硅基纳米微粒的激光烧蚀沉积及可见光发射特性

简要介绍了激光烧蚀沉积硅基纳米微粒的基本方法、沉积原理及其可见光发射特性等 ,并对其发展前景作了初步展望。     

尺寸分布优化的硅基纳米材料的制备及其光致发光特性研究

纳米材料尺度的均匀性分布是保证纳米硅材料高效发光的基本要求,而纳米材料尺度分布的不均匀性却是纳米硅材料制备过程中的常见问题.在激光烧蚀沉积纳米硅材料中采用挡板技术和背散射技术提高了材料的尺度分布的均匀性,减少了材料表面的大颗粒,有效改善了材料的发光特性,使材料的发光强度提高,且发光峰的半峰宽变窄.     

超硬纳米多层膜致硬机理研究

本文综述了近年来纳米多层膜界面微结构及超硬效应的研究进展, 表明纳米多层膜硬化的主要机制和位错的运动相关, 晶格错配引起的交变应变场对硬化起次要作用, 模量差异致硬起主要作用. 指出了超硬纳米多层膜研究所存在的问题以及未来的发展方向.     

硅基纳米材料制备技术的新进展

近年,硅基低维材料物理与工艺的研究预示,硅基光电子学将是今后半导体光电子学的一个主要发展方向,而对硅基纳米材料的研究一直是本领域的一个研究热点,评述了近年硅基纳米材料在制备技术方面所取得的新进展,并展望了今后的发展方向。     

纳米材料检测中透射电镜样品的制备

介绍了目前几种适用于纳米材料透射电镜样品制备的方法,如包埋法、改进的胶粉混合法、聚焦离子束法等,并对这些方法的优缺点进行了分析.包埋法和改进的胶粉混合法是可供选择的较好制样方法;对于块状试样,聚焦离子技术是一种精确定位和高效减薄的制样方法.     

Si光子学研究的最新进展

介绍了近年内以全Si光电子集成为主要目标的Si光子学研究在各类Si光子器件,如发光二极管、激光器、光探测器、光调制器以及光子晶体等方面所取得的一些最新进展,预计全Si光电子集成技术有望在未来10年内得到突破性的进展。