共查询到20条相似文献,搜索用时 218 毫秒
1.
超高真空环境中,在云母和富勒烯衬底上蒸镀半连续的Nb和Ag膜,同时对其进行了原位电阻测量.在人为地突然中断蒸镀之后的10min内,仔细研究了样品电阻随时间的自动缓变过程(弛豫).实验发现,Nb/云母和Ag/C60样品的电阻随时间缓慢增加,Ag/云母样品的电阻随时间逐渐减小.样品弛豫的强度与衬底温度和金属膜厚度密切相关.分析表明,衬底上的金属原子徙动会引起金属岛的边际形变以及岛间融合,这是薄膜电阻弛豫的主要原因.电阻弛豫的方向与强度反映了金属膜/衬底系统的界面活性.衬底表面的缺陷也会影响这一弛豫过程.从微观的原子运动和宏观的热力学平衡这两方面描述了弛豫过程
关键词: 相似文献
2.
利用低压MOCVD工艺分别在(001)取向的LaAlO3,SrTiO3和重掺杂硅单晶衬底上制备PbTiO3铁电薄膜,并通过X射线衍射谱对薄膜的微结构进行分析.X射线θ-2θ扫描显示硅衬底上得到了PbTiO3多晶薄膜,另两种衬底上得到了择优取向的PbTiO3薄膜.LaAlO3衬底上的PbTiO3薄膜有a和c两个取向,也就是薄膜中存在着90°畴结构,而生长在SrTiO3衬底上的PbTiO3薄膜中只存在c方向的择优取向.由于薄膜的尺度效应,发现c轴晶格常数与块材相比均缩短.X射线的φ扫描验证了后两类薄膜的外延特性,利用同步辐射的高强度和高能量分辨率用摇摆曲线方法研究了这两种外延薄膜的品质,进一步证明了SrTiO3衬底上的PbTiO3薄膜的单畴特性.利用重掺杂的硅衬底作底电极,测量显示直接生长于硅衬底上的PbTiO3多晶薄膜具有良好的铁电性能
关键词: 相似文献
3.
4.
用深能级瞬态谱(DLTS)和恒温电容瞬态等技术研究了浅杂质注入LEC半绝缘GaAs的γ射线辐照缺陷。在Be-Si共注的LEC半绝缘GaAs中,γ射线辐照引入一电子陷阶E2,并且大大增强了原有的E01(0.298)和E02(0.341)等缺陷,同时明显地瓦解了原有的少子陷阱H03。在单纯注Si的LEC半绝缘GaAs中,γ射线辐阳引进了E'01(0.216),E'02(0.341),E'2,E'4和E'5(0.608)等缺陷。其中E01和E'01是新发现的和γ辐照有关的GaAs缺陷。和低阻衬底同质外延GaAs相比,Be-Si共注LEC半绝缘GaAs具有较低的γ射线辐照缺陷引入率,与此相反,单纯注Si的LEC半绝缘GaAs具有较高的γ射线辐照缺陷的引入率。
关键词: 相似文献
5.
6.
通过制备(YBa2Cu3O7)1-x(V2O5)x(0≤x≤0.15)复合材料,获得了一系列典型的弱连接的颗粒超导体,其中以dR/dT-T关系中呈现出双峰转变为主要特征。第一峰代表晶粒的超导转变,第二峰代表颗粒系统超导长程序的形成。对于具有双峰转变的样品,其临界电流密度一致地符合ic~(1-t)n,n=1.6.这一行为与三维Josephson结网络系统的渗流行为相一致;对于不具有双峰转变的系统,临界电流密度随温度的变化尽管也可以用jc~(1-t)n描述,但是幂指数n明显地大于1.6,且随样品的不同而离散地分布。本文还对产生这种离散的原因进行探索和分析。
关键词: 相似文献
7.
应用传输线理论研究了金属薄膜Salisbury屏的反射率频谱特性,得到了Salisbury屏的反射系数公式和带宽系数的表达式.理论和数值分析表明,Salisbury屏的反射频谱是谐振型的;在谐振频率处,反射率的大小仅与金属薄膜的归一化面电阻α有关,而在其他频率处则取决于α和隔离层波阻抗η2.反射率带宽系数Δ取决于反射率的考察值Γα,η2和α.当α→αc,η2→η0时,Δ取得极
关键词:
Salisbury屏
反射率
频带宽度
金属薄膜 相似文献
8.
