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1.
刘强  陈焘  黄栩 《城市住宅》2018,(7):105-107
通过分析厦门轨道交通1号线城市广场站~塘边站区间地表降水引起的地层沉降数据,表明隧道降水施工对地表沉降的影响很大,在隧道周边存在对地表沉降敏感的建(构)筑物时应谨慎采取地表降水措施,建议优先采取洞内帷幕注浆止水方式。  相似文献   
2.
磁控溅射防锈MoS2薄膜沉积工艺研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
介绍了磁控溅射制备防锈MoS2薄膜的沉积工艺,同时对影响膜层性能的几个因素进行了初步的探讨,并且制备了防锈性能优良的MoS2薄膜样品。  相似文献   
3.
研究了不同于台阶形式的具有连续浮雕结构的衍射聚光透镜的激光直写工艺,简要描述了光致抗蚀剂的曝光和显影,对激光直写工艺的机理和工艺过程进行阐述.利用CLWS-300W/C极坐标激光直写设备制作出了具有良好面形微结构和较高衍射效率的连续型衍射透镜.研究表明,激光直写技术直写精度高,加工工艺灵活,利用计算机的控制,能够根据光学设计产生的浮雕分布数据制作复杂的、任意形状和外形的微型浮雕结构,非常适合于高精度微光学元件的加工制作.  相似文献   
4.
基于复杂网络的JDK代码结构演化研究   总被引:2,自引:0,他引:2       下载免费PDF全文
软件系统日趋大型化和复杂化使得软件系统的结构可以用复杂网络来表示,研究表明,大规模软件系统结构表现出复杂网络的各项特征如小世界效应和无标度特性等,复杂网络成为理解软件系统结构和演化的重要方法之一.本文定义了一种针对Java程序的网络拓扑图,为JDK构造复杂网络,并统计其度分布标度指数、平均距离、平均簇系数等网络特征.同时研究这些特征随JDK版本的变化,提出了一个基于模块的演化模型,并对JDK的版本演化进行模拟.实验结果表明JDK具有复杂网络的各项特征,是一个复杂网络,并且与一般复杂网络的演化模型不同,其演化模型具有软件系统的特征--模块化,能与软件系统演化的实际相符合.  相似文献   
5.
掺杂SB2O3/Au对MoS2 溅射膜抗氧化性能的影响   总被引:1,自引:1,他引:0  
陈焘  郭等柱 《真空与低温》2000,6(4):195-200
利用X射线光电子谱仪(XPS)对MoS2溅射膜掺杂Sb2O3/Au的抗氧化性能进行了研究。结果表明,Sb2O3/Au使得MoS2溅射膜的结构9变得更为致密,同时还改变了MoSx的化学计量配比,增强了MoS2溅射膜的抗氧化性能,通过掺杂的MoS2溅射膜的初始氧化以及在潮湿环境中的氧化只发生在膜表面的2~3个分子层,使得内层被保护得相当好,掺杂是解决MoS2溅射膜气氧化问题的一种行之有效的方法。  相似文献   
6.
基于身份密码的安全电子邮件系统   总被引:1,自引:1,他引:0       下载免费PDF全文
针对现有电子邮件系统中的安全性问题,采用基于身份的密码体制和基于内容的过滤扫描技术,构建具有反垃圾/反病毒功能的邮件服务器及具有涉密扫描功能的邮件网关服务器,设计并实现了邮件系统客户端及其必备管理控制中心。系统具有扫描并过滤涉密邮件、加密或解密邮件、签名或认证邮件等功能,能够满足在不可控、动态和松散企业组织成员问的安全通信。  相似文献   
7.
基于复杂网络的大型软件系统度量   总被引:2,自引:0,他引:2  
随着软件系统规模的不断增大,如何度量面向对象大规模软件系统成为一个亟待解决的问题.近年来迅速发展的复杂网络理论为解决该问题提供了一个新的视角.介绍了大规模软件系统中的复杂网络现象,从元素级、模块级、网络级3个不同的粒度提出基于复杂网络的软件系统的各种度量;实现了大型Java程序复杂网络描述和度量工具JPAC.JPAC可用于分析大型Java系统的结构,并计算基于复杂网络的各度量值.  相似文献   
8.
离子束轰击对电子束蒸发制备二氧化钛薄膜应力的影响   总被引:3,自引:2,他引:1  
在硅基底上用电子束蒸发方法制备了二氧化钛薄膜.通过XRD、AFM和薄膜应力测试仪研究了离子束轰击对薄膜应力的影响规律.结果表明沉积温度为323K、沉积速率为0.2nm·s-1时,二氧化钛薄膜具有较小的应力值,平均应力为48.2MPa.用能量为113eV的离子束轰击300s时,平均应力由72.9MPa的张应力变为16.7MPa的压应力.二氧化钛薄膜的微观结构变化是影响薄膜应力的主要因素.  相似文献   
9.
一维光子晶体缺陷模的光谱特性与缺陷模的结构紧密相关.当缺陷模中包含有多个缺陷时,将导致光子禁带中出现多个分立的缺陷能级,形成多个透射光通道.利用一维光子晶体缺陷模这一光谱特性设计了红外谱段的三通道光子晶体器件.  相似文献   
10.
离子束辅助沉积和真空退火对硫化锌薄膜应力的影响   总被引:1,自引:1,他引:0  
在硅基底上用电子束蒸发方法制备了硫化锌薄膜.通过XRD和薄膜应力测试仪研究了离子束辅助沉积和真空退火对硫化锌薄膜应力的影响规律.结果表明,未采用离子辅助技术制备的硫化锌薄膜为压应力,平均应力值为110.6 MPa,当采用离子束辅助工艺时硫化锌薄膜的压应力增加了62.3MPa.真空退火使硫化锌薄膜的平均应力大约降低了二分之一.硫化锌薄膜的微观结构变化是影响薄膜应力的主要因素.  相似文献   
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