挖掘机柴油机燃油供油管改进

<正>1.故障现象为使柴油机能够输出额定功率,需将燃油的进油阻力控制在一定范围内。在对1台大型挖掘机样机进行调试时,调试人员发现该柴油机无载荷、空转时转速正常,挖掘机作业或重载荷时转速下降,挖掘机动作缓慢、无力。2.故障排查根据经验,挖掘机作业或重载荷时柴油机重负荷时掉速且不持续排放黑烟,多是燃油供给不足所致。因此我们将排查重点放在了该挖掘机燃油系统上。     

对苯二酚在金、银纳米粒子修饰的玻碳电极上电化学响应的比较

制备了柠檬酸钠保护的金和银纳米粒子,并用自组装法制备了金和银纳米粒子修饰的玻碳电极,在近中性的磷酸缓冲溶液中,比较研究对苯二酚在金和银纳米粒子修饰玻碳电极上的电化学响应情况。结果表明金和银纳米粒子均对对苯二酚的电氧化过程具有优越的电催化效果;与银纳米粒子修饰电极相比,金纳米粒子修饰电极表现出了良好的稳定性;对苯二酚在金纳米粒子修饰玻碳电极上的电化学反应是受扩散控制的。     

HCl-（NH4）2S2O8体系抛光液中钌的化学机械抛光研究

金属钌(Ru)有可能作为集成电路中铜互连阻挡层材料,作为阻挡层必须具有低的表面粗糙度。化学机械抛光技术已经成为集成电路制造中实现局部平面化和全局平面化的关键技术,因此对钌的化学机械抛光研究具有重要意义。利用自制抛光液,研究了在HCl-(NH4)2S2O8体系抛光液中盐(KCl)的浓度、络合剂浓度、pH值和抑制剂(BTA)等对钌的去除速率的影响。实验发现,在HCl-(NH4)2S2O8体系抛光液中,金属钌在1wt.%SiO2、1wt.%过硫酸铵、1wt.%酒石酸、1mmol/L BTA和10mmol/L KCl,pH值为9.0的抛光液中,抛光速率为10.8nm/min。电化学实验发现,在1wt.%SiO2、1wt.%过硫酸铵、1wt.%酒石酸、1mmol/L BTA和1mmol/L KCl,pH值为4.0的抛光液中,金属钌表面化学反应受抑制;在1wt.%SiO2、1wt.%过硫酸铵、1wt.%酒石酸、1mmol/L BTA和1 mmol/L KCl,pH值为9.0的抛光液中,金属钌表面钝化膜较致密、较厚。     

纳米碳化硅抛光液的制备及其对蓝宝石晶片抛光性能的研究

制备了一种纳米SiC抛光液,用透射电镜观察其粒子形貌,通过纳米粒度仪研究了分散剂种类对悬浮液中SiC的粒径分布和Zeta电位的影响,并用制备的抛光液对蓝宝石晶片进行化学机械抛光。使用原子力显微镜观察蓝宝石晶片抛光后的表面形貌。结果表明:SiC磨料在以十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)作为分散剂的悬浮液中分散效果最好;在相同试验条件下,采用质量分数1%的SiC抛光材料的去除速率最大,为24.0 nm/min,获得蓝宝石晶片表面质量较好,表面粗糙度R a为2.2 nm。     

采用改进的面粉灰分测定法

我们知道，面粉灰分的测定是鉴定面粉品质优劣的重要指标之一。它对指导加工、提高面粉品质具有重要意义。过去我们常用550C灼烧法和850C灼烧法。前者适用于结果准确度高的灰分测定，操作方法简便，但测定时间长。850C法适用于快速灰分的测定，准确度差些。在面粉厂，为能及时指导生产，可采取减少试样，增大灼烧容器面积等办法，来加速灰分的测定。现将目前采用的一种快速方法介绍如下，仅供参考。1仪器用品1．140毫升平顶增朗盖（直径约为52毫米去掉盖环，磨平洗净，烘干备用）；1．2小毛刷一把；1．3SDX80毫米描图纸一张；其它仪器与8…     

