CSS法制备CdZnTe薄膜时衬底温度的影响规律

采用近空间升华法(close-spaced sublimation,CSS),以CdZnTe化合物粉料为原料制备了CdZnTe薄膜,采用XRD、SEM、紫外光谱仪等对其进行了性能表征,并研究了不同生长温度对薄膜生长速率、结构、Zn含量和光学特性的影响规律.研究结果表明,薄膜的生长速率随着生长温度的升高而增大,且温度>5...     

CdZnTe薄膜的CdCl2退火及性能表征

采用近空间升华法制备了CdZnTe薄膜,并对其进行CdCl2退火,采用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、紫外光谱仪、I-V测试仪等研究了退火对薄膜表面形貌、成分、结构以及光电性能的影响。结果表明,经过CdCl2退火后薄膜的晶粒尺寸明显增大,晶粒分布更加均匀;XRD分析结果显示,退火后薄膜的最强峰(111)峰的半峰宽变窄,薄膜沿(111)方向的择优取向明显增强;退火后薄膜的光学透过率降低,截止边红移,光学禁带宽度减小;薄膜的电阻率在退火后下降了两个数量级。     

pH值对CBD-CdS薄膜性能的影响

重点考察了化学水浴沉积法(CBD)制备CdS多晶薄膜时pH值对薄膜质量的影响规律.分别采用SEM、XRD、UV光谱仪和台阶仪研究了薄膜的表面形貌、晶体结构、透过率和厚度特征.研究表明,当pH值在8.43～10.09间变化时,薄膜为立方晶型,随着pH值的降低,晶粒出现择优生长,薄膜透过率逐渐升高,吸收边蓝移,禁带宽度增大.当pH值为8.43时得到的薄膜光学禁带宽度为2.44eV,接近其本征值.     

近空间升华法制备CdZnTe厚膜及其性能研究

采用近空间升华法在FTO玻璃衬底上制备CdZnTe多晶厚膜,并采用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、紫外-可见光谱仪、I-V测试仪等对CdZnTe厚膜的表面形貌、成分、结构以及光电性能进行分析表征。结果表明,所制备的CdZnTe膜均匀致密,随生长时间的延长,晶粒尺寸明显增大;不同厚度的CdZnTe膜均表现出沿(111)晶面的择优生长;CdZnTe厚膜的禁带宽度在1.53～1.56eV之间;电阻率在1010Ω.cm数量级,具有较好的光电响应,试制的薄膜探测器可用作计数型探测器。     

控制降温对近空间升华法沉积CdZnTe薄膜形貌与结构的影响

采用场发射扫描电镜和X射线衍射技术研究了生长结束后的降温过程对以近空间升华法生长的CdZnTe薄膜形貌与结构的影响。分析了快速(炉冷,673K以上-8K/min)和慢速(-2K/min)两种降温速率下获得的CdZnTe薄膜的结构与形貌,并考察了降温中是否阻断生长源向薄膜的传质的影响。结果表明,所得到的薄膜均为闪锌矿结构,降温时薄膜的持续生长将抑制晶粒在平面内铺展而使其棱角钝化的趋势,以较慢的速率降温和降温时阻断传质均有利于提高薄膜的致密度,降低粗糙度及薄膜的织构强度。     

核壳型磁载二氧化钛光催化剂研究进展

核壳型磁载TiO2光催化剂是将TiO2沉积在磁性物质上所得到的核壳结构的复合粒子,可以在外加磁场作用下快速、高效地回收,是解决纳米颗粒TiO2分离回收难问题的一个有效途径.总结了近年来在磁载TiO2光催化剂的研究方面科研工作的进展,并提出了对其今后发展趋势的着法.对引入磁核后催化剂活性的变化及其诱因、在磁核与TiO2之间引入SiO2隔离层的作用以及热处理对体系产生的影响进行了较为详细的阐述,同时还介绍了以避免较高温度热处理为目标的低温制备工艺.     

电磁屏蔽涂料中导电填料的研究进展

填料的电磁性能直接影响所制备涂料的电磁屏蔽效能.论述了电磁屏蔽涂料中几种典型填料,即金属填料、非金属填料、复合导电与导磁填料、纳米粉体与纳米纤维填料的研究现状及其国内外最新研究进展,展望了电磁屏蔽材料的发展前景.     

表面活性剂对制备纳米钡铁氧体的影响

在纳米材料制备中加入表面活性剂能够阻止纳米粒子的团聚,起稳定剂和分散剂作用。应用溶胶-凝胶(sol-gel)技术制备纳米钡铁氧体(BaFe12O19),对不加表面活性剂及加入表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)、Triton X-100进行对比实验,讨论加入表面活性剂对试样的影响。采用红外光谱仪、X-射线衍射仪、振动样品磁强计以及场发射扫描电子显微镜对凝胶的组成,样品的晶型、磁性能、粒径分布及显微结构进行表征。研究结果表明,表面活性剂CTAB、Triton X-100的加入使产物的粒径趋于细化,且样品的磁性能有一定的提高,其中表面活性剂Triton X-100的作用更为明显。加入表面活性剂Triton X-100后制得的样品粒径分布均匀,大约分布在40~70 nm之间,饱和磁化强度(Ms)为67.80 Am2/kg,剩余磁化强度(Mr)为41.21 Am2/kg,矫顽力(Hc)为454.55 kA/m。     

化学镀镍钨磷合金废液的再生研究

比较了氧化钙/乙酸钙用量与亚磷酸根去除率的影响,研究了以乙酸钙为沉淀剂,反应时间、反应温度以及静置时间与亚磷酸根去除率的关系。分析了新配液与再生液的主要成分,通过扫描电镜对比了新配液与再生液的施镀效果。结果表明,乙酸钙处理后的再生废液的施镀效果较好,得到的镀层光亮、均匀。实验得出的最佳工艺条件为:乙酸钙用量2g/(50mL),反应时间100min,反应温度50℃,静置时间12h。     

化学镀镍铜磷废液的再生

1 前言 导电玻璃纤维是玻璃镀金属技术与玻璃纤维表面处理技术相结合而开发的产品,它是用化学镀技术在纤维表面镀上合金,使其具有特定的功能.镀金属导电玻璃纤维导电性好、密度低、成本低,易于与树脂结合,是一种优良的导电填料,应用于电磁屏蔽或吸波材料.