采用基于柠檬酸体系的溶胶-凝胶法制备了Pr0.7(Sr1-xCax)0.3MnO3系列的多晶块材, 同时还用脉冲激光沉积技术(PLD)在SrTiO3(100)衬底上外延生长了同一系列的薄膜, 系统研究了它们的晶格结构和电输运行为. 多晶和薄膜样品都具有正交晶格结构, 电输运行为在居里温度TC以上的高温顺磁相都很好
关键词:
0.7(Sr1-xCax)0.3MnO3')" href="#">Pr0.7(Sr1-xCax)0.3MnO3
绝热小极化子模型
双交换作用
Jahn-Teller晶格畸变 相似文献
9.
10.
11.
报道在超声射流冷却条件下用同步辐射VUV光源研究CH2Br2的振动自电离结构.根据测量的105—123nm范围内母体离子(CH2Br2+)的光电离产率曲线,获得CH2Br2的绝热电离势为10.23±0.01eV.CH2Br2+的最低三个电子激发态,即A(2A2),B(2B1),C(2A1)分别位于10.78±0.01eV,11.20±0.01eV和11.27±0.01eV.在115.01—121.15nm范围内,观察到CH2Br2自电离峰叠加在若干台阶结构上,台阶平均宽度为716.8±40.0cm-1,对应于CH2Br2+(X2B2)中Br-C-Br反对称的伸缩振动(v9),所有的峰均归属为收敛于CH2Br2+(X2B2,v+)振动能级的ns,np和nd自电离Rydberg态.此外,对CH2Br2光解离电离产生离子型自由基CH2Br+(X)的光电离产率曲线的结构也进行了归属
关键词: 相似文献
12.
在较宽的温度(4.2-80K)和磁场(0-8T)范围内测量了YBa2Cu3O7-δ和Y0.9Eu0.1Ba2·Cu3O7-δ样品的磁滞回线和磁弛豫,研究了其M(t),Jc(T)和Ueff(J)关系,并与现有的一些理论模型所预言的结果进行了比较。结果表明:(1)与YBa2Cu3O7-δ相比,Y0.9Eu0.1·Ba2Cu3O7-δ样品的有效钉扎势和无磁通蠕动时的临界电流密度有明显提高,表明Eu的部分替代引入了新的、具有更大的钉扎势的钉扎中心;(2)与其它模型相比,集体钉扎——蠕动理论对我们的实验结果作了更好的描述,因而本文为这一理论提供了新的实验证据。
关键词: 相似文献
13.
14.
15.
16.
W. Ludorf X. Z. Wang D. Bäuerle 《Applied Physics A: Materials Science & Processing》1989,49(2):221-223
Superconducting films of Bi-Sr-Ca-Cu-O on (100) MgO substrates have been fabricated by XeCl-excimer-laser sputtering from ceramic targets of Bi2.5Sr2Ca2Cu3Oy in O2 atmosphere. The films were polycrystalline with the c-axis (30.80±0.02Å) preferably oriented normal to the substrate surface. Without post-annealing the films showed metallic resistance behavior with zero resistance temperatures of up to Tc(0) }- 79 K. The critical current density of the films had values of up to jc(50K)}- 104 A/cm2. 相似文献
17.
本文对三氯乙烯(TCE)氧化推迟SiO2膜的破坏性击穿及其机理进行了研究。结果表明,随着TCE流量的增大、处理时间的增加、温度的升高和氧分压的降低,SiO2膜的击穿电流耐量增大。但过大的TCE流量和过长的处理时间,将使击穿特性变坏。结果还表明,击穿电流耐量的增大与膜内电子陷阱密度的增大有关。文中提出包括三种恶性循环在内的“低势垒点-电场增强”击穿模型,并考虑氧化气氛中的H2O对击穿特性的影响,引入电子陷阱抑制低势垒点-电场增强的作用,分析T
关键词: 相似文献
18.
19.
Electron field emission properties of tetrahedral amorphous carbon films (ta-C) with various sp3 fractions, [sp3]/([sp2]+[sp3]), prepared by magnetic filtered plasma deposition system, were investigated. The ta-C films were deposited on (100) n-Si wafer with a resistivity of 0.01–0.02 cm in a substrate bias voltage Vb range from +20 V to -80 V. The relative fraction of sp3-bonded carbon in these films was qualitatively and quantitatively estimated by a fitting of the Raman and XPS spectra, respectively. Results show that ta-C films of high sp3 fraction, more than 80%, can be formed with a substrate bias voltage Vb in the range from -10 to -50 V. A remarkably low turn-on field of about 1.7 V/m was observed for these samples. For Vb outside this range, the sp3 fraction is lower. The surface of such ta-C films was found to be smooth and uniform from the images of atomic force microscopy. The sp3 fraction of the sample is believed to be the main factor affecting field emission properties of ta-C films. PACS 79.70; 78.30; 73.90.+f 相似文献