| 薄栅氧化层0.25μm RF PDSOI NMOSFETs电离总剂量辐照效应研究 |
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| 引用本文： | 刘梦新,韩郑生,毕津顺,范雪梅,刘刚,杜寰.薄栅氧化层0.25μm RF PDSOI NMOSFETs电离总剂量辐照效应研究[J].半导体学报,2009,30(1):014004-7. |
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| 作者姓名： | 刘梦新 韩郑生 毕津顺 范雪梅 刘刚 杜寰 |
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| 作者单位： | 中国科学院微电子研究所，北京 100029;中国科学院微电子研究所，北京 100029;中国科学院微电子研究所，北京 100029;中国科学院微电子研究所，北京 100029;中国科学院微电子研究所，北京 100029;中国科学院微电子研究所，北京 100029 |
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| 摘 要： | 本文研制了一种与0.1μm SOI CMOS工艺兼容的射频PD SOI NMOSFET，并分析了电离总剂量辐照对四种不同结构射频器件的静态特性和频率特性的影响，分别包括前/背栅阈值、泄漏电流、跨导，输出特性以及交流小信号电流增益和最大有效/稳定增益。实验表明，在室温环境下经过总剂量为1Mrad(Si)的g射线辐照，所有的射频PDSOI NMOSFET的静态和射频特性均表现出明显退化，其中以浮体NMOSFET变化最大。虽然损失了部分驱动电流、开关速度和高频特性，LBBC型体接触结构的射频器件仍表现出优于GBBC和BTS型体接触结构的射频器件的抗电离总剂量辐照的能力。
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| 关 键 词： | 部分耗尽SOI 电离总剂量辐照 射频 |
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