新型含氟液晶类化合物的质谱研究

本文报道66个新型含氟液晶类化合物的电子轰击电离质谱(EIMS). 66个化合物分为三个类型, 即炔醚类, 炔酯类和炔类. 并利用MS/MS联用技术和高分辨质谱(HRMS)数据研究了三种不同类型化合物的裂解机理, 并总结其规律性, 结果将有助于未知的类似化合物的结构鉴定 .     

系列同三核铬、锰、铁羧酸配合物的FAB-MS研究

进行了系列同三核羧酸配合物〔Ｍ３Ｏ（Ｏ２ＣＲ）６Ｐｙ３〕Ｘ（Ｍ＝Ｃｒ,Ｍｎ,Ｆｅ;Ｒ＝ＣＨ３,Ｃ２Ｈ５,Ｃ６Ｈ５;Ｘ＝Ｃｌ－,ＣｌＯ４－;Ｐｙ为吡啶）的快原子轰击质谱（ＦＡＢ－ＭＳ）研究。获得了包括配位吡啶在内的完整阳离子峰。在研究其断裂规律时,主要观察到４个系列碎片离子：Ⅰ．〔Ｍ３Ｏ（Ｏ２ＣＲ）ｎ〕＋,ｎ＝６～２;Ⅱ．〔Ｍ３Ｏ（Ｏ２ＣＲ）ｎＯ〕＋,ｎ＝５～１;Ⅲ．〔Ｍ２Ｏ（Ｏ２ＣＲ）ｎ〕＋,ｎ＝３～１;Ⅳ．〔Ｍ２（Ｏ２ＣＲ）ｎ〕＋,ｎ＝４～２。通过对该系列配合物质谱断裂过程的比较和分析,获得了配合物稳定性随金属离子及配体的变化如下：金属离子,Ｃｒ＞Ｍｎ＞Ｆｅ;桥配基,－ＣＨ３ＣＯ２＞－Ｃ２Ｈ５ＣＯ２＞－Ｃ６Ｈ５ＣＯ２;端配基,Ｐｙ＞Ｈ２Ｏ。本研究及先前的工作〔１,８〕还为某些三核铬,铁羧酸配合物在以乙炔加水或加氢为探针反应中存在活性物种：〔Ｃｒ３Ｏ（Ｏ２ＣＲ）３～４〕,〔Ｆｅ３Ｏ（Ｏ２ＣＲ）３〕和〔Ｆｅ３Ｏ－（Ｏ２ＣＲ）Ｏ〕～〔Ｆｅ３Ｏ４〕提供了佐证     

系列异三核铬、锰、铁羧酸配合物的FAB-MS研究

进行了系列异三核羧酸配合物〔Ｍ２Ｍ＇Ｏ（Ｏ２ＣＲ）６Ｐｙ３ 〕Ｘ （Ｍ, Ｍ＇ ＝ Ｃｒ, Ｆｅ,Ｍｎ; Ｒ＝ Ｈ, ＣＨ３, Ｃ２Ｈ５, Ｐｙ＝ 吡啶; Ｘ ＝ Ｏ２ＣＨ, Ｏ２ＣＥｔ, Ｃｌ, ＣｌＯ４）的快原子轰击质谱（ＦＡＢ－ＭＳ）研究, 观察到异三核的２ 类重组反应： 第１ 类生成含有〔Ｍ３〕和〔Ｍ２Ｍ＇〕两种碎片离子, 第２ 类则生成含有〔Ｍ３〕, 〔Ｍ２Ｍ＇〕, 〔ＭＭ＇２〕和〔Ｍ＇３〕等４ 种不同组合的碎片离子。文中初步探讨了进行２ 类重组反应的原因和规律。根据所提出的规律确定了金属离子反应速率的顺序为Ｃｒ ＞ Ｆｅ ＞ Ｍｎ。