高PS材料制备及工艺研究

本文对高膜厚PS材料进行了研究,通过工艺优化,成功在G5线实现了60～120μm的高PS。通过前烘工艺和固化工艺优化调整,得到了无气泡、膜面良好的高PS材料。本文还对曝光量对PS影响进行了研究,发现曝光量低于50mJ时,PS材料无法有效成型;当曝光量达到150mJ时,得到形貌良好,达到设计值的PS。最后还对不同基底高PS材料进行了研究,发现未进行增粘处理时,SiN基底粘附性良好,Mo基底还需继续优化处理。     

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正~~     

β成核剂改性均聚PP非等温结晶动力学研究

用差示扫描量热法对均聚聚丙烯(PPH)和添加β成核剂的PPH(β-PPH)的非等温结晶过程进行了研究,并分别用修正Avrami方程的Jeziorny法、Ozawa法及莫志森法处理非等温结晶过程。结果表明:Jeziorny法和莫志森法均能很好描述PPH和β-PPH的非等温结晶动力学;而采用Ozawa法分析PPH和β-PPH的非等温结晶过程效果不理想。