水杨酸体系抛光液中钌的化学机械抛光研究

研究了抛光液中H2O2和水杨酸浓度对钌的抛光速率的影响。采用电化学方法和X射线光电子能谱分析了H2O2和水杨酸对金属钌腐蚀效果的影响;采用原子力显微镜观察钌表面的微观形貌。结果表明:水杨酸浓度的增加有利于金属钌表面钝化膜的形成,抛光速率值随之增加;随着H2O2浓度的不断增加,抛光速率不断增加,当H2O2质量分数大于3%时,抛光速率值随浓度的增加而降低。抛光后的金属钌表面平均粗糙度Ra为7.2 nm。     

遥感影像共享应用的一个设想

鉴于遥感影像和遥感技术共享应用程度低的现状，本文提出在国际互联网络上建立共享应用平台的构想。通过应用地理信息系统技术和网络技术，以网站的形式来实现图层叠加和影像的显示，采用专门开发的WebGIS软件，为用户提供影像上任意一点多元地理信息，以辅助用户对影像判读和解译，并进一步实现图斑勾绘和专题图制作。目的是推进遥感技术的普及应用。本文还对这一设想所引出的问题进行了探讨和分析。     

Investigation of CMP of Ni in the Preparation Process of Micro-Electro-Mechanical System Devices

利用自制的抛光液对高纯镍片进行化学机械抛光,研究化学机械抛光过程中抛光压力、pH值、H2O2浓度、络合剂种类及其浓度、SiO2浓度等参数对抛光速率的影响。结果表明在抛光压力为13.79kPa、H2O2浓度为0.5%,pH值为3.0,SiO2浓度为0.5%,络合剂EDTA及其浓度为1%时,得到最大抛光速率为312.3nm/min;在抛光压力为13.79kPa、pH值为4.0、SiO2浓度为1%、络合剂EDTA为1%、H2O2浓度为1%条件下抛光得到的镍片表面质量较好,表面粗糙度Ra达到5nm。并利用电化学手段研究了镍片在抛光液中的溶解与钝化行为。     

Acetic acid gas sensors based on Ni2+ doped ZnO nanorods prepared by using the solvothermal method

Ni²⁺-doped ZnO nanorods with different doping concentrations are prepared via the solvothermal method. The doped ZnO nanorods are characterized by X-ray diffraction (XRD) and scanning electron microscopy (SEM), respectively. The amount of Ni²⁺ ions that enter the lattice of ZnO increases with increasing the Ni²⁺/Zn²⁺ molar ratio when the molar ratio of Ni²⁺/Zn²⁺ in the starting solution is lower than 3% and does not change obviously if the mole ratio of Ni²⁺/Zn²⁺ in the starting solution is in the range of 3-10 mol%. The effect of Ni²⁺ doping on the gas-sensing properties is investigated. The results reveal that the amount of Ni²⁺ has a great influence on the response (R_a/R_g) and the gas-sensing selectivity. The sensor based on 1 mol % Ni²⁺ doped ZnO nanorods (120 ℃, 10 h) exhibits a high response to acetic acid vapor, in particular, the responses to 0.001 ppm and 0.01 ppm acetic acid vapor reach 1.6 and 2, respectively. The response time and the recovery time for 0.001 ppm acetic acid are only 4 s and 27 s, respectively.     

锇在甲酸体系抛光液中化学机械抛光研究

基于金属锇有可能成为大规模集成电路铜互连扩散阻挡层新材料,利用自制的甲酸(HCOOH)体系抛光液对金属锇进行了化学机械抛光研究,利用原子力显微镜(AFM)观察抛光后锇的表面形貌。采用电化学分析方法研究双氧水(H2O2)、HCOOH和苯丙三氮唑(BTA)对样品腐蚀效果的影响。结果表明:当抛光液中仅含H2O2时,金属锇表面腐蚀不明显;而在H2O2-HCOOH体系中,H2O2浓度的增加可使金属锇表面的腐蚀速度明显加快,但不利于金属锇表面钝化膜的形成;缓蚀剂BTA的加入促进了金属锇表面钝化膜的生成,降低了抛光速率,但同时提高了金属锇的表面质量,表面粗糙度Ra由8.0 nm降低到4.2 nm。