LPCVD氮化硅薄膜的化学组成

分别采用X光电子能谱(XPS)、俄歇电子能谱(AES)、傅立叶红外光谱(FTIR)以及弹性反冲探测(ERD)等方法,分析了三氯硅烷-氨气-氮气体系低压化学气相沉积(LPCVD)氮化硅(SiNx)薄膜的化学组成,并利用原子力显微镜(AFM)观察了SiNx薄膜的表面形貌.XPS分析结果表明,当原料气中氨气与三氯硅烷的流量之比小于3时获得富Si的SiNx薄膜,当流量之比大于4时获得近化学计量的SiNx薄膜(x=1.33).AES深度分析与XPS分析结果很好地吻合,在835cm-1产生的强红外吸收峰表明Si-N键的形成,ERD分析表明所制备SiNx薄膜中的氢含量很低(1.2at.%).AFM分析结果表明,所沉积的SiNx薄膜均匀、平整,薄膜的均方根粗糙度RMS仅为0.47nm.     

豆渣调味酱的研制

利用豆渣为主要原料,加入白砂糖、食盐、豆油、豆酱、酱油、白酒、味精、食品添加荆等辅料,开发出风味较好、酱香味浓郁的豆渣调味酱.研究了去除豆渣油腻味最佳的方法,通过正交试验确定了豆渣调味酱的最佳配方.     

无压烧结氮化硅陶瓷的力学性能和显微结构

以MgO-Al₂O₃-SiO₂为烧结助剂,借助XRD、SEM、TEM、EDS、HRTEM等手段,研究了无压烧结氮化硅陶瓷材料的力学性能和显微结构,着重探讨了材料制备工艺、力学性能和显微结构之间的关系,通过调整制备工艺改善材料微观结构以提高材料的力学性能.强化球磨混合的试样经1780℃无压烧结3h后,抗折强度高达1.06GPa,洛氏硬度92,显微硬度14.2GPa,断裂韧性6.6MPa·m^0.5.材料由长柱状β-Si₃N₄晶粒组成,晶粒具有较大的长径比,长柱晶的近圆晶粒尺寸0.3-0.8μm,长度3-6μm,长径比约7-10,显微结构均匀.     

β-Si3N4粉末烧结及其显微结构形成

由β－Ｓｉ_３Ｎ_４粉末通过一定的工艺条件得到致密的氨化硅陶瓷,试样的显微结构为短柱状和等轴状颗粒交织排列而成的均匀结构．材料的烧结过程分为重排、晶形转变、晶粒生长三个阶段,随烧结时间增加,烧结试样的显微结构开始阶段变化很明显,２ｈ后结构比较稳定．温度升高有利于柱状颗粒长径比的提高,添加剂量的增加使显微结构粗化．     

耐火级氮化硅粉末的球磨特性

研究了耐火级氮化硅粉末的球磨性能,起始耐火级氨化硅粉末中含有大量的柱状β－Si_3N_4颗粒,其球磨性能差于常用的α－Si_3N_4。粉料,球磨相同时间仍残留有大量不利于烧结的柱状颗粒,但是通过延长球磨时间可以得到由球状颗粒组成的粉料,而延长球磨时间对起始粉料中的氧含量和杂质含量影响较小。     

无压氮化硅刀具切削铝合金的试验

氮化硅陶瓷作为切削刀具材料,国内已有单位研制,并已日益在生产中使用。无压烧结氮化硅(Si_3N_4)是采用氮化硅粉末为原料加入镁铝尖晶石和稀土氧化物等添加剂,在常压下使氮化硅烧结而成。它具有高强度、高密度和价廉的特点.英国Lucas公司生产的无压烧结氮化硅(牌号101、201),其室温抗弯强度可达780～800MPa、硬度HRA91～92,对于普通铸铁,有色金属以及镍基合金的高速车、铣加工具有很大的优越性。     

氧氮玻璃连接Si3N4陶瓷的可行性研究

本文采用Ｙ－Ｓｉ－Ａｌ－Ｏ－Ｎ系氧氮玻璃对Ｓｉ３Ｎ４陶瓷进行了１４５０，１６００℃保温３０ｍｉｎ的润湿实验和连接实验，结果表明，氧氮玻璃对Ｓｉ３Ｎ４的润湿性较好，１４５０℃时两者的热膨胀系数差异明显，而１６００℃时热膨胀系数差异减小，接头附近存在扩散区，氧氮玻璃可以连接Ｓｉ３Ｎ４陶瓷。     

Nd3+离子掺杂YAG激光透明陶瓷的光谱性质及Judd-Ofelt理论分析

采用固相反应和真空烧结技术制备了掺杂浓度为1.0at%的Nd:YAG透明陶瓷样品,并测试了样品的吸收光谱和荧光光谱.样品在主吸收峰808nm处的吸收截面为3.10×10-20cm2,主荧光发射峰位于1064nm处,实测荧光寿命为257μS.应用Judd-Ofelt理论计算了Nd3 在YAG中的强度参数Ωλ(λ=2,4,6),跃迁的振子强度、自发辐射跃迁几率、辐射寿命、荧光分支比等光谱参数.最后计算得到Nd:YAG透明陶瓷中Nd3 :4F3/2→I11/2跃迁对应的受激发射截面大小为3.81×10-19cm2.结果表明: Nd:YAG透明陶瓷具有较大的受激发射截面和高的荧光量子效率(接近100%),是一种性能优良的激光材料.     

区域集中消防给水系统探讨

介绍了区域集中常高压消火栓给水系统及区域集中临时高压消火栓给水系统.并对区域集中消火栓给水系统中消防水箱、水泵结合器的设置,配备水泵时消防水量、水压的匹配等问题进行了探讨.