氧化铜矿浮选研究进展

详细评述了氧化铜矿的浮选方法与工艺及浮选药剂研究进展,指出强化硫化过程、硫化质量和寻找具有高度选择性的捕收剂是其重要的研究方向     

钨矿物浮选研究进展

对钨矿物浮选工艺及药剂进行了评述,并对其应用前景进行了展望。     

某产品联接螺栓上的断裂力学理论应用研究

本论文从传统的强度设计角度入手,引入断裂力学设计理念,对某产品轴承基座联接螺栓进行选材优化设计,为延迟脆性断裂问题的解决提供了理论支撑。同时也为腐蚀环境下服役的高强螺栓设计提供了有益的借鉴。     

钴氮共掺杂TiO2薄膜的制备及其光电化学性质

采用溶胶-凝胶法分别制备未掺杂和钴掺杂TiO2溶胶，室温下将其分别与三乙胺反应制得氮掺杂和（Co，N）共掺杂的TiO2溶胶，然后通过浸渍-提拉法在钛片上成膜，经烧结获得掺杂光电极。采用XRD、SEM、XPS和紫外-可见光谱和光电流作用谱等对电极进行表征，并探讨其光电响应机理。结果表明：TiO2共掺杂后并未引起TiO2能带边缘位置发生明显改变，N主要以NOx形式掺杂；（Co，N）共掺杂TiO2薄膜电极的可见光电响应比单掺杂的高，这主要归因于共掺杂TiO2薄膜电极的比表面积增大、光吸收性能改善、界面电荷转移速率提高以及共掺杂元素的协同作用等。     

氧化铜矿浮选研究进展

详细评述了氧化铜矿的浮选方法与工艺及浮选药剂研究进展, 指出强化硫化过程、硫化质量和寻找具有高度选择性的捕收剂是其重要的研究方向。      

多孔SnO_2-Cu_2O复合薄膜的制备及其光催化性能

采用加热氧化多孔Sn--Cu合金电沉积层,制备得多孔SnO2--Cu2O复合薄膜.应用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和X射线能量散射(EDS)分析了镀液中Sn2+/Cu2+值对薄膜结构、形貌和组成的影响.通过低压汞灯下光降解罗丹明B的反应测试了薄膜的光催化活性.结果表明,从0.01mol.L-1CuSO4、0.05mol.L-1SnSO4、1.5mol.L-1H2SO4、7mL.L-1甲醛和0.001%聚乙二醇辛基苯基醚(OP)的镀液中,在20℃以6.0A.cm-2的电流密度沉积得到的Sn--Cu合金,经过在空气气氛下200℃,2h和400℃,2h加热氧化后,转变为Sn/Cu值为3∶1的SnO2--Cu2O复合薄膜,显示出优异的光催化降解罗丹明B的活性,这归因于薄膜具有三维多孔的形貌和适合的Sn/Cu比.     

In-situ monitoring of nickel electrodeposit structure using electrochemical noise technique

The nickel electroplating process was investigated by means of electrochemical noise（EN）, cyclic voltammetry in conjunction with the scanning electron microscopy（SEM） technique. The results show that, in the experimental conditions and with the increase of current density, the growth mechanism of nickel crystallites changes from 2-D to 3-D with the potential turning point of about - 1.15 V, and the potential for the onset of diffusion control of the ensemble nickel electroplating process was about --1.4 V. In the case of activation-control, the two-dimensional （2-D） nucleation / growth process of nickel often results in the electrocrystallization EN features of only slowly small positive potential drift and the corresponding compact layer-by-layer deposit structure, and the maximum relative energy of the RP-EDP （re-plotted relative energy distribution plot）, which is obtained from wavelet analysis, defmed in the region with smaller scales. While under the diffusion-control, the three-dimensional （3-D） nucleation / growth process of nickel, often results in the electrocrystallization EN features of both the fast positive potential drift and subsequent remarkable negative potential drift and the corresponding dentritic/large conglomerate structure of nickel deposit, and the maximum relative energy of the RP-EDP defined in the region with larger scales. The electroplating time affects the nickel deposit structure mainly through its influence on the growth rate of crystallites and the Ni^2＋ ions diffusion process around each crystallite.     

可见光下Rhodamine B在钴掺杂TiO2薄膜上的光催化降解

采用溶胶 凝胶法和涂覆成膜技术在钛片上制备了有可见光响应的Co2+掺杂TiO2薄膜(Co-TiO2).应用该薄膜光催化剂在可见光下进行了Rhodamine B（RhB）的光降解研究.结果表明，当Co2+的掺杂摩尔分数为0.02％时，光催化剂对RhB有最佳的光降解效果，而且在降解过程中存在光催化和光敏化的协同效应；同时在酸性体系中光降解RhB比在碱性体系中有较快的速率和较小的最大吸收峰位移，这可能与不同pH下，TiO2表面的荷电状态影响光降解过程有关.Co-TiO2光催化剂的使用，成功地实现了可见光下对RhB的光催化和光敏化协同降解，提高了可见光下RhB的光降解速率.     

Cathodic Electro—Deposition of WO3 And Its Photoelectrochemical Anticorrosion for Copper Under Visible Light

采用阴极电沉积法制备了具有可见光光电响应的WO3薄膜电极.考察了制备工艺条件和光反应体系组成对电极光电响应性能的影响.结果表明:沉积电位-0.45 V(相对于饱和甘汞电极)、沉积时间1600 s、烧结温度400℃时电极光电性能较好;在光电化学电池中,阳极室添加空穴捕获剂(如甲酸和升高溶液pH值,有利于光电流输出.在阳极室溶液组成为0.5 mol/dm3Na2SO4 0.5 mol/dm3HCOOH(pH 9.6)时,WO3薄膜电极在可见光光照下可对4 mol/dm3NaCl溶液中金属Cu进行光电化学防腐蚀,为利用可见光实现对金属防腐蚀提供了一条新的途径.     

光电催化降解有机污染物与回收银分析

报道了在光电反应器中,TiO2阳极光催化降解典型有机污染物水杨酸的同时,光生电子在外加电场的作用下驱动到对电极上还原回收银.研究结果表明,随着外加阳极偏压增大,光电流不断增大并在一定的偏压下达到饱和,有机物氧化速率提高.银离子的还原速率受阴极槽的气氛、溶液pH和外加阳极偏压(电流)等因素的影响,但在三电极光电反应器中,阳极反应的快慢直接决定阴极反应类型和反应速率.本实验条件下,银离子的沉积电流效率高达96.0%,采用该方法不但可充分地利用光生载流子,而且可避免催化剂的失活问题,从而拓宽了光催化技术的应用范围.