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电阻率两种测试方法间几何效应修正的相关性 总被引:6,自引:0,他引:6
根据有限厚度样品体电阻率和薄层电阻两种测试方法间的厚度修正系数的相关性,论证了其边缘效应修正系数具有一一对应的严格的相等性。通过实验予以证明,并可将这一结论应用于非圆心点测试。 相似文献
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本文通过实验和紫外发射光谱分析,研究了 P/P 硅外延工艺中使用的BBr_3、SiCl_4混合液掺杂源蒸发过程中硼蒸发量稳定性与掺杂源中 BBr_3初始含量的关系,并获得了硼蒸发量稳定的掺杂源配方.本文还研究了沾污的反应室、系统管道、基座、外延生长温度、衬底杂质浓度及背面封闭层与外延层电阻率的关系.将这两方面的研究结果应用于外延生长中,制备出电阻率一致性、均匀性好的 P/P 外延片. 相似文献
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