首页 | 官方网站   微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   221篇
  免费   8篇
  国内免费   80篇
工业技术   309篇
  2012年   3篇
  2011年   10篇
  2010年   11篇
  2009年   22篇
  2008年   30篇
  2007年   28篇
  2006年   38篇
  2005年   46篇
  2004年   36篇
  2003年   19篇
  2002年   8篇
  2001年   13篇
  2000年   24篇
  1999年   8篇
  1998年   4篇
  1997年   3篇
  1996年   3篇
  1986年   1篇
  1984年   1篇
  1983年   1篇
排序方式: 共有309条查询结果,搜索用时 31 毫秒
51.
在电动汽车仿真平台上,根据实际车型及技术现状合理地设置动力参数,搭建了外接充电式混合动力电动汽车(PHEV)整车模型,在此基础上,结合PHEV的特点,分析了PHEV的控制系统结构,提出了一种以提高燃油经济性为目标的全新的基于动态规划(DP)的PHEV全程能量控制策略。该策略突破了目前PHEV采用的电量消耗-电量保持模式的能量优化管理思路。为了最大限度地使用电池能量,以电池荷电状态(SOC)在路程起点处达到上限值,在终点达到安全下限值为限制条件,运用动态规划算法使得全程燃料经济性最高。仿真结果表明,与传统的能量管理策略相比,基于DP的全程能量管理可大大提高燃料经济性。  相似文献   
52.
53.
High efficiency Al-free InGaAs/InGaAsP/InGaP lasers emitting at 980nm are fabricated by MOCVD. The lasers exhibit a high internal quantum efficiency of 95 % and a low internal loss of 1.8 cm-1. Low threshold current density of 190A/cm2 and high slope efficiency of 1.06W/A are obtained by lasers with 800μm cavitylength. A high characteristic temperature 210C is also obtained by replacing the GaAs barrier with high-bandgap InGaAsP barrier. The measured vertical and parallel divergence angle are 40° and 8°, respectively.  相似文献   
54.
研究了SiGe/Si HBT基区B杂质的偏析和外扩散对器件的影响.发现用MBE生长的Si Ge基区中,在材料生长时 B杂质的上述行为会严重破坏器件的室温电流增益并改变器件的低温性能.采用数值计算分析了B杂质的上述行为与在发射结产生的寄生势垒的关系,解释了器件温度特性的实验结果.并根据计算模拟和实验,讨论了SiGe隔离层的作用和优化的厚度  相似文献   
55.
具有TiN扩散阻挡层的n-GaAs欧姆接触的可靠性   总被引:2,自引:2,他引:0  
提出了金属 -半导体欧姆接触退化的快速评估方法——温度斜坡快速评价法 ,并建立了自动评估系统 ,用该方法和系统测得的欧姆接触退化激活能 ,和传统方法相比 ,耗时少 ,所需样品少 ,所得结果和传统方法一致 .针对传统 Au Ge Ni/Au欧姆接触系统的缺点 ,提出了加 Ti N扩散阻挡层的新型欧姆接触系统 .实验表明新型欧姆接触系统的可靠性远远优于传统 Au Ge Ni/Au欧姆接触系统 .  相似文献   
56.
应用腔量子电动力学和量子阱物理,计算了量子阱DBR微腔激光器的自发发射谱.发现由于DBR微腔和量子阱分别对光子和载流子的限制,单方向的自发发射可以增进约三个量级,总的自发发射增强一个量级.  相似文献   
57.
新型GaAs/AlGaAs量子阱红外探测器暗电流特性   总被引:3,自引:1,他引:2  
对基于 Ga As/ Al Ga As系子带间吸收的一种新型量子阱红外探测器 ,采用 Poisson方程和 Schrodinger方程 ,计算了新器件结构的能带结构、电子分布特性 ,在此基础上采用热离子发射、热辅助遂穿模型对器件的暗电流特性进行了模拟 ,计算结果与器件实测的暗电流特性吻合得很好 ,说明热离子发射、热辅助遂穿机制是形成器件暗电流的主要构成机制 ,增加垒高、降低阱中掺杂浓度及降低工作温度是抑制器件暗电流的主要途径 ,计算结果对进一步优化器件的设计将起到重要的理论指导作用 .  相似文献   
58.
用GSMBE法生长了Si/SiGe/Si异质结构材料.采用双台面结构制造了SiGe/Si NPN异质结晶体管.在发射结条宽为4μm,面积为4μm×18μm的条件下,其共发射极直流放大倍数为75,截止频率为20GHz.给出了结构设计、材料生长和器件制作工艺.  相似文献   
59.
优化设计了既能实现较小垂直方向远场发散角,又能降低腔面光功率密度的InGaAs/GaAs/AlGaAs应变层量子阱激光器,并计算了该结构激光器实现基横模工作的脊形波导结构参数。利用分子束外延生长了InGaAs/GaAs/AlGaAs应变量子阱激光器材料并研制出基横模输出功率大于140mW,激射波长为980nm的脊形波导应变量子阱激光器,其微分量子效率为0.8W/A,垂直和平行结平面方向远场发散角分别为28°和6.8°  相似文献   
60.
考虑了重掺杂引起的禁带变窄效应,建立起少数载流子室温和低温模型,并进行了定量的计算。研究发现,p-Si1-xGex中的少子浓度(电子)随x的增加而增加。在重掺杂条件下,常温时,少子浓度随杂质浓度的上升而下降;而低温时,少子浓度却随杂质浓度的上升而上升。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司    京ICP备09084417号-23

京公网安备 11010802026262号