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1.
圆形平面磁控溅射靶的设计   总被引:3,自引:1,他引:2  
本文提出一种设计圆形平面磁控溅射靶的《等效电流磁场计算法》,实测证明,用该法计算的磁感应强度B的分布及其规律可以作为设计圆形平面磁控溅射靶的依据。如靶的几何参数、永久磁铁的剩磁、靶──基片距离、靶与周围零件的设置及屏蔽罩的安装位置等。由于掌握了磁感应强度B的分布及大小,因而可方便地确定诸如电压、功率、气压等参数。 为改善圆形平面磁控溅射靶的性能,提高靶材利用率,本文还介绍了三种改进型靶的设计方案。  相似文献   
2.
浅述真空冷冻干燥机设计与计算   总被引:1,自引:0,他引:1  
徐成海  关奎之 《真空》1990,(6):23-29
本文讨论了真空冷冻干燥机的总体方案、真空系统、制冷系统、加热系统的设计与计算方法。  相似文献   
3.
关奎之 《真空》1997,(6):42-46
第七讲:真空检漏关奎之(东北大学)二、检漏仪器(接1997年第5期第44页)用于检漏的仪器有氦质谱检漏仪、卤素检漏仪、高频火花检漏器、气敏半导体检漏仪及用于质谱分析的各种质谱计。这里主要介绍氦质谱检漏仪、卤素检漏仪、高频火花检漏器的工作原理、结构及国...  相似文献   
4.
第七讲:真空检漏   总被引:1,自引:0,他引:1  
关奎之 《真空》1997,(5):42-44
第七讲:真空检漏关奎之(东北大学)一、概述1.概漏的基本概念真空检漏就是检测真空系统的漏气部位及其大小的过程。漏气也叫实漏,是气体通过系统上的漏孔或间隙从高压侧流到低压侧的现象。虚漏,是相对实漏而言的一种物理现象。这种现象是由于材料放气、解吸、凝结气...  相似文献   
5.
一、前言 随着我国科学技术的发展,真空技术的应用日趋广泛。仅就冶金工业来说,为了熔炼各种合金钢及提高钢的质量,曾先后从国外引进许多各种大型真空熔炼设备和钢液炉外精炼设备;国内也自行设计制造了一些真空熔炼设备。从引进设备看,真空过程自动化程度都比较高,如水蒸汽喷射泵、罗茨真空泵及阀门等都由压力传感元件(又称真空继电器)进行自动连锁控制,由于压力传感元件的失灵(或损坏),就被迫将自动改为手动,严重的影响生产。为了解决引进设备的配件和国内设备的需要,真空继电器科研组开展了压力传感元件的研制工作。 二、工作原理及组成 …  相似文献   
6.
角膜真空冷冻干燥实验的传热传质分析   总被引:3,自引:0,他引:3  
为保持角膜在真空冷冻干燥(以下简称冻干)过程中的活性,减少其内皮细胞的损伤,本文分析了冻干实验中前处理、预冻、干燥和复水检测等过程中,传热传质规律对角膜内皮细胞造成损伤的原因,在改进工艺参数的基础上,成功的冻干了合格的角膜。  相似文献   
7.
在真空检漏元件的灵敏度满足需要的前提下,真空检漏系统直接影响检漏的准确性和可靠性。本文分析了真空检漏的基本原理、有关响应的数据和图线,提出了有关真空检漏系统几个参数的探讨意见。 一、试件处真空检漏方程式 1.检漏方程式 一般的真空检漏系统如图1所示。设试件的总漏率为Q托·升/秒,而某个漏孔漏率为q/托·升/秒,该漏孔对示气和空气漏率比为 k,扩散泵对示气和空气抽速之比为n1(n1=S示/S)。当示气对准漏孔q施气时,系统中空气和示气的压力均将变化。若检漏器对示气和空气的灵敏度之比为f,则检漏器所显示的总压力读数为 P=P1+fP2( …  相似文献   
8.
矩形平面磁控溅射装置中存在着诸如磁场、电场、气压、靶材、基片温度及速度、几何结构等参数间的相互影响,并且最终决定了沉积薄膜的性能。为了方便矩形平面磁控溅射装置的设计,就如下参数进行探讨:磁感应强度的设计与计算;电压、电流和气压的关系;基片温度及速度;膜厚均匀度。  相似文献   
9.
10.
旋转式圆柱形磁控溅射靶的磁场计算   总被引:4,自引:3,他引:1  
关奎之 《真空》1997,(3):5-11
类似于矩形平面溅射靶的磁场和旋转式圆柱形的靶筒组成旋转式圆柱形磁控溅射靶。与常规的圆柱形磁控溅射靶相比较,该旋转式靶提高了靶材利用率和膜厚均匀度。本文介绍了旋转式圆柱形靶的结构和磁场计算方法,给出了计算公式、数据及其特性曲线。强度适度和均匀分布的磁场,保证了溅射靶的工作性能,并为靶结构的设计提供了依据。  相似文献   
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