接近式光刻刻划间隙的确定

接近式光刻刻划间隙的确定＊付永启（中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室长春１３００２２）０前言接近式光刻法是目前常用的光刻方法之一，该方法由于具有效率高、不损伤毛坯感光胶面等优点而被广泛采用，但该方法也有一缺点长期困扰着人们，这就是...     

接近式光刻中刻划间隙对刻线质量的影响分析

用近场菲涅耳理论，分析了接近式曝光法刻制光栅及码盘时，刻划间隙与刻线质量之间的关系；并利用刻线相对对比度的概念给出了确定刻划间歇时应遵循的规律。为实际光刻时的选择最佳刻划间隙提供了一条可靠的依据。     

红外CCD用于火控系统的探测距离确定

本文详细讨论了红外ＣＣＤ用于火控系统其探测距离的确定方法，经实际测试表明，该方法用于探测距离的评估是较为实用的。     

极小刻划间隙下的衍射光强度变化规律分析

讨论了极小刻划间隙下的衍射场光强度分布规律,并以单缝为例分析了当缝宽与波长改变时,相对光强度变化规律,补充和完善了使用普通平行光照明系统时的接近式光刻衍射场理论。     

CCD在测速中的应用

详细介绍了CCD测速原理及实现方法,经实验验证该方法是完全可行的,从而为动态测速提供了一条新的途径。     

衍射光学元件制作技术及未来展望

回顾了衍射光学元件(DOE)制作技术的发展过程,介绍了未来制作技术的发展以及元件演变的未来趋势。     

SiO2-PMMA无机-有机复合材料的制备与结构研究

应用溶胶－凝胶技术,采用预掺杂的方法,制备了SiO2-PMMA无机－有机复合材料（ORMOSILS）。应用红外光谱分析、广角X射线衍射、扫描电子显微镜分析、差示扫描分析和热失重分析,对SiO2-PMMA无机－有机复合材料（ORMOSILS）的显微结构进行了研究。结果表明：这种方法制备的SiO2-PMMA无机－有机复合材料（ORMOSILS）,有机物均匀分布在无机物基体中,非晶基体SiO2短程有序畴的大小与一般非晶玻璃短程有序畴的大小基本一致等结论。     

提拉法涂胶的力学分析与模拟

用流体力学理论分析了提拉式涂胶过程中胶液的受力流动状态,推导出涂胶厚度与提升速度、胶液粘度等参数的理论关系式。经实际涂胶测定,该关系式反映的变化规律与实际是相符的。     

动态目标发生器圆鼓图形光刻掩模板的研制

本文详细论述了动态目标发生器圆鼓图形光学刻划掩模板的设计思想及其制作过程,经试刻效果良好.为非球面光刻掩模板的制作开创了一条新途径.     

红外CCD用于火控系统的探测距离确定

本文详细讨论了红外ＣＣＤ用于火控系统其探测距离的确定方法，经实际测试表明，该方法用于探测距离的评估是较炙实用的。