PET基纳米结构Ag薄膜结构及导电性能

在室温条件下,采用磁控溅射法在PET纺粘非织造布上制备了50 nm厚的纳米结构Ag薄膜,用原子力显微镜(AFM)分析溅射真空室压强对纳米结构Ag薄膜结晶状态、粒径的影响;研究了溅射工艺参数与薄膜导电性能之间的关系。实验结果表明:溅射速率随着压强的增大先增大后减小;薄膜方块电阻的变化规律和溅射速率的变化规律一致;薄膜颗粒直径随着压强的增大先增大后减小,但在压强大于1.5 Pa时,薄膜颗粒直径随压强变化未呈现明显的变化规律。     

丙纶基纳米掺铝氧化锌薄膜的制备及表征

采用RF磁控溅射法在PP（丙纶）纺粘法非织造布上制备掺铝氧化锌（AZO）薄膜,并利用原子力显微镜（AFM）、扫描电镜（SEM）及能谱仪（EDX）对AZO薄膜的表面形貌、结构及元素成分进行表征和分析。结果表明：在PP基上溅射沉积的AZO薄膜具有纳米级的尺度,而且颗粒分布均匀、致密;经过溅射后薄膜颗粒中除原先的C元素外,只含有Zn、Al、O元素,而且薄膜的纯度很高。随着沉积时间的延长,纳米AZO薄膜致密性、均匀性越来越好。     

磁控溅射法制备纳米Ag薄膜的AFM分析和导电性能

在室温条件下,采用磁控溅射法在PET纺粘非织造布上制备了纳米Ag薄膜,用原子力扫描显微镜(AFM)分析溅射功率、溅射真空室气压等工艺参数对纳米Ag薄膜结晶状态、粒径的影响;研究了溅射工艺参数与薄膜导电性能之间的关系。实验结果表明,在室温下,随着溅射功率增加,纳米Ag薄膜Ag粒子尺寸增大,功率为120 W时,薄膜导电性能最好;随着反应气体压强增加,Ag粒子直径变小,薄膜的导电性能变差。     

涤纶织物表面沉积银膜的特征研究

在室温下采用射频磁控溅射法在涤纶平纹织物上制备纳米银膜,利用原子力显微镜(AFM)分析不同溅射工艺参数对纳米银膜表面形态、颗粒直径的影响,同时研究了不同溅射工艺参数对银膜导电性能的影响.实验表明:随溅射功率增加,Ag粒子直径增大,导电性能先减弱后明显增强;随气体压强增大,Ag粒子直径变小,银膜的导电性能下降;随镀膜时间的延长,Ag粒子直径增大,银膜导电性明显增强,在溅射时间达到15 min时银膜导电性能最佳.     

磁控溅射纳米纤维基银膜的结构和性能

在室温条件下采用直流磁控溅射方法,在醋酸纤维素(CA)纳米纤维表面沉积纳米银(Ag)薄膜,采用扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)对不同溅射功率的纳米银膜的形貌和微结构进行表征;利用X射线衍射分析了纳米银膜的结晶状态;同时研究了在不同溅射功率条件下制备的沉积纳米Ag膜复合纳米纤维的光学透射性能。实验结果表明：纳米结构银薄膜由极其微小的均匀性较好的粒子组成,随着溅射功率的增加,组成纳米Ag薄膜的Ag粒子尺寸增大,薄膜的致密性和均匀性增加;制备的Ag薄膜均呈面心立方的多晶结构,并且结晶性能随着溅射功率的增加而逐渐增加,抗紫外线透射能力明显增强。     

溅射功率对沉积纳米TiO2织物光催化性能的影响

室温条件下采用直流磁控反应溅射技术在涤纶纺粘非织造织物表面生长二氧化钛（TiO2）薄膜。采用X射线光电子能谱仪、X射线衍射仪和原子力显微镜对不同溅射功率条件下所制备TiO2薄膜的结构和表面形貌进行表征,研究溅射功率对薄膜沉积速率以及沉积纳米TiO2织物光催化性能的影响。实验表明：在一定范围内,溅射功率对沉积薄膜的化学结构影响不大,但溅射功率增加,薄膜的沉积速率和溅射效率提高,薄膜均匀性、致密性增加,沉积纳米TiO2织物光催化性能提高。但过高的溅射功率使靶材出现过温,不仅使薄膜沉积速率降低,均匀性下降,而且易损伤靶材。     

