低温等离子体对塑料表面处理——低温等离子体对高密度聚乙烯表面处理的ESR研究

本文研究了不同处理条件(处理功率、处理时间和处理压力)下等离子体气体(Ar、N₂、O₂和空气等)对高密度聚乙烯表面处理产生的自由基的ESR谱。我们观察到等离子体处理产生的自由基是相当稳定的,它的ESR信号强度随处理功率和处理时间增加而增加。但处理压力对它影响不大。我们证明了紫外线对高密度聚乙烯表面产生自由基作用随处理条件而变化。并初步解释了谱的超精细相互作用。     

气密性碳涂覆光纤筛选强度与电阻关系研究

通过实验分析确立了把光纤电阻作为衡量气密性碳涂覆光纤通过２％应变筛选的过渡标准。要拉制２％应变筛选的碳涂覆光纤，其电阻值应小于３０ｋΩ／ｃｍ。     

杂多阴离子的相转移化学 Ⅰ.取代的Keggin及Dawson结构杂多阴离子在非极性溶剂中的溶剂化行为研究

利用四庚基溴化铵将Keggin结构的杂多阴离子ZW_(11)O_(39)M(H_2O)~(n-)(Z=Si,Ge,P;M=Ni~(2 ),C~(2 ),Cr~(3 ),Co~(2 );n=4～6)和Dawson结构的杂多阴离子P_2W_(17)O_(61)M(H_2O)~(n-)(M=Ni~(2 ),Cu~(2 ),Cr~(3 ),Co~(2 );n=7,8)从水溶液中转移至非极性溶剂(苯或甲苯)中,并观察到在水溶液中难以进行的配位水的脱去反应,形成配位不饱和的杂多阴离子.当加入Lewis碱如丙酮、吡啶等,可迅速恢复饱和配位,其电子吸收光谱也相应变化,基本恢复到配位饱和时的数值,有ESR信号.实验表明,在非极性溶剂中,配体之间相互进行的取代反应,吡啶配位能力最强,发生了取代反应ZW_(11)O_(39)M(L)~(n-) Py→ZW_(11)O_(39)M(Py)~(n-) L(L=丙酮、乙腈等).同时我们也研究了温度、杂多阴离子浓度、惰性气体流量对杂多阴离子在非极性溶剂中的溶剂化行为的影响,得到了相转移的一般规律,为杂多阴离子在非极性溶剂中的催化研究提供了理论依据.     

硅胶键联MPc的制备及其在氧活化中的作用

过渡金属酞等配合物（MPC）用手均相液相氧化中作催化剂已有不少报导，象许多均相催化剂一样，MPC用于均相反应存在着难于从反应体系中分离出来的问题．把均相配合物催化剂固载在无机氧化物如硅股或有机高分子载体上是解决这一问题的一种方法．我们曾尝试把MP。固载在分子筛载体和硅胶载体上，并用ESR研究其对O2的活化作用[1，2]．本文报导MPc通过共价键键联固载在SiO2上，并研究其对O2的活化作用．1实验部分1．1试剂HSIC13为日本东京化成株式会社产品，二级试剂·发烟硫酸（SO。质量分数大于20％）为分析纯试剂．PCl5为化学纯试…     

两个具有相似（V10）阴离子骨架的化合物的合成和结构表征

本文描述了两个具有相似阴离子骨架的化合物,[Na2(H2O)10(NH4)4][V10O28](1)和[Na2(H2O)10(NH4)4][V9MoO28](2).化合物1的阴离子是一个常见的钒十骨架,而化合物2与化合物1是同晶异质体,化合物2的阴离子是混有一个钼原子的钒十骨架.X-射线晶体结构测定表明,这两个化合物均属于三斜晶系,P1空间群.晶胞参数分别为化合物1a=0.86024(4)nm,b=1.04561(5)nm,c=1.12828(4)nm,α=68.833(1)°,β=87.158(1)°,γ=67.065(1)°;化合物2a=0.86511(3)nm,b=1.04549(5)nm,c=1.12446(5)nm,α=69.071(1)°,β=87.145(1)°,γ=66.982(1)°.     

