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高压MOSFET直流特性宏模型的建立与参数优化
引用本文:许佳宜,石艳玲,任铮,胡少坚,万星拱,丁艳芳,赖宗声.高压MOSFET直流特性宏模型的建立与参数优化[J].半导体学报,2008,29(8).
作者姓名:许佳宜  石艳玲  任铮  胡少坚  万星拱  丁艳芳  赖宗声
作者单位:1. 华东师范大学信息学院电子系,上海,200062
2. 上海集成电路研发中心,上海,201203
基金项目:国家自然科学基金,上海市科委资助项目,上海市应用材料研究与发展项目
摘    要:分析了SPICE BSIM3模型对高压双扩散漏MOSFET(HV double diffuse drain MOSFET)模拟过程中产牛的较大偏差,有针对性地提出一种由nMOSFET,MESFET,二极管等常规SPICE器件组成的高压晶体管宏模型.该宏模型结构简单、使用方便,能准确描述HVMOS的I-V特性.为了提高该模型的尺寸可缩放性(scalability),将MESFET阈值电压对体电压的敏感因子K1进行优化,提取了不同沟道尺寸(W/L)下K1取值的半经验公式,使该宏模型能够适用于不同尺寸的晶体管,大大提高了它的实用价值.该尺寸可缩放宏模型(scalable macromodel)能应用于基于SPICE模型的各种通用EDA软件.

关 键 词:高压双扩散漏MOS晶体管  MESFET  尺寸可缩放宏模型  SPICE模型

A Macromodel and Parameter Optimization for the I-V Characteristics of High-Voltage MOSFETs
Xu Jiayi,Shi Yanling,Ren Zheng,Hu Shaojian,Wan Xinggong,Ding Yanfang,Lai Zongsheng.A Macromodel and Parameter Optimization for the I-V Characteristics of High-Voltage MOSFETs[J].Chinese Journal of Semiconductors,2008,29(8).
Authors:Xu Jiayi  Shi Yanling  Ren Zheng  Hu Shaojian  Wan Xinggong  Ding Yanfang  Lai Zongsheng
Abstract:
Keywords:
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