按照电梯检验规程来检验外,还应对检验过程中潜在的危险源能充分了解和进行辩识,以便采取相应措施,确保检验过程的安全。     

抛光石英玻璃亚表面波纹研究

抛光石英玻璃经HF溶液腐蚀后,表面存在周期分布的波纹。通过计算波纹的曲率半径,对比切、研、抛加工工艺和表面形貌,确定表面波纹来源于内圆切割机切片阶段,并且波纹随后续加工趋于平缓,最终掩盖在抛光层之下。     

谈特种设备的安全监控措施

特种设备是指那些危险性较大,如果使用、管理不当容易发生安全事故的设备,主要包括电梯、起重设备、场内机动车辆、游艺机和游乐设施等。目前,随着各类特种设备的数量急剧增长,在生产制造和使用运营中安全问题很严峻,重大事故隐患大量存在,伤亡事故与设备事故时有发生,严重地影响到社会的安定和人民的生活。为此,本文对加强特种设备的安全监控措施进行了探讨。     

Ⅳ类石英玻璃光学均匀性影响因素研究

Ⅳ类石英玻璃是一种重要的特种玻璃材料，在光学探测、惯性导航等领域内具有重要作用。光学均匀性是表征光学玻璃结构均匀性的一种重要方法，Ⅳ类石英玻璃的光学均匀性与硅氧网络结构分布一致性密切相关。本文通过四步法光学均匀性测试、紫外-可见-近红外光谱、红外反射光谱等方法，研究了羟基、金属杂质及氧缺陷的径向分布特点和硅氧键键角的径向变化，采用相关性分析研究了各影响因素对样品光学均匀性的影响。结果表明：表示玻璃光学均匀性的波前畸变t₀Δn沿玻璃半径先降低后升高；羟基的径向分布整体上与t₀Δn的径向变化相反，200 nm处透过率径向变化、硅氧键键角径向变化与t₀Δn的径向变化相近；羟基对Ⅳ类石英玻璃光学均匀性的影响较小，金属杂质、氧缺陷及硅氧键键角的径向变化是影响Ⅳ类石英玻璃光学均匀性的主要因素。