沉积纳米TiO2织物的表征及其光学透射性能

在室温条件下采用直流磁控反应溅射方法,在涤纶纺粘非织造织物表面沉积纳米二氧化钛（TiO2）薄膜。采用原子力显微镜（AFM）和X射线光电子能谱（XPS）对不同溅射时间的薄膜表面形貌和化学结构进行表征,同时研究在不同溅射时间条件下制备的沉积纳米TiO2织物的光学透射性能。实验表明：在薄膜成膜生长过程中,薄膜表面化学结构变化不大,但薄膜生长速率和表面形貌出现了较为明显的阶段性变化,随溅射时间的增加,薄膜的连续性和致密性增加,沉积TiO2织物的抗紫外线透射能力加强。     

沉积纳米TiO2织物的表征及其光学透射性能

 在室温条件下采用直流磁控反应溅射方法,在涤纶纺粘非织造织物表面沉积纳米二氧化钛（TiO2）薄膜。采用原子力显微镜（AFM）和X射线光电子能谱（XPS）对不同溅射时间的薄膜表面形貌和化学结构进行表征,同时研究在不同溅射时间条件下制备的沉积纳米TiO2织物的光学透射性能。实验表明：在薄膜成膜生长过程中,薄膜表面化学结构变化不大,但薄膜生长速率和表面形貌出现了较为明显的阶段性变化,随溅射时间的增加,薄膜的连续性和致密性增加,沉积TiO2织物的抗紫外线透射能力加强。     

磁控溅射碳纤维基纳米铜薄膜的结构及其性能

 在室温条件下,以射频磁控溅射法在碳纤维布(CFFs)上沉积纳米结构Cu薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)分析薄膜的组成成分和结晶状态,用扫描电子显微镜(SEM)分析不同功率下镀铜碳纤维布表面形貌的变化,同时研究了溅射功率对薄膜沉积速率、织物增重率、导电性能和结合牢度的影响．结果表明：在碳纤维布上沉积薄膜的主要成分是Cu元素,且薄膜结晶良好,结晶度为40.85%;随着溅射功率的增大,碳纤维布上的铜粒增多,铜粒增大,沉积速率增大,织物增重率增大,导电性能增强;经过5个周期的冷热循环实验后,在溅射功率180 w下制得的薄膜有脱落现象,且其方块电阻明显增加,说明薄膜结合牢度变差,因此,合理的溅射功率控制在60-140 w之间．     

非织造布表面沉积ZnO薄膜的AFM和透光性分析

运用射频磁控溅射在非织造布基材上生长ZnO纳米结构薄膜。用原子力显微镜(AFM)分析了射频磁控溅射工艺参数(功率、压力、时间)对ZnO透明薄膜微结构的影响,并用分光光度计分析了样品的透光率。结果表明:随着沉积时间的延长,非织造布表面ZnO纳米结构薄膜的致密性、均匀性越来越好;较高的溅射功率加速了晶粒生长,但不易太大;过大的工作气压使ZnO颗粒形状逐渐变差;经ZnO镀层处理的非织造布对紫外光的吸收能力随着镀膜厚度的增加逐渐增强。     

提高禁用偶氮染料检测准确度缩短与国际标准的差异

将我国纺织品上禁用偶氮染料检测方法国家标准,与目前被全球采用的欧盟方法标准在技术条件和操作程序上进行了比较分析,找出了我国现行方法中在适用范围、样品预处理、定性/定量方法的选择等方面同欧盟方法存在的差异,指出了GB方法中影响检测准确度的因素,探讨了提高AZO检测准确度的措施。     

纺织品AZO检测并样处理和连续进样对结果的影响

用§35LMBG82.02-2方法进行AZO检测时,对前处理样品洗脱液在冷冻条件下和室温条件下放置不同时间进样对检测结果(定性)的影响进行验证,实验证明上述条件下对纺织品AZO阳性结果的定性判断没有影响,并探讨前处理过程中多个样品合并处理是否适用于纺织品AZO检测过程中快速筛选工作。     

用PECVD制备的SnO_2薄膜气敏特性研究

ＳｎＯ２薄膜制备及其应用日益受到人们的重视。本文阐述了用低温等离子体化学气相沉积法制备ＳｎＯ２薄膜的工艺，并研究了所制得的纯净及掺杂Ａｇ，Ｐｄ的ＳｎＯ２薄膜的气敏特性。此法制得的元件对还原性气体，尤其是低浓度Ｈ２Ｓ，Ｃ２Ｈ５ＯＨ具有很高的灵敏度及快速的响应．     

SnO_2－SiO_2双层薄膜氢敏元件的特性研究

采用溶液－凝胶浸渍涂布工艺在Ａｌ＿２Ｏ＿３陶瓷管上制备了掺杂ＳｎＯ＿２气敏薄膜；利用高温热解法在ＳｎＯ＿２薄膜表面覆盖ＳｉＯ＿２气体分离膜后制得双层薄膜气敏元件。分别测试并比较单层和双层薄膜元件的气敏特性，结果表明：单层薄膜元件对可燃性气体无选择性、响应和恢复时间短；而双层薄膜元件对氢气表现出极高的灵敏度和优越的选择性，其响应和恢复时间都比单层薄膜元件有所延长，结合实验结果，从理论上阐述了双层薄膜元件对氢气的敏感机理。     

