基于规则的光学邻近矫正中规则的相关处理

讨论了如何选择适当的规则,如何建立简洁实用的规则库,如何应用规则库.提出了四种主要的光学邻近矫正规则,在实验结果中列举了规则库中的部分数据.利用规则矫正后的版图光刻得到的硅片图形有了明显的改善.规则库的自动建立部分 (OPCL)是基于规则的光学邻近矫正系统的重要组成部分.     

矫正规则散光的光学演示模型研制

目的:研制规则散光眼镜片矫正规则散光的光学演示模型。方法:用几何光学成像演示器直观演示规则散光成像、规则散光透镜成像、规则散光透镜矫正规则散光。结果:直接观察到规则散光和散光透镜的成像状态-散光Sturm光锥及散光透镜矫正规则散光的光学效果。结论:规则散光眼镜片矫正规则散光的光学演示模型能观察到规则散光透镜矫正规则散光的光学效果,便于准确理解规则散光成像、规则散光透镜的成像、规则散光矫正的光学原理。     

优化的基于模型的光学邻近矫正算法

提出了一种新的优化的基于模型的光学邻近矫正算法,该算法充分考虑了图形内部及图形之间的光学邻近影响,实现了线段切割和移动步长的自适应性,提高了系统的矫正精度及矫正速度,实验结果表明该算法是有效的.     

一种新的光学临近校正方法

提出了一种新的光学临近矫正算法.首先建立了一套高效并且适用性强的规则描述,然后提出了一种新的规则运用方法.算法在规则数据表的基础上通过v-SVR方法建立规则描述同矫正数据之间的数学表达式,使得对于任意输入的规则描述都能够精确计算出相应的矫正数据.实验结果表明,该算法比传统的查表插值方法具有更高的精度.     

一种新的光学临近校正方法

提出了一种新的光学临近矫正算法.首先建立了一套高效并且适用性强的规则描述,然后提出了一种新的规则运用方法.算法在规则数据表的基础上通过v- SVR方法建立规则描述同矫正数据之间的数学表达式,使得对于任意输入的规则描述都能够精确计算出相应的矫正数据.实验结果表明,该算法比传统的查表插值方法具有更高的精度.     

优化的基于模型的光学邻近矫正算

提出了一种新的优化的基于模型的光学邻近矫正算法，该算法充分考虑了图形内部及图形之间的光学邻近影响，实现了线段切割和移动步长的自适应性，提高了系统的矫正精度及矫正速度，实验结果表明该算法是有效的．     

成品率驱动下基于模型的掩模版优化算法

提出并实现了以分段分类思想为基础的掩模版优化算法,它是一种基于模型的光学邻近效应方法.该算法具有矫正精度高、灵活性强和矫正效率较高的特点,适合于版图中关键图形的矫正.实验表明,该优化算法可以实现矫正功能并且具有很好的矫正效果.     

成品率驱动下基于模型的掩模版优化算法

提出并实现了以分段分类思想为基础的掩模版优化算法,它是一种基于模型的光学邻近效应方法.该算法具有矫正精度高、灵活性强和矫正效率较高的特点,适合于版图中关键图形的矫正.实验表明,该优化算法可以实现矫正功能并且具有很好的矫正效果.     

用在可制造性设计中的光刻规则检查

可制造性设计(DFM)已经发展成为优化通晓制造技术设计中的有效工具,它包含从理论、规则到工具的整体应用来提升从设计到硅片的流程.基于制程模型的光刻规则检查(LRC),可查出没被设计规则检查(DRC)出来的设计布局的不足之处.本设计把光刻规则检查加入到设计流程中,用来优化设计规则,改善布局更有利光学邻近效应修正,使布局图形有更大的制程窗口.     

基于规则的公交识别专家系统设计与实现

通过对专家系统模型的分析,详细设计了基于规则的公交识别专家系统的构造模块,并根据专家系统的目标创建了事实库和规则库.在规则库的创建中,改进了规则的线性推理机制,提出递归调用规则:利用递归调用形式的规则库实现了两站间直达、N次中转可达路径的查找问题,并实现了两站路径的最小耗费计算.最后通过Visual Prolog 7....     