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正关键词:电生自由基约束加成反应·氧化石墨烯D. Chen, Z. Lin, M. M. Sartin, T. X. Huang, J. Liu,Q. Zhang, L. Han, J. F. Li, Z. Q. Tian, D. P. Zhan.Photosynergetic Electrochemical Synthesis of Graphene Oxide, J. Am. Chem. Soc., 2020,142, 6516.电解剥离石墨并同步实现石墨烯功能化是石墨烯产业化挑战性课题.受田昭武先生"约束刻蚀"思想的启发,厦门大学詹东平教授和李剑锋教授采用草酸根离子作为插层离子和共反应剂,有效延长电生OH·的寿命并将其约束在石墨-石墨烯/溶液界面,     

Nd（Cl9O4）3和Er（ClO4）3与α—双（苯基亚砜）甲烷配合物的溶液光谱

研究了Ｎｄ（ＣｌＯ４）３．ｎＨ２Ｏ－ｂｐｈｓｍ［双（苯基亚砜）甲烷］体系和Ｅｒ（ＣｌＯ４）３．ｎＨ２Ｏ－ｂｐｈｓｍ体系的电子光谱。分析了在可见光区内，ｆ－ｆ跃迁的强度和强度参数。并从Ｎｄ＾３＋和Ｅｒ＾３＋的超灵敏跃迁的振子强度和强度参数Ｔ２与配体ｂｐｈｓｍ深度的关系，指出了体系中Ｎｄ与ｂｐｈｓｍ形成１：２．５的物种和Ｅｒ＾３＋与ｂｐｈｓｍ形成１：２的物种。     

Synthesis and Crystal Structure of Tetraimidazolium Dinicotinatooctamolybdate

1INTRODUCTIONPolyoxometallates(POM)areofgreatinterestnotonlyfortheirstructuralvarietybutalsotheirunexpectedproperties[1,2].Theseinorganicanionshavebeenwidelyinvestigatedasdiversascatalysis,biology,medicine,magnetochemistryandmaterialscience[3～7].Thestudiesonthecoordinatedpoly-oxometallateswithorganicligandsmighthelptounderstandtherolesofpolyoxometallatesoncatalysis.Todate,aseriesofoctamolybdateswhichcanbedescribedas[Mo8O26X2]2n－4(nisthenormalchargeofthecoordinatedbaseX)havebeenreport…     

聚合物材料表面化学镀铜的前处理研究进展

聚合物材料表面金属化在通讯、电子、航空航天领域具有重要应用. 化学镀铜是聚合物材料表面金属化的主要技术之一. 聚合物材料表面的前处理直接影响化学镀铜层的结合力及镀层平整度. 本综述详细介绍非导电聚合物材料的种类、组成以及性能, 并概述其表面化学镀铜前处理的研究进展.     

亚硫酸盐无氰电沉积金新工艺及机制

直接以氯金酸作为主盐、 羟基乙叉二膦酸（HEDP）作为镀液稳定剂和镀层细化剂、 结合添加剂, 组成亚硫酸盐无氰镀金新工艺; 研究镀液稳定性、 镀层形态及金电沉积机制。结果表明, HEDP可明显提升镀液稳定性;不含HEDP的亚硫酸盐镀金液中, 镀层呈棒状晶粒并随沉积时间延长而逐渐生长,导致镀层外观随镀层厚度增加由金黄色转变为红棕色。镀液含有HEDP时, 金晶粒形态由棒状转变为棱锥状, 且棱锥状晶粒随沉积时间延长生长速率较小, 镀层厚度为1 μm时仍呈现金外观。电化学实验表明金电沉积不经历成核过程。