MP—1型溶出分析仪测定紫苏色素中铅、汞、砷

本文阐述了用MP—1型溶出分析仪对紫苏色素中铅、汞、砷的测定．其中铅和汞分别以玻碳汞膜电极和玻碳预镀金膜电极为工作电极，微分电位溶出法测定；砷以示波极谱法测定．我们对方法的精密度、线性关系进行了实验验证，结果表明本法简单、快速、灵敏，获得的结果较好．     

织物负载S-N共掺杂TiO2薄膜的光催化降解活性染料研究

采用溶胶-凝胶法制备S-N共掺杂改性纳米TiO2溶胶,通过浸溃工艺对棉织物进行整理,制备出织物负载S-N共掺杂TiO2薄膜.探讨了在日光灯照射下,其对活性红MS模拟活性染料废水的光催化活性.结果表明,在日光灯照射下,织物负载S-N共掺杂TiO2薄膜的光催化降解率大大高于织物负载TiO2薄膜的降解率;对活性红MS的光催化降解效果随染液中氯化钠浓度的升高而降低,随碳酸钠浓度的升高而提高.     

掺吲哚CuPc薄膜对NO_2气敏的影响

吲哚是一种化学稳定剂，为探讨吲哚掺入ＣｕＰｃ薄膜对ＮＯ＿２气敏特性的影响，用共沉积的方法在ＣｕＰｃ薄膜中掺入吲哚，从制备的ＣｕＰｃ夹层光电池测试中，探讨了吲哚对ＣｕＰｃ薄膜的光电导的影响；由Ｘ－线衍射分析了吲哚对ＣｕＰｃ薄膜的结构的影响，测试了掺杂对ＮＯ＿２敏感特性的影响，结果表明，掺入吲哚可抑制ＣｕＰｃ的光电导，提高其气敏的稳定性；同时使得ＣｕＰｃ分子在基片上的排列趋向单一有序，对改善ＣｕＰｃ薄膜气敏的灵敏度和时间特性具有积极意义。     

Effects of photocatalysis on biological decolorization reactor and biological activity of isolated photosynthetic bacteria

In the treatment of synthetic dye wastewater by photosynthetic bacteria under optical irradiation, excessive algal growth and adhesion on the wall of the reactor has been a severe problem. A laboratory scale flow-through model reactor with thin film photocatalysis for improving the efficiency of optical irradiation and controlling algal adhesion is presented. The system showed the efficiency of continuous biodegradation of dye was improved significantly by thin film photocatalysis. Moreover, the effects of photocatalysis on the color removal activity and the growth of isolated photosynthetic bacteria were investigated in batch experiment. Although photocatalytic reactions of TiO2 could inhibit the growth of isolated photosynthetic bacteria, the negative effects of photocatalysis on photosynthetic bacterial growth and decolorant activity were negligible under UV+FL irradiation. These results implicate the possibility of using thin film photocatalysis for controlling algal adhesion and enhancing the decolorant efficiency of photosynthetic bacteria.     

磁控溅射制备参数对ZnO薄膜结构和光学性能的影响

采用RF磁控溅射法,在硅(100)衬底上生长出高质量(002)晶面取向的ZnO薄膜.通过XRD和透射光谱研究了射频功率和氧气比例对ZnO薄膜的晶粒尺度、应力状态和光学性能的影响.研究结果显示,射频功率在100W下制备的ZnO薄膜,当氧气比例为60%时,能获得单一c轴择优取向和最小半高宽,压应力最小的薄膜,即结晶性较好的薄膜.     

热处理温度对玻璃纤维表面氧化锡薄膜光电性能的影响

 为在玻璃纤维表面制备透明导电薄膜,使其具有导电性的同时保持良好的透光性,采用溶胶凝胶法制备纳米SnO2溶胶,利用浸渍提拉法在玻璃纤维表面涂覆纳米SnO2溶胶,经过热处理后在纤维表面形成纳米SnO2薄膜。本文利用X射线衍射仪（XRD）、场发射扫描电镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）、四探针法和紫外可见分光光度计分别来表征纤维表面薄膜的物相、表面形貌、纤维电阻率以及薄膜透光率。分析了热处理温度对薄膜结构、玻璃纤维导电性能以及薄膜透光率的影响。结果表明,采用溶胶凝胶法制备的溶胶稳定性好,最佳热处理温度是550℃,得到的薄膜晶粒平均大小可达17.18nm,纤维电阻率可达5×10-5Ω·m,同时纤维表面薄膜透光率在88%左右。