100 nm分辨率交替式移相掩模设计

讨论了100nm分辨率交替式移相掩模设计中的关键问题,以及通过对版图的拓扑分析,建立自动化的解决相位冲突的各种方法。通过比较,确立了分层叠加曝光的方案,并针对分层叠加曝光技术,进行了100nm节点中分层技术中两种关键图形的模拟。得出了分层叠加曝光在100nm技术节点中也可以实现的结论。     

基于OPC的高速PDM-CO-OFDM系统研究

通过理论分析和数值仿真,搭建了100Gbit/s的PDM(偏振复用)-CO-OFDM(相干光正交频分复用)系统,并使用OPC(光学相位共轭)技术对100Gbit/s的PDM-CO-OFDM系统的传输性能进行了补偿。研究表明,相位共轭技术不仅能够补偿系统的各阶色散,还能补偿非线性效应,使用OPC技术能使系统的传输距离达到1 200km,在最佳补偿距离上,使用OPC的系统Q值比使用传统的DCF(色散补偿光纤)的系统Q值大6.3dB。     

掩模制作中的邻近效应

计算模拟了激光束和电子束直写加工的掩模畸变,并分别用理想掩模和有畸变的掩模进行投影光学光刻过程的模拟和比较,讨论了光学邻近效应校正掩模在加工过程中所产生的畸变对传递到最终基片上的图形的影响。模拟分析指出,掩模加工中的邻近畸变应在设计光学邻近校正掩模时予以注意,即在掩模设计时,应把掩模加工中的邻近效应和光刻图形传递过程的邻近效应进行总体考虑,以便设计出最优化的掩模,获得最好的邻近效应校正效果。     

自陡峭效应对相位共轭系统脉冲传输的影响

光学相位共轭(OPC)技术能够同时且高效地补偿光纤传输过程中色散及非线性效应所导致的信号失真，且该技术同脉冲调制方式无关。从理论上分析了在自陡峭效应(SS)作用下高斯脉冲信号在中距相位共轭系统中的传输演化特性，数值模拟了在其作用下超短飞秒高斯脉冲的动态传输过程，讨论了自陡峭效应对中距相位共轭系统复原性能的影响。结果表明自陡峭效应将导致高斯脉冲信号发生峰值漂移和脉冲后沿变陡，相位共轭系统不能补偿由此导致的脉冲失真和畸变。引入合适的色散可以减小这种信号失真，并使得相位共轭系统能够同时补偿由于色散、自相位调制和自陡峭效应而引起的信号失真。     

中间链路光学相位共轭补偿相干光正交频分复用系统的光纤非线性损伤

由于相干光正交频分复用(CO-OFDM)系统具有很高的峰均功率比(PAPR)以及非常近的子载波间隔,使得光纤非线性损伤成为系统的决定因素。提出中间位置光学相位共轭(OPC)补偿算法补偿CO-OFDM的Kerr损伤,由于OPC两端链路对称,可以最大限度地保证满足补偿条件,具有很好的非线性补偿效果。而且无链路色散补偿和有链路色散补偿系统均适用。该算法能使单信道40 Gb/s CO-OFDM的最大Q因子提高3 dB,非线性阈值提高4 dB;波分复用(WDM)系统的最大Q因子能提高1.1 dB,非线性阈值提高1 dB。     

一种OPC友好的迷宫布线算法

超深亚微米集成电路制造中广泛应用OPC技术来减少掩模图形的光刻畸变,改善成像质量.然而在当前的设计流程中,版图设计者并没有考虑版图的OPC友好性问题,从而使一些图形由于原始形状限制无法进行充分的OPC校正处理.本文提出了一种OPC友好的迷宫布线算法:在布线的同时进行快速点光强计算,来预测走线对未来OPC的影响,避免可能导致OPC失败的布线结果,同时尽可能减少OPC需要做出的校正.     

偏离最佳条件的基于模型的光学邻近效应修正

提出了一种新型的与制程窗口紧密相关,被称为偏离最佳条件的基于模型的光学邻近效应模型,该模型包含制程参数变化的信息.该模型引导得到的修正的图形在工艺参数变化时也会表现得非常稳定,而且相对标准模型而言,缩短了建立模型的周期,节省了光罩出版的时间.