镍基合金激光熔覆层组织特征研究

利用同步送粉法在Q235低碳钢表面激光熔覆了镍基合金涂层.用扫描电镜、X射线衍射仪、能谱仪、显微硬度计对熔覆层的微观组织、物相组成、成分分布及显微硬度进行了测定与分析.结果表明:在激光功率3kW,扫描速度300mm/min,光斑直径3mm等工艺条件下的激光熔覆质量良好,无气孔、裂纹等缺陷,且与基材呈良好的冶金结合;熔覆...     

铝－锂合金中δ’（Al＿3Li）沉淀相时效粗化行为及体积分数的测定

对经固溶处理的二种Ａｌ－Ｌｉ合金（１．９４ｗｔ．％Ｌｉ和２．７５ｗｔ．％Ｌｉ）的时效过程进行了研究。结果表明：δ’的生长速率遵从Ｏｓｔｗａｒｄ粗化动力学。１．９４ｗｔ．％Ｌｉ合金δ’产生于时效过程中，而２．７５ｗｔ．％Ｌｉ合金的δ’产生于时效的前期阶段。前者的表现体积分数明显大于根据相图估算的数伍，真实体积分数则与此值接近；后者的体积分数低于根据相图估算的数值，这可能归咎于δ’固相线的位置、统计学误差及Ｌｉ更易在时效过程中贫化。     

电刷镀镍–钨–二硫化钼复合镀层的组织和耐摩擦磨损性能

采用复合电刷镀工艺在2Cr13不锈钢基材上制备了Ni–W–纳米MoS_2复合镀层。采用扫描电镜、显微硬度计和摩擦磨损试验机对镀层微观形貌、显微硬度和耐摩擦磨损性能进行分析。结果表明:与Ni–W合金镀层相比,Ni–W–纳米MoS_2复合镀层的表面更加平整、致密,显微硬度较低,耐摩擦磨损性能较优。随镀液中Mo S2纳米颗粒质量浓度的增大,复合镀层的摩擦因数小幅下降,磨损量先降后升。当镀液含20 g/L MoS_2时,所得Ni–W–纳米MoS_2复合镀层的综合性能最优。     

同基合金离子镀技术展望

阐明了同基合金离子镀的工艺特点及其优越性,这种工艺方法不仅可使金属表面离子合金化实现工业生产,而且可以用于贵重磨损件的修复热处理.     

H62/Cu同基合金磁控电弧离子镀镀层显微组织

用扫描电子显微镜和能谱仪对H62/Cu同基合金磁控电弧离子镀镀层进行了研究.结果表明,电弧离子镀电流对镀层晶粒尺寸有较大影响,弧电流较小时镀层晶粒较细,而弧电流较大时镀层的晶粒粗大.镀层主要由3部分组成:过渡层(伪扩散层 真扩散层)、细晶层和蘑菇状晶粒层.镀层中铜、锌元素分布不均匀,造成这种现象的原因与铜、锌的熔点及其离子的电离能有关.     

同基合金离子镀技术展望

阐明了同基合金离子镀的工艺特点及其优越性，这种工艺方法不仅可使金属表面离子合金化实现工业生产，而且可以用于贵重磨损件的修复热处理。     

离子表面改性技术的回顾与前瞻

简要回顾了化学气相沉积、离子镀及离子化学热处理等表面改性技术的发展历程，指出了它们的优缺点及技术上的改进；并对近年来新开发的同基合金离子镀进行了扼要推介。     

纯铜双层辉光离子渗钛组织形成机理及性能分析

采用双层辉光离子渗金属技术对纯铜进行了渗钛处理。用配有能谱仪(EDS)的扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪和透射电子显微镜对合金层的显微组织形貌、钛含量分布、相组成及相结构类型进行了观察与测定，对合金层的形成机理进行了探讨，并对其性能进行了对比测定。结果表明：渗钛层由合金层和扩散层组成，合金层主要由TiCu (Cu)固溶体 TiCu4构成，TiCu4为Dla型有序相，TiCu为B2型有序相，扩散层为(Cu)固溶体。渗钛处理后纯铜的表面得到显著强化。     

纯铜双层辉光离子渗镍研究

介绍了采用双层辉光离子渗金属技术在纯铜表面制备Cu-Ni合金层的新方法,讨论了Cu-Ni合金层的组织、成分和性能特点,分析了辉光放电条件、源极溅射率及表面金属势对Cu-Ni合金层形成过程的影响.试验结果表明渗层厚度及渗层质量与辉光放电条件有关,在保证渗金属温度的前提下,应尽可能提高源极电压,降低试件电压.此外,该工艺还具有渗速快、效率高、无污染等优点.