首页 | 官方网站   微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   20篇
  免费   0篇
工业技术   20篇
  2003年   1篇
  2002年   1篇
  2000年   2篇
  1999年   1篇
  1994年   2篇
  1993年   1篇
  1990年   4篇
  1988年   1篇
  1987年   2篇
  1985年   1篇
  1983年   3篇
  1981年   1篇
排序方式: 共有20条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1.
本试验研究了电解液组成及某些添加剂对铅电极极化和电解液导电率的影响。实验室试验表明,高锑铅可以在适当条件下顺利地进行电解精炼。在实验室电解槽中获得了致密、平整和光滑的阴极沉积物。文中给出了电流效率和比能耗。  相似文献   
2.
<正> 一、引言 在酸性亚铜氯化物溶液中进行钢电解精炼,具有节能潜力大,HCl、NaCl等试剂价廉且易得、无毒害,可在较高有效电流密  相似文献   
3.
在 Cu(I)-NaCl-HCl-H_2O 系中,用线性电位扫描法研究了亚铜氯化物络离子的阴极过程。在亚铜氯化物浓度恒定的条件下通过实验获得了平衡电位和交换电流密度与游离氯离子浓度间的关系,据此确定了在氯化钠浓度高的条件下,溶液中主要的亚铜氯化物络离子为 CuCl_3~(2-),而直接在阴极上放电的络离子则为 CuCl_((aq))。因此阴极还原机理可以表示为:CuCl_3~(2-)CuCl_((aq))+2Cl~-CuCl_((aq))+e→Cu+Cl~-  相似文献   
4.
试验研究了银-铜复合金属废料在含有过氧化氢的硫酸溶液中浸出时,溶液酸度、氧化剂浓度及温度对溶铜速度的影响。经测定,铜溶解反应的表观活化能为36.76kJ/mol。因此,这反应是由扩散步骤和化学反应步骤共同控制。试验中还应用电化学法测定了铜的腐蚀速度。  相似文献   
5.
常压歧化铜粉的物理与化学性能研究   总被引:4,自引:0,他引:4  
本文就采用常压歧化法制得的微细铜粉的形貌、颗粒线尺寸、粒度分布、松装密度、摇实密度、化学成分、抗氧化性能,及其在烧结过程中的行为等物理与化学性能进行了测定与探讨。结果表明,在优化条件下所得微细铜粉性能完全符合电子浆料用铜粉的要求。  相似文献   
6.
铜氨水系中一价铜氨络离子的氧化   总被引:3,自引:1,他引:2  
微细铜粉是可替代贵金属生产电子浆料的重要原材料。在常压铵盐歧化工艺生产微细铜粉过程中, 制取一价铜氨络离子溶液是关键步骤, 而一价铜氨络离子在空气中极易被氧化。借助Cu( Ⅱ)/Cu( Ⅰ) 电对氧化还原电位的测定来获知不同时刻一价铜氨络离子的浓度, 研究了一价铜氨络离子的氧化速度及其影响因素。实验表明:溶液温度越低、气相中氧分压愈小、NH3·H2O 浓度越大以及NH+4 的加入均有利于阻缓一价铜氨络离子的氧化。  相似文献   
7.
硫酸介质中2-乙基己基膦酸单(2-乙基己基)酯萃取镁的机理   总被引:2,自引:0,他引:2  
研究了用2-乙基己基膦酸单(2-乙基己基)酯-仲辛醇-磺化煤油组成的有机相从硫酸介质中萃取镁的行为, 考察了水相pH值、萃取剂和SO2-4浓度等因素对萃取的影响, 并采用斜率法和红外光谱法确定了萃合物的组成及萃取平衡的机理. 结果表明 镁的萃取随平衡pH值的增大而显著提高, 亦随萃取剂浓度增大而增加, 且与SO2-4浓度无关, 萃取过程的机理为阳离子交换机理, 萃合物为MgA2*3HA, 表观萃取平衡常数KMg=10-6.73.  相似文献   
8.
为了了解WC-Co合金废料在盐酸溶液中使钴选择性溶解的阳极行为,采用了动电位扫描法研究不同的工艺条件对阳极溶解的影响,测定了阳极中钴溶解的控制步骤,并对阳极钝化的原因作了初步探讨。  相似文献   
9.
介绍了熔融碳酸盐燃料电池用材抗腐蚀研究的进展,通过对熔融碳酸盐腐蚀机理和Ni、Ni-Fe合金、Cr以及Ni-Al系金属间化合物在熔碳酸盐中的腐蚀行为的分析,认为Ni-Al系金属间化合物作为熔融碳酸盐燃料电池的结构材料具有广阔的应用前景。  相似文献   
10.
本研究用电位扫描法测定了不同成份铜阳极的极化曲线。研究了阳极组成、温度、电解液成份及各种添加剂对阳极钝化的影响。实验结果表明,随着温度的升高及Cu~(2 )浓度、H_2SO_4浓度的降低,阳极钝化倾向将减弱。添加剂的影响较复杂,须综合考虑其对阴极产品质量和阳极钝化的影响,选择合适的添加剂并确定其用量。本文还根据测得的阳极极化曲线初步探讨了阳极钝化的机理。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司    京ICP备09084417号-23

京公网安备 11